Patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 49965件
A pattern detection circuit detection circuit 52 conducts an arithmetic in response to a phase of pixels such as obtaining a mean value of pixel values of pixels with inverted phases to each other based on an output of the area extract circuit 51 and detects a pattern of the NTSC signal based on the arithmetic result.例文帳に追加
パターン検出回路52は、領域抽出回路51の出力に基づき、互いに逆位相の画素の画素値の平均を求める等の、画素の位相に応じた演算を行い、演算結果に基づいてNTSC信号のパターンを検出する。 - 特許庁
In this case, differently colored display data are set as background data DH1 for the special pattern variation zone and as background data DH2 for the game zone, and therefore, the visual discrimination between the special pattern variation zone and the game zone is clear.例文帳に追加
この場合、特別図柄変動領域用の背景データDH1およびゲーム領域用の背景データDH2として異なる色彩の表示データが設定されているので、特別図柄変動領域およびゲーム領域の視覚的な区別が明確になる。 - 特許庁
The offset printing press has a printing plate 1, a cylindrical blanket 2 which receives an ink pattern from the printing plate and a drying means 3 placed in a location facing the outer periphery surface of the blanket, and the offset printing press transfers the ink pattern received by the blanket to the glass plate.例文帳に追加
印刷版1と、この印刷版からインキパターンを受理する円柱状のブランケット2と、このブランケットの外周表面に臨む位置に配設された乾燥手段3とを有し、ブランケットに受理した上記インキパターンをガラス板に転写するオフセット印刷機とした。 - 特許庁
Conductive patterns 422 and 424 are connected to wiring patterns (a) and (f) of the electronic circuit 22 and a conductive pattern is provided even on the reverse side of the electronic circuit 22; and the conductive patterns 422 and 424 and the conductive pattern constitute the tuning capacitor 420.例文帳に追加
電子回路22の配線パターンa,fにそれぞれ接続された導電性パターン422,424および電子回路22の裏側にも導電性パターンが設けられており、導電性パターン422,424とこの導電性パターンとで同調コンデンサ420を構成している。 - 特許庁
An acceleration sensor operating mode is provided as an operating mode and in the state of setting this mode, on the basis of a value detected by an acceleration detecting part 5, the pattern of a motion applied to the terminal is analyzed by a motion pattern analyzing function 21c of a main control part 21.例文帳に追加
操作モードとして加速度センサ操作モードを備え、このモードが設定されている状態では加速度検出部5により検出された値をもとに主制御部21の動きパターン分析機能21cで端末に加えられた動きのパターンを分析する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a double-sided photomask, wherein there is not risk that a light shielding pattern on a front surface is damaged by abnormal discharge when a light shielding film is formed on a rear surface after formation of the light shielding pattern on the front surface.例文帳に追加
両面フォトマスクの作製方法において、表面に遮光パターンを形成した後、裏面に遮光膜を成膜するときに、異常放電による表面側の遮光パターンへのダメージ発生の恐れがない両面フォトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a curable composition having good pattern forming property and excellent in adhesion to a hard surface as a base, even when a colorant is contained at a high concentration, a color filter obtained by forming a high-resolution colored pattern, and a method for producing the same.例文帳に追加
着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れた硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A pattern forming device is provided with an intaglio retaining a pattern by a developer, a transferring device transferring patterns 27, 28, 29 developed on the intaglio onto a medium for transfer 31, and a baking furnace 40 for erasing or making high in resistance an electrode layer 32 after the transfer.例文帳に追加
パターン形成装置は、現像剤によるパターンを保持する凹版、凹版に現像されたパターン27、28、29を被転写媒体31に転写する転写装置、および転写後に電極層32を消失或いは高抵抗化するための焼成炉40を有する。 - 特許庁
In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.例文帳に追加
ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン40において、パターン1aは回折光束を時計回りにねじり、4分割光検出部60の分割線LXを跨ぐように光検出部A,B上に半円形状の集光スポットSaを形成する。 - 特許庁
The conversion process contains: a process of determining a fill pattern of a minute pixels group in response to a correction gradation value obtained by adding a correction value to a gradation value of an attended pixel; and a process of calculating an error between the correction gradation value and the gradation value represented by the fill pattern.例文帳に追加
