「HF」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The soft magnetic film 13 is preferably an FeSiAl film, an Fe film, an FeNi film or an FeCo film and may be a film obtained by adding 0.1-30 at.% one or more elements selected from Ti, Zr, Nb, Hf, Ta and Y to FeSiAl, Fe, FeNi or FeCo.例文帳に追加

前記軟磁性膜が、FeSiAl、Fe、FeNiまたはFeCoに、Ti、Zr、Nb、Hf、TaまたはYのうち、少なくとも一種類以上の元素を、0.1at. %以上、30at. %以下添加した膜であることを特徴とする。 - 特許庁

The total weight of Ni and Co is 15 to 25 mass%, a Ti content is 30 to 50 mass%, a W content is 15 to 30 mass%, and the total content of Ta, Nb, Mo, Hf, V and Cr is 5 to 15 mass%.例文帳に追加

そして、NiとCoの合計量が15〜25質量％で、Tiの含有量が30〜50質量％で、Wの含有量が15〜30質量％で、Ta、Nb、Mo、Hf、VおよびCrの合計含有量が5〜15質量％である。 - 特許庁

An internal height Ht of the heat exchanging tube 7 is 1.2-1.7 mm, a width in the ventilating direction of the heat exchanging tube 7 is 18-24 mm, and a fin height Hf of the corrugated fin 8 is 4.0-6.5 mm.例文帳に追加

熱交換管７の内部高さHtを１．２〜１．７ｍｍ、熱交換管７の通風方向の幅を１８〜２４ｍｍ、コルゲートフィン８のフィン高さHfを４．０〜６．５ｍｍとする。 - 特許庁

An internal height Ht of the heat exchange pipe 7 is 0.7-1.2 mm, a width of the heat exchange pipe 7 along the ventilation direction is 24-30 mm, and a fin height Hf of the corrugated fin 8 is 5.5-8.5 mm.例文帳に追加

熱交換管７の内部高さHtを０．７〜１．２ｍｍ、熱交換管７の通風方向の幅を２４〜３０ｍｍ、コルゲートフィン８のフィン高さHfを５．５〜８．５ｍｍとする。 - 特許庁

A Ca(OH)_2 packed tower 101 holds a Ca(OH)_2 layer 110 on a mesh plate 102, and is provided with an HF-containing gas introducing port at the lower part, and a discharge port of HF-removed gas at an upper part.例文帳に追加

Ｃａ(ＯＨ)_2充填塔１０１はメッシュ板１０２上にＣａ(ＯＨ)_2層１１０を保持したものとし、下部にＨＦ含有ガスの導入口、上部にＨＦが除去されたガスの排出口を設ける。 - 特許庁

The pneumatic tire 1 is to be mounted on the wheel 10 in which the height Hf using the rim diameter R of one of the rim flange parts 11 as reference is greater than the height Hf of the other rim flange part 12.例文帳に追加

また、空気入りタイヤ１は、一方のリムフランジ部１１のリム径Ｒを基準とする高さＨｆが他方のリムフランジ部１２の高さＨｆよりも大きいホイール１０に装着される。 - 特許庁

An interval HF component computing means 8 computes HF components based on the frequency components of intervals of the feature points obtained by the interval frequency analyzing means 6.例文帳に追加

間隔ＨＦ成分算出手段８は、間隔周波数解析手段６によって得られた特徴点の間隔の周波数成分に基づいてＨＦ成分を算出する。 - 特許庁

MPF_6+uHF→PF_5+MF r(HF) (Scheme 1) in the scheme, M is at least any one of Li, Na, K, Rb, Cs, NH_4, and Ag; 0≤r≤u; and the HF is used in an amount not smaller than the stoichiometric amount.例文帳に追加

ＭＰＦ_６＋ｕ ＨＦ→ＰＦ_５＋ＭＦ・ｒ（ＨＦ） （式１）但し、ＭはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，ＮＨ_４，Ａｇの何れか一種以上 ０≦ｒ≦ｕ 式中ＨＦは化学量論以上使用 - 特許庁

