「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(945ページ目) - Weblio英語例文検索

An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.例文帳に追加

基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁

Thus, candidates of rhythm patterns for each one measure are selected, one rhythm pattern is selected out of them at random based on random numbers, and a rhythm pattern of one music is made by connecting rhythm patterns selected for each measure over a whole music.例文帳に追加

このようにして、１小節ずつリズムパターンの候補が選択され、その中から乱数に基づいてランダムにリズムパターンが一つ選択され、各小節に対して選択されたリズムパターンを、曲全体に亘ってつなげていくことにより、１曲分のリズムパターンが生成される。 - 特許庁

A gate pattern is formed which fills the lower gate trench, covers the sidewall of the active region adjacent to the bottom and sidewall of the exposed lower gate trench, and partially covers the bottom of the upper gate trench so that the gate pattern can be spaced apart from the sidewall of the upper gate trench.例文帳に追加

下部ゲートトレンチを埋め込み、露出した下部ゲートトレンチの底面及び側壁に隣接する活性領域の側壁を覆うと共に、上部ゲートトレンチの側壁と離隔されるように、上部ゲートトレンチの底面を部分的に覆うゲートパターンを形成する。 - 特許庁

The method for sensing the abnormality in the machine comprises the steps of storing the relation of the torque to a time from the start of ejecting the molding 1 or a position of the plate of the machine as a reference pattern, and setting an allowed change range and a monitoring section of the torque to the pattern.例文帳に追加

本発明の方法では、成形品１の突出し開始からの時間又は成形機突出しプレートの位置に対する駆動トルクの関係を基準パターンとして記憶し、基準パターンに対する駆動トルクの許容変動範囲及び監視区間を設定する。 - 特許庁

A toner pattern image is formed in a non-image area on an image carrier, and is made to pass through a transfer part in such a state that bias is not applied to a transfer means, and transfer bias is applied before the toner pattern image goes round and reaches the transfer part again.例文帳に追加

非画像領域に、前記像坦持体上にトナーパターン像を形成し、前記転写手段にバイアスを印加しない状態で該トナーパターン像を転写部通過させ、該トナーパターン像が１周して再び転写部に到達する前に、転写バイアスを印加させる。 - 特許庁

When a false synchronous pattern exists in a TS packet on a cycle of one packet for a predetermined times in succession, a bit flipping section 23 of a transmitter 2-1 reverses an LSB of a predetermined false synchronous pattern to generate reversed bit information showing the reversed bit position.例文帳に追加

送信装置２−１のビット反転部２３は、ＴＳパケット内に偽の同期パターンが１パケット周期で所定回数分連続して存在する場合、所定の偽の同期パターンのＬＳＢを反転し、その反転したビット位置を示す反転ビット情報を生成する。 - 特許庁

To avoid a hindrance in an electric characteristic even when a tolerance in accuracy of printing position of an electrode pattern in a laminated piezoelectric element which is formed in such a manner that an electrostriction material green sheet having a conductive paste and an electrode pattern printed thereon is laminated to be baked.例文帳に追加

導電性ペーストの電極パターンが印刷された電歪材料グリーンシートを積層し焼成することにより形成する積層圧電素子において、電極パターンの印刷位置精度の許容公差が大きくても電気特性に支障が生じないようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device which can adequately suppress the opposing capacitance between a dummy pattern and a wiring even when it is provided with the dummy pattern formed of the same material as the wiring material between the wirings of the same layer for flattening the area between the wiring layers.例文帳に追加

配線層間の平坦化のために同一層の配線間に配線材料と同一材料からなるダミーパターンを備えていながら、該ダミーパターンと配線との間の対向容量を好適に抑制することのできる半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board with high efficiency, where the printed wiring board is composed of a board whose main component is AlN and a copper wiring pattern formed on the board, and the adhesion of the wiring pattern to the board material is sufficiently high in strength.例文帳に追加

ＡｌＮを主成分とする基体上に銅からなる配線パターンが形成されたプリント配線板であって、配線パターンと基体材料との間の密着強度が十分に高いプリント配線板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

The olefin-foamed wallpaper is obtained by sequentially laying, on a substrate 1, an adhesive layer 4a, a foamed olefin layer 2, an adhesive layer 4b, non-foaming thermoplastic resin layer 3 and a printed pattern layer 5 one after another, and formed ruggedness on the surface layers including the printed pattern layer.例文帳に追加