変換処理は、注目画素の階調値に補正値を加算して得られる補正階調値に応じて微画素群の塗り潰しパターンを決定する処理と、補正階調値と塗り潰しパターンで表される階調値との誤差を算出する処理とを含む。 - 特許庁
To provide a practical method for manufacturing a pattern-forming material for an artificial marble, which employs a film-pulverizing step and is capable of improving a yield of coloration compared to other cases, and the pattern-forming material for an artificial marble manufactured by the method.例文帳に追加
フィルムの粉砕工程を用いながら、かかる他者の実情に比較して着色の歩留まりを向上させることの可能な実用的な人造大理石用柄材の製造方法及びこの製造方法により製造した人造大理石用柄材を提供すること。 - 特許庁
A plurality of dot-like patterns 4 colored desirously are printed on almost the whole back side of the decorative body 2 so that they are arranged in a second pattern B being the same as the first pattern A brought to the sparse state gradually from the dense region of the decorative body 2 toward the sparse region thereof.例文帳に追加
プレート状装飾体2の略裏面全体に、所望の色に着色したドット状の模様4…を印刷し、装飾体2の密領域から粗領域に向けて徐々に粗状態となる第1パターンAと同一の第2パターンBに配列する。 - 特許庁
With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.例文帳に追加
これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁
The manufacturing method of the substrate comprises a step for forming a first insulation layer on the back of the substrate, a step for forming the pattern of the resistance heater on the first insulation layer, and a step for forming a second insulation layer on the pattern of the resistance heater.例文帳に追加
この基板の製造方法は、基板裏面上に第1の絶縁層を形成する工程と、第1の絶縁層上に抵抗発熱体パターンを形成する工程と、抵抗発熱体パターン上に第2の絶縁層を形成する工程とを有する。 - 特許庁
In the charged particle beam aligner, manipulators 21, 27 for transferring a sensitive substrate and/or a pattern original comprises a first arm 53, a second arm 59, and a holding member 63 or the like, and freely moves the sensitive substrate and/or pattern original in XYZ direction.例文帳に追加
荷電粒子線露光装置において、前記感応基板及び/又はパターン原版を搬送するマニュピレータ21、27は、第1アーム53、第2アーム59、保持部材63等から構成され、感応基板やパターン原版をXYZ方向に自由に移動させる。 - 特許庁
In a step of applying the electron beam, an electron beam is applied to the specimen with the landing energy LE of the electron beam adjusted so that applied electrons U-turn in a recess pattern to act as mirror electrons when the electron beam is applied thereto in a recess pattern with edges on both sides.例文帳に追加
電子ビームを照射するステップは、両側にエッジを有する凹パターンに電子ビームが照射されたときに照射電子が凹パターンにてUターンしてミラー電子になるようにランディングエネルギーLEが調整された電子ビームを試料に照射する。 - 特許庁
The liquid crystal device 1 is constructed by mounting an IC chip 3 on an extending substrate part 4c on which a wiring pattern 15, connected with electrodes 9a and 9b forming a liquid crystal display region, is formed and by conductively connecting the wiring pattern 15 with a bump 21.例文帳に追加
液晶表示領域を形成する電極9a及び9bにつながる配線パターン15が形成された基板張出し部4cの上にICチップ3を実装して、配線パターン15とバンプ21とを導電接続する構造の液晶装置1である。 - 特許庁
When the photomask 10 is used, it is shifted between two previously decided positions that a pattern from the area 16 can be transferred to a wafer at the first position and the pattern from the area 14 can be transferred at other position.例文帳に追加
使用においては、デュアルフォトマスクは、一つ目の位置では、BINクロム領域からのパターンがウエハに転写されるのを可能にし、他の位置では、PSMクロム領域からのパターンが転写されるのを可能にする、2つのあらかじめ定められた位置の間でシフトされる。 - 特許庁
To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture consisting of the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.例文帳に追加
回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁
A pattern of the preliminary discharging is made a pattern 1207 in which a distance 1215 between the low-brightness cyan dot 1201 and a magenta dot 1202 is longer than a distance 1216 between a high-brightness yellow dot 1205 and the cyan dot 1201 nearest to the yellow dot among low-brightness colors.例文帳に追加
予備吐出のパターンを、明度の低いシアンドット1201とマゼンタドット1202との距離1215が、明度の高いイエロードット1205と、明度の低い色のうちイエロードットと最も近いシアンドット1201との距離1216より長いパターン1207とする。 - 特許庁
A symbol addition part 18-1 performs synchronous addition to a carrier symbol which is an FFT output signal of a symbol segmented on the basis of the symbol head position a0, and an SP pattern detection part 19 detects an SP pattern in SP correlation processing of the synchronous addition result.例文帳に追加