To obtain a method and an apparatus for removing HF by a dry process from an HF-containing gas generated continuously and in high volume, and for rendering it harmless, in rendering perfluorocarbon (PFC) contained in an exhaust gas or the like from a semiconductor manufacturing facility harmless.例文帳に追加

半導体製造工場の排ガスなどに含まれる過弗化物（ＰＦＣ）を無害化処理するときに連続的かつ大量に発生するＨＦ含有ガスから乾式法でＨＦを除去して無害化するための方法と装置を得る。 - 特許庁

To effectively implement the removal process of a specific element just after the formation of an Hf-based oxide film, and to improve thermal stability and hence suppress the diffusion of an impurity by mixing nitrogen into the Hf-based oxide film formed in a film formation process.例文帳に追加

Ｈｆ系酸化膜形成直後に特定元素の除去工程を効率的に実施し、さらに、成膜工程で成膜したＨｆ系酸化膜に窒素を混入させて、その熱的安定性を高め、不純物の拡散を抑える。 - 特許庁

To provide an NMR detector in which an interference between an LF coil L1 and an HF coil L2 is avoided by fully separating a resonance frequency of the LF coil L1 from an interfering HF frequency.例文帳に追加

ＬＦコイルＬ１の共振周波数を、干渉するＨＦ周波数から充分に引き離して、ＬＦコイルＬ１とＨＦコイルＬ２との間に干渉の起こらないＮＭＲ検出器を提供する。 - 特許庁

When the wafers 11 and 12 are washed with the solution, an SiF linkage is left on the Si surface, because HF molecules react to an Si-O linkage on the Si surface and the Si-O linkage reacts to other HF molecules.例文帳に追加

洗浄時ＨＦ分子がＳｉ表面のＳｉ−Ｏ結合と反応し、Ｓｉ−Ｏ結合と他のＨＦ分子が反応しＳｉ表面にＳｉＦ結合が残る。 - 特許庁

To provide a reactant for filling a trench which is used for filling silicon oxide in the trench formed in a substrate, with a long pot life for an appropriate solution, high filling capability for the trench, high HF resistance and high crack resistance.例文帳に追加

基体に形成されたトレンチ内に酸化シリコンを埋め込むために使用するのに好適な溶液のポットライフが長く、トレンチへの埋め込み性が高く、HF耐性、クラック耐性を有するトレンチ埋め込み用反応物を提供する。 - 特許庁

This H-shape steel 1 satisfies a condition of 0.48≤Hf/Hw≤0.58 and 1.0≤tw/tf≤1.4 on the web height inner size Hw, the flange leg length Hf, the web plate thickness tw and the flange plate thickness tf.例文帳に追加

このＨ形鋼１は、ウェブ高さ内法Ｈ_w 、フランジ脚長Ｈ_f 、ウェブ板厚ｔ_w 、フランジ板厚ｔ_f について、０．４８≦Ｈ_f ／Ｈ_w ≦０．５８、かつ１．０＜ｔ_w ／ｔ_f ≦１．４の条件を満たすものとする。 - 特許庁

The mixing container 30 mixes the HF solution and pure water discharged from a passage 12b for refilling the HF and a passage 22b for refilling the pure water, and diffuses the mixed solution into the feed tank 13.例文帳に追加

この混合容器３０は、後述するようにＨＦ補充用管路１２ｂ及び純水補充用管路２２ｂから吐出されたＨＦ液と純水とを混合させると共に、供給タンク１３の内部に混合液を拡散させる。 - 特許庁

The etching solution including HF whose concentration is the same as or higher than the concentration of NH_4F by mass reference, or the etching solution in which HF is included but the NH_4F is not included is used in order to form the recess.例文帳に追加

凹部形成のためには、質量基準でＮＨ_４Ｆ濃度と同じか又はより高濃度のＨＦが含まれているエッチング溶液、或いは、ＨＦが含まれＮＨ_４Ｆが含まれていないエッチング溶液を使用する。 - 特許庁