基材１の上に、接着層４ａ、発泡オレフィン層２、接着層４ｂ、非発泡の熱可塑樹脂層３及び印刷絵柄層５を順に設け、少なくとも印刷絵柄層を含む表面層に凹凸が形成されている構成のオレフィン発泡壁紙とする。 - 特許庁

A disk substrate of 30 μm or smaller in flatness is manufactured by injection molding and pressed by using a mold 2 having a high-fineness control pattern impressed to improve the flatness and form a high-fineness control pattern.例文帳に追加

予め、平坦度が３０μｍ以内のディスク基板を射出成形により作製し、得られたディスク基板に、高精細な制御パターンを刻印したモールドを用いてモールド・プレスを行い、平坦度の向上を図るとともに、高精細な制御パターンを形成させる。 - 特許庁

CPU for display control starts the rotation of a drum comprising the variable display device in order to cause the variable display device to display an initial figure pattern when receiving a special figure pattern power-on display command from a main substrate 31 in initialization treatment.例文帳に追加

表示制御用ＣＰＵは、初期化処理において、主基板３１から特別図柄電源投入表示コマンドを受信した場合等に、可変表示蔵置に初期図柄を表示させるために、可変表示装置を構成するドラムの回転を開始する。 - 特許庁

Generation of leakage of mold resin and cracks on the surface of solder resist relates to the interval of the pattern formed by etching on a copper layer, and the solder resist surface having high uniformity can be formed by forming the circuit pattern structure in which a gap formed in 60 μm or smaller.例文帳に追加

モールド樹脂の漏洩やソルダーレジスト面のクラック発生は、銅層のエッチングにより形成されたパターンのパターン間隔に関係することがわかり、隙間を６０μｍ以下の回路パターン構造にすることで均一性の高いソルダーレジスト面を形成できる。 - 特許庁

The recording position of the pattern P is controlled to record the pattern P on a portion of the recording medium 8 located on platen ribs 207 to adjust the applied position of ink to the recording medium 8 based on the position relationship between the platen ribs 207 and the recording medium 8.例文帳に追加

プラテンリブ２０７と記録媒体８との位置関係に基づいて、プラテンリブ２０７上に位置する記録媒体８の部分に、記録媒体８に対するインクの付与位置を調整するためにパターンＰを記録するように、そのパターンＰの記録位置を制御する。 - 特許庁

This machine 10 is provided with an oscillator 11 of an excimer laser beam and a mask 14 to regulate the excimer laser beam emitted from the oscillator to a prescribed pattern, and is an excimer laser beam machine to machine a work with the excimer laser beam pattern-regulated by the mask.例文帳に追加

本装置１０は、エキシマレーザ光の発振器１１と、発振器から出射されたエキシマレーザ光を所定の形状パターンに規制するマスク１４とを備え、マスクによりパターン規制されたエキシマレーザ光により被加工物に加工を施すエキシマレーザ加工装置である。 - 特許庁

Hydrofluoroether (HFE) is used as an organic solvent for example, so that the contact angle of the organic solvent to a pattern is set at 70° to reduce attraction producing among the patterns as much as possible as well as to prevent pattern failure.例文帳に追加

このような有機溶剤としては、例えばハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）を用いることにより、パターンに対する当該有機溶剤の接触角を７０°程度にすることができ、パターン間に生じる引力を極力低減させ、パターン倒れを防止することができる。 - 特許庁

Then, the present mental state of the user is detected, the state transfer pattern having the basic mental state adapted for the detected present mental state is selected, and the guided hospitality operational content is read out following the state transfer pattern, and successively performed.例文帳に追加

そして、ユーザーの現在精神状態を検出するとともに、その検出された現在精神状態に適合する基点精神状態を有した状態推移パターンを選択し、状態推移パターンに従い誘導もてなし動作内容を読み出して順次行なわせる。 - 特許庁

To make optionally designable the start address numbers of test pattern programs to be merged and also to efficiently process the redundant part of a merged pattern program caused by the designation of the start address numbers in a program processor for an IC test.例文帳に追加

本発明の課題は、ＩＣテストのためのプログラム処理装置において、マージされるテストパタンプログラムの開始アドレス番号を任意に指定可能とすると共に、開始アドレス番号の指定によって生じる併合パタンプログラムの冗長部分を効率よく処理することである。 - 特許庁