シンボル加算部18−1は、シンボル先頭位置a0に基づいて切り出されたシンボルのFFT出力信号であるキャリアシンボルに対して同期加算し、SPパターン検出部19は、この同期加算結果のSP相関処理にてSPパターンを検出する。 - 特許庁
This HGA is provided with a magnetic head slider, a metallic suspension for supporting the magnetic head slider, and a magnetic head leading pattern formed on the suspension via an insulator, and a metal flexure and a load beam downward of the magnetic head lead pattern are partially removed.例文帳に追加
磁気ヘッドスライダと、磁気ヘッドスライダを支持する金属サスペンションと、このサスペンション上に絶縁体を介して形成された磁気ヘッド用リードパターンとを有するHGAであり、磁気ヘッド用リードパターンの下方の金属フレクシャ−及びロードビームが一部除去されている。 - 特許庁
The inner layer part corresponding to the bonding pad part 6 is formed with a support copper pattern layer 15 comprising support wiring patterns 22 formed to the same layers as the copper wire pattern layers and support plug layers 23 formed in a way of applying inter-layer connection to the support wiring patterns 22.例文帳に追加
ボンディングパッド部6に対応する内層部に、銅配線パターン層と同層に形成された保持配線パターン22と、これら保持配線パターン22を層間接続するようにして形成された保持プラグ層23とからなる保持銅パターン層15を形成してなる。 - 特許庁
The image processing apparatus for synthesizing a copy check pattern on a document to be processed accepts designation of at least one region on the document, and controls so that the copy check pattern may not be synthesized inside the designated region.例文帳に追加
処理対象となったドキュメントに、複写牽制画像を合成する画像処理装置であって、ドキュメント上の少なくとも一つの領域の指定を受け入れ、当該指定された領域内部に複写牽制模様が合成されないよう制御する画像処理装置である。 - 特許庁
To obtain a resin composition suitable for use as the resin component of a chemical amplification type positive type photoresist which exhibits superior sensitivity and resolution and gives a pattern having a good cross-sectional shape when a fine resist pattern is formed using radiation, e.g. KrF excimer laser light.例文帳に追加
放射線、例えばKrFエキシマレーザーを用いて微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ポジ型ホトレジストの樹脂成分として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A user of an information processing system arranges a plurality of pattern images 2520 obtained by modeling objects existing in an immediate space along a lattice-like scene 2510 obtained by modeling the immediate space, and combination information of the arrangement of the pattern images is defined as the code data.例文帳に追加
情報処理システムの使用者が身近な空間をモデル化した格子状の場面2510に、その身近な空間内に存在するような物体をモデル化した複数の図柄イメージ2520を格子に沿って配置し、その配置の組み合わせ情報を暗証データとする。 - 特許庁
To perform appropriate correction in order to suppress dimension nonuniformity in the plane of a semiconductor substrate or between the semiconductor substrates to the minimum by suppressing influence from the circumference of a pattern to the minimum when exposing the pattern which is fine with a large difference in crude density.例文帳に追加
微細且つ密度の粗密差の大きいパターンを露光する際に、当該パターンの周囲からの影響を最小限に抑え、半導体基板面内や半導体基板間における寸法ばらつきを最小限に抑えるべく適切な補正を実現する。 - 特許庁
To provide a fixed point detecting apparatus and a displacement measuring apparatus which can distinguish an individual fixed point detecting pattern from among a plurality of fixed point detecting patterns and easily select a fixed point obtained by each fixed point detecting pattern.例文帳に追加
定点検出用パターンを複数設けても、その中から個々の定点検出用パターンを区別することができ、各定点検出用パターンにより得られる定点を簡単に選択することができる定点検出装置及び変位測定装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development.例文帳に追加
ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加
アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁
To provide a projector type headlamp for a vehicle capable of performing light condensing or diffusion not causing unevenness to a light distribution pattern, making a space in front of the vehicle brighter, forming the light distribution pattern having a desired illuminance distribution, and improving visibility in front of the vehicle.例文帳に追加
配光パターンにムラのない集光や拡散ができ、車両前方をより明るくでき、所望の照度分布をもった配光パターンを形成でき、車両前方の視認性向上を図ることができるプロジェクタ型の車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