In the second step, the Hf-Si film is irradiated with near ultraviolet light when the Hf-Si film is oxidized and a surface layer portion of the Si substrate is oxidized to form an SiO_2 film 104.例文帳に追加

第２工程において、Ｈｆ−Ｓｉ膜を酸化する際にＨｆ−Ｓｉ膜に近紫外光を照射し、Ｓｉ基板の表層部を酸化してＳｉＯ_２膜１０４を形成する。 - 特許庁

After cushion tables 5b1, 5b2 and the clampers 5c1, 5c2 move downward to strip a protective film HF from the corner parts of the stiffener S, the carrying head 3 moves upward to strip the protective film HF completely from the stiffener S.例文帳に追加

そして、クッション台５ｂ_1 ，５ｂ_2 、およびクランパ５ｃ_1 ，５ｃ_2 が下方に移動し、スティフナＳの角部から保護フィルムＨＦを剥離させた後、搬送ヘッド３を上方に移動し、保護フィルムＨＦをスティフナＳから完全に剥離させる。 - 特許庁

The hard phase is mainly formed of carbonitrides of one or more metals selected from the group consisting of Ti and W, which are indispensable, and Ta, Nb, Mo, Hf, V and Cr.例文帳に追加

また、前記硬質相は、TiとWを必須とし、Ta、Nb、Mo、Hf、VおよびCrよりなる群から選択される１種以上を金属成分とする炭窒化物を主体とする。 - 特許庁

The rotation speed MW is compared with the steering wheel turning indication angle HF, and a chopper duty CD of a chopper circuit in a controller 3 is determined such that the rotation speed MW and the steering wheel turning indication angle HF are equal to each other, thereby controlling the steering motor 4.例文帳に追加

回転角度ＴＷと回転指示角度ＨＦとを比較し、両者が同じになるようにコントローラ３におけるチョッパ回路のチョッパデューティＣＤを決定し、ステアリングモータ４を制御する。 - 特許庁

To provide a radio communication device with an RFID tag function, capable of securing the mounting area of each antenna of an LF band or an HF band and a UHF band as large as possible, and being shared by an LF band or HF band RFID system and a UHF band RFID system having a communication distance equal to a communication distance of each device of the LF band or the HF band and the UHF band.例文帳に追加

ＬＦ帯又はＨＦ帯とＵＨＦ帯との各アンテナの実装面積をできるだけ大きく確保し、ＬＦ帯又はＨＦ帯と、ＵＨＦ帯と、の各単体の通信距離と同等の通信距離を有するＬＦ帯又はＨＦ帯ＲＦＩＤシステムとＵＨＦ帯ＲＦＩＤシステムとに共用可能なＲＦＩＤタグ機能を備えた無線通信装置を得ること。 - 特許庁

The film deposition is carried out by introducing a gas containing HF or a material generating HF gas by a reaction into a treating vessel 11 to purge the inside of the treating vessel with the gas containing HF (ST3), arranging a substrate W to be treated in the treating vessel 11 (ST4) and supplying a film deposition gas into the treating vessel (ST7).例文帳に追加

処理容器１１内にＨＦを含むガスまたは反応によりＨＦガスを生成する物質を導入して、処理容器１１内をＨＦを含むガスでパージし（ＳＴ３）、処理容器１１内に被処理基板Ｗを配置し（ＳＴ４）、処理容器１１内に成膜ガスを供給して成膜処理を行う（ＳＴ６，ＳＴ７）。 - 特許庁

In a mixing apparatus 10, compressed air supplied from a compressed air supply source 24 is supplied to an HF tank 12 to increase the pressure in the upper space of the HF tank 12 and an HF liquid can be supplied to a static mixer 16 in a pulsation-free stable state to be mixed with pure water so as to become uniform concentration.例文帳に追加