To restrict a reduction in contrast of a pattern caused by unevenness in the film thickness of an etching stepper which is formed on a multilayer film which reflects EUV beams in an EUV beams exposure reflection type mask for use in transferring a pattern in a semiconductor manufacture, or the like.例文帳に追加
半導体製造等におけるパターン転写の際に使用されるEUV光露光用反射型マスクにおいて、EUV光を反射する多層膜上に成膜されるエッチングストッパー層の膜厚のむらに起因するパターンのコントラスト低下を抑制する。 - 特許庁
As a semiconductor light emitting element electrically connected to a wiring pattern extended at a remote place in the direction separated from the mounting surface side among parts exposed from a sealing resin part of the wiring pattern, the one with electrostatic voltage resistance higher than those of other semiconductor light emitting elements is selected.例文帳に追加
配線パターンの封止樹脂部から露出した部分のうち、実装面側から離れる方向に遠い位置に延設された配線パターンに電気的に接続された半導体発光素子は、他の半導体発光素子より静電耐圧の高いものが選択される。 - 特許庁
The frequency characteristics information of the thinned images are compared with one another, and a divided mask pattern to be applied to input image data is selected from the plurality of mask data stored in the storing device to form an image using the selected divided mask pattern.例文帳に追加
その後、複数の間引き画像それぞれの周波数特性情報を比較して、記憶手段に格納されている複数のマスクデータの中から、入力画像データに適用すべき分割マスクパターンを選択し、選択した分割マスクパターンを用いて画像の形成を行う。 - 特許庁
A plurality of a roller 30 and a roller 32 are mounted in the backward part of the surface layer feeder 24 to push the base material 22 and the surface layer 26, and the roller 30 of the two rollers has a pattern on its surface to form a pattern on the surface of the surface layer 26.例文帳に追加
複数個のローラー30及びローラー32は、表面層供給装置24の後方に装着され、基材22と表面層26を押し、そのうちの一つのローラー30は表面に表面層26の表面にパターンを形成するための模様を有する。 - 特許庁
To provide a method for forming a protective layer on the surface of a photomask which enables the formation of the flat surface of the protective layer on a pattern formation surface without causing the incorporation of air bubbles between the protective layer and the pattern formation surface of the photomask.例文帳に追加
フォトマスク表面への保護層の形成方法において、保護層とフォトマスクのパターン形成面との間に気泡の混入がなく、パターン形成面の上に平坦な保護層表面が形成される、フォトマスク表面への保護層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
The road constituting a trunk road is guided since the direction guide information as to the trunk road is searched, since the branch pattern is prepared based on the direction guide information and since the direction guide is carried out to the driver according to the branch pattern.例文帳に追加
幹線道路についての方面案内情報が探索され、該方面案内情報に基づいて分岐パターンが作成され、分岐パターンに従って運転者に対して方面案内が行われるので、幹線道路を構成する道路を案内することができる。 - 特許庁
The selection unit 305, if a variation pattern determined by the prior determination unit 302 is a specific variation pattern corresponding to predetermined specific performance among a plurality of performances, selects a specific interpretation notice related to reliability of the specific performance.例文帳に追加
選択部305は、事前判定部302によって判定された変動パターンが、複数の演出のうち予め定められた特定の演出に対応する特定の変動パターンである場合、当該特定の演出の信頼度に関する特定解説予告を選択する。 - 特許庁
To form a dummy conductive land in a layer where the connection pattern of a multilayer printed circuit board is not formed, to prevent through hole plating from being deformed due to thermal stress by the conductive land, and to secure the continuity between the connection pattern and through hole plating.例文帳に追加
本発明は、多層プリント基板の接続パターンが形成されていない層にダミーの導電ランドを形成し、この導電ランドによってスルーホールメッキの熱ストレスによる変形を防止し、接続パターンとスルーホールメッキとの導通を確保することを目的とする。 - 特許庁
A thin plate B made of artificial marble having the same pattern as the surface of an artificial marble main body A is bonded to the side surface of the plate-shaped artificial marble main body A obtained by molding a resin compound for manufacturing the artificial marble prepared by mixing a pattern material 1 and a base resin.例文帳に追加
柄材1とベース樹脂とを混合した人造大理石製造用樹脂コンパウンドを成形して得た板状をした人造大理石主体Aの側面に、人造大理石主体Aの表面と同じ模様をした人造大理石製の薄板Bを貼着する。 - 特許庁
In a first special pattern variation processing, the CPU of a main substrate reads respective random number values and performs a big winning judging processing when a second big winning under-execution flag is not set and the variation of a first special pattern can be started.例文帳に追加