混合装置１０は、圧縮気体供給源２４から供給される圧縮気体をＨＦタンク１２に供給してＨＦタンク１２の上部空間の圧力を高めることにより、ＨＦ液を脈動のない安定した状態でスタティックミキサ１６に供給することができ、ＨＦ液と純水とが均一の濃度となるように混合する。 - 特許庁

To provide a separator for a battery having high separator characteristics capable of preventing ignition of the battery caused by high temperature, overcharge, or generation of dendrites, catching water causing the generation of hydrofluoric acid (HF), catching HF even if HF is generated to prevent the capacity deterioration or cycle life deterioration in a secondary battery such as a lithium secondary battery, and provide a battery having high battery characteristics using this separator.例文帳に追加

リチウム２次電池のような２次電池において、高温時、過充電時やデンドライト生成による電池の発火を防止することができ、フッ化水素酸（ＨＦ）の発生の原因となる水を捕捉し、ＨＦが発生した場合でもこれを捕捉し電池の容量劣化やサイクル劣化を防止することができる良好なセパレータ特性を有する電池用セパレータ、及びそれを用いた電池特性が良好な電池の提供。 - 特許庁

PSK (phase shift keying) modulation is widely used in commercial applications for data transmissions and occurs on HF and satellite. 例文帳に追加

位相シフトキーイング(PSK)変調は,データ伝送用の商用アプリケーションで広範に使用され,高周波および衛星通信に現れる． - コンピューター用語辞典

The surface of the silicon wafer is cleaned by using hydrochloric acid (HCl/ozone) or hydrofluoric-acid aqueous solution (HF/ozone) containing ozone.例文帳に追加

オゾンを含む塩酸（ＨＣｌ／オゾン）又はフッ化水素酸水溶液（ＨＦ／オゾン）を用いてシリコンウエーハ表面を洗浄する。 - 特許庁

AZEOTROPE-LIKE COMPOSITION OF 2-CHLORO-3,3,3-TRIFLUOROPROPENE (HCFC-1233xf) AND HYDROGEN FLUORIDE (HF)例文帳に追加

２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＣ−１２３３ｘｆ）およびフッ化水素（ＨＦ）の共沸様組成物 - 特許庁

The mixed material contains hydrogen fluoride (HF) in an amount of more than 2 mol based on 1 mol of the anatase type TiO_2.例文帳に追加

この混合原料は、アナターゼ型ＴｉＯ_２が１モルあたり２モルを超えるフッ化水素（ＨＦ）を含む。 - 特許庁

F_2 is selectively removed from the NF_3 stream without generating oxygen difluoride, HF is removed, and thereafter the nitrogen oxide is removed by adsorption.例文帳に追加

二フッ化酸素を発生することなく該ＮＦ_3流からＦ_2を選択的に除去し、ＨＦを除去し、そしてその後該窒素酸化物を吸着により除去する。 - 特許庁

For example, when hydrofluoric acid (HF) is used as an acid liquid, fluorine ion (F^-) is removed by the ion removal filter 115.例文帳に追加

例えば、酸性液体としてフッ酸（ＨＦ）を用いた場合には、イオン成分除去フィルタ１１５によりフッ素イオン（Ｆ^−）が除去される。 - 特許庁

In the second step, the Hf-Si film is oxidized using oxygen activated using plasma excitation, photoexcitation, or ozone supply.例文帳に追加

第２工程では、プラズマ励起、光励起またはオゾン供給を用いて活性化された酸素を用いてＨｆ−Ｓｉ膜を酸化する。 - 特許庁

TI, TA, HF, ZR AND RELATED METAL SILICON AMIDES FOR ALD/CVD OF METAL-SILICON NITRIDE, SILICON OXIDE OR SILICON OXYNITRIDE例文帳に追加

金属−窒化ケイ素、酸化ケイ素、又は酸窒化ケイ素のＡＬＤ／ＣＶＤ用のＴｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ及び関連する金属のケイ素アミド - 特許庁