第1特別図柄変動処理において、主基板のCPUは、第2大当り実行中フラグがセットされておらず、かつ、第1特別図柄の変動を開始することができる状態であれば、各乱数値を読み出して大当り判定処理を行う。 - 特許庁
In this case, the adding pattern of pixel output is determined according to the type of image processing to be performed by an image processor 4 of a later stage, and an image is generated by adding the pixel output of image signals to be outputted from the imaging device 1 by the adding pattern.例文帳に追加
その際、後段の画像処理装置4で行われる画像処理の種別に応じて画素出力の加算パターンを決定し、その加算パターンにより撮像素子1から出力される画像信号の画素出力を加算して画像を生成する。 - 特許庁
The laser resonator has a substrate and a waveguide resonance trellis partially including the gain quality of a material, wherein the waveguide resonance trellis is formed to an arbitrary pattern, the laser emission surface is formed into an arbitrary pattern, and laser beams are emitted in both directions.例文帳に追加
レーザ共振器は、基板と、ゲイン材質を一部に含む導波モード共鳴格子を有し、導波モード共鳴格子は任意パターンに形成されており、レーザ発光面が任意パターンであることを特徴とし、面方向にレーザ光が出力されることを特徴とする。 - 特許庁
This game machine is so formed that, synchronized with the output of the voice by a voice output device 33, the variable display of special pattern rows on a display window 3a is made to temporarily stop twice from a state of variably displaying special pattern rows on respective display windows 3a-3c, and then made to stop lastly.例文帳に追加
各表示窓3a〜3cに特別図柄列を変動表示している状態から、音声出力装置33による音声の出力に同期させて、表示窓3aでの特別図柄列の変動表示を2度仮停止した後に、最終停止する。 - 特許庁
To provide a printed circuit board capable of improving reliability wherein, even when an insulation board material and a conductor pattern are expanded/shrinked due to heat and the expansion/shrinkage results in land exfoliation, this does not lead to breakage of the conductor pattern, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加
電子部品をはんだ付けする際に絶縁基材や導電パターンが熱によって膨張、収縮しランド剥離現象が生じても導電パターンの断線にはつながらず信頼性を向上させることができるプリント基板および電子機器を提供する。 - 特許庁
It is previously determined whether a presentation symbol variation pattern is changed to a variation pattern with super ready-to-win status or not on starting prize winning entry of a game ball before variation is started, and super ready-to-win previous notice presentation is executed before starting variable display of presentation symbols.例文帳に追加
変動開始前の始動入賞時に、演出図柄の変動パターンがスーパーリーチを伴う変動パターンとなるか否かをあらかじめ判定し、その演出図柄の可変表示が開始される以前に、スーパーリーチの予告演出を実行可能である。 - 特許庁
This band-like building interior finishing decorative material, the design pattern of which is printed on the basis of the design pattern data of another member combined with the band-like building interior finishing decorative material by ink jet printing, is pasted to the member so as to obtain the building interior finishing decorative material.例文帳に追加
絵柄模様が、帯状建築内装装飾材と組み合わせる他の部材の絵柄模様データを基にインクジェット印刷によって印刷された帯状建築内装装飾材であり、これを部材に貼着等することにより建築内装装飾材とする。 - 特許庁
This apparatus is equipped with a seat cushion pan 12A, a seat cushion pad 13A retained by this seat cushion van 12A, and a seated pattern sensor 14A that detects seated state of a sitter or the like on this seat cushion pad 13A, and the seated pattern sensor 14A is disposed between the seat cushion pan 12A and seat cushion pad 13A.例文帳に追加
シートクッションパン12A と、このシートクッションパン12A に保持されるシートクッションパッド13A と、このシートクッションパッド13A への乗員等の着座状態を検出する着座パターンセンサ14A とを具備し、かつ着座パターンセンサ14A をシートクッションパン12A とシートクッションパッド13A との間に配設する。 - 特許庁
To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加
設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁
In applying the application liquid onto the substrate and forming a line-like pattern, discharging of the application liquid is initiated from an inward position X0 which is inward from an originally intended start position X1, while keeping the amount of the gap between a nozzle and the substrate to a smaller value G0 than the height of the pattern.例文帳に追加
基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置X1よりも内側の位置X0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値G0にして塗布液の吐出を開始する。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|