In an HF electrolytic aqueous solution, a semiconductor substrate 11 is anodized with a silicon nitride film as a mask.例文帳に追加

ＨＦ電界水溶液中において、シリコン窒化膜をマスクとして半導体基板１１を陽極酸化する。 - 特許庁

AZEOTROPE-LIKE COMPOSITION OF 2-CHLORO-1,1,1,2-TETRAFLUOROPROPANE (HCFC-244bb) AND HYDROGEN FLUORIDE (HF)例文帳に追加

２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（ＨＣＦＣ−２４４ｂｂ）およびフッ化水素（ＨＦ）の共沸様組成物 - 特許庁

The control method includes a step for controlling a cycloconverter 7 in coordination with control of a coupled HF inverter 3.例文帳に追加

方法は、結合されたＨＦインバータ３の制御と協調してサイクロコンバータ７を制御することを含む。 - 特許庁

This method for synthesizing the aminosulfurtrifluoride includes a process where a secondary amine is reacted with SF4 to form the aminosulfurtrifluoride product and a liquid amine-HF adduct.例文帳に追加

この方法は、第二アミンをＳＦ_4と反応させて三フッ化アミノイオウ生成物と液体のアミン‐ＨＦ付加物を生成させることを含む。 - 特許庁

To stably supply an appropriate slice level control voltage VTLC in the case that omission signals are generated and to eliminate the errors of digital HF signals.例文帳に追加

欠落信号が発生した場合に適切なスライスレベル制御電圧Ｖ_TLCを安定して供給し、ディジタルＨＦ信号の誤りをなくすこと。 - 特許庁

Face plates 12a and 12b made of silicon, and a post 13 made of the silicon are washed with HF to remove a surface oxide film.例文帳に追加

シリコン製の面板１２ａ，１２ｂとシリコン製の支柱１３とをＨＦ洗浄して表面酸化膜を除去する。 - 特許庁

The organic mask 20 is provided on the interface film 13, and etching gas containing absolute or humidified HF (reacting agent) and O_3 (oxidant) is supplied.例文帳に追加

界面膜１３上に有機マスク２０を設け、無水または加湿したＨＦ（反応剤）とＯ_３（酸化剤）を含むエッチングガスを供給する。 - 特許庁

Me denotes a single transition metal selected from a transition metal group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo and W or an alloy of two or more transition metals.例文帳に追加

Ｍｅは、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗからなる遷移金属群から選択される単一遷移金属、あるいは２種以上の遷移金属の合金である。 - 特許庁

To provide a process for fluorination of borohydride salts including providing a reaction medium comprising HF and a superacid.例文帳に追加

ＨＦおよび超酸を含む媒体を用意することを含む、水素化ホウ素塩をフッ素化する方法の提供。 - 特許庁

The heated waste gases are introduced into the catalyst layer 14 where the PFC is cracked by the catalyst to HF and CO2.例文帳に追加

加熱された排ガスは触媒層１４内に導かれ、ＰＦＣは触媒によってＨＦとＣＯ_2に分解される。 - 特許庁

The solder material consists of Ti, Zr, or Hf added to an alloy containing Sn and at least one kind of Sb, Ag, Cu, Ni and In.例文帳に追加

Ｓｎと、Ｓｂ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｉｎの少なくとも１種を含む合金材に、Ｔｉ，ＺｒまたはＨｆが添加されて成ることを特徴とするろう材。 - 特許庁

To provide a method for producing fluorine while anode effect is controlled in the fluorine electrolysis of KF-HF based molten salt.例文帳に追加

ＫＦ−ＨＦ系溶融塩のフッ素電解において、陽極効果を制御しながらフッ素を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The metal layer 13 is composed of one kind of metal among Mo, Cr and Hf, or an alloy made from two or more kinds among these metals.例文帳に追加

金属層１３を、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｈｆのうちのいずれか一種の金属、もしくはこれらのうちの二種以上の金属の合金によって構成する。 - 特許庁