To provide a gas discharge display device and a manufacturing method of the same which is capable of forming an electrode pattern of a trapezoid shape with uniformity and without the occurrence of defects or the like in the process of electrode-pattern forming, and also is capable of displaying with high quality.例文帳に追加

電極パターンを形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく台形形状の電極パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするガス放電表示装置およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Furthermore, a relationship between the level difference D and the dimensions L1 and L2 is compared with a focus dimension theoretical curve 11 that is calculated by measuring a relationship between the focal position of the focus confirmation pattern and the pattern dimension beforehand, thereby finding out an appropriate focus position.例文帳に追加

次に前記段差量Ｄと前記寸法Ｌ１及びＬ２の関係から、予めフォーカス確認用パターンの焦点位置とパターン寸法の関係を測定し算出した焦点寸法理論曲線１１と比較することにより、最適フォーカス位置を求める。 - 特許庁

The validity determining section includes a first check value setting circuit 20a for outputting the check result of validity in the serial input direction of the serial test pattern; and a second check value installation circuit 20b for outputting the check value of validity, in the direction of the time of the serial test pattern.例文帳に追加

妥当性判断部は、シリアルテストパターンのシリアル入力方向の妥当性のチェック結果を出力する第１のチェック値設定回路（２０ａ）と、シリアルテストパターンの時間方向の妥当性のチェック結果を出力する第２のチェック値設置回路（２０ｂ）とを含む。 - 特許庁

A contents producing section 100 enables a contents production means 110 to produce contents, according to the instruction of a user entered from an instruction entry means 400 and allows a storage pattern production means 120 to product a storage pattern in a contents receiver.例文帳に追加

コンテンツ制作部１００は、指示入力手段４００から入力する利用者の指示に応じて、コンテンツ制作手段１１０においてコンテンツを制作するとともに、蓄積パターン制作手段１２０においてコンテンツの受信装置における蓄積パターンを制作する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a thick photosensitive film with good adhesiveness even on a substrate of copper, an iron-nickel alloy or the like having inferior adhesiveness and capable of forming a space pattern with good perpendicularity, and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.例文帳に追加

銅や鉄−ニッケル合金等の接着性の悪い基板上に対しても膜厚の感光性膜を接着性よく形成でき、スペースパターンを垂直性よく形成可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

A slot machine 1 is provided with a first slot game which conducts a game using a first pattern arrangement table 34a and a main display 3 equipped with a function to execute a second slot game conducting a game using a second pattern arrangement table 34B and containing a help screen W2.例文帳に追加

スロットマシン１は、第１図柄配列テーブル３４Ａを用いて遊技を行う第１スロットゲームと、第２図柄配列テーブル３４Ｂを用いて遊技を行う第２スロットゲームとを実行する機能を有し、またヘルプ画面Ｗ２を含むメインディスプレイ３を備える。 - 特許庁

To provide a motor which comprises a control device formed by resin-molding a circuit board for mounting a control IC, and in which the extension of a circuit pattern on the circuit board is not required, the complication of the circuit pattern can be prevented, and a shield plate can be stably grounded.例文帳に追加

制御ＩＣを搭載する回路基板を樹脂モールドしてなる制御装置を備えるモータであって、回路基板上の回路パターンの増設や複雑化を防止して回路基板の大型化やコストアップを防止しつつ、シールド板の接地を安定して行う。 - 特許庁

A rule DB 42 preliminarily stores rule information showing an action to be executed for promoting correspondence to a user and rule pattern information showing the pattern of words expressing the characteristics of an action shown by the rule information by associating those information items with each other.例文帳に追加

ルールＤＢ４２は、ユーザに対して対応を促すために実行されるアクションを示すルール情報及び当該ルール情報によって示されるアクションの特徴を表す単語のパタンを示すルールパタン情報を互いに対応付けて予め格納する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of easily grasping the size of a resist pattern by an optical proximity effect even when the code pattern arrangement of a mask ROM is especially diversified and the number of code data of a cell part is enormously increased, a method for manufacturing the semiconductor device and a reticule.例文帳に追加

特にマスクＲＯＭにおいて、コードパターン配置が多様化し、セル部コードデータの数が膨大になっても、光近接効果によるレジストパターン寸法を容易に把握することができる半導体装置、半導体装置の製造方法あるいはレチクルを提供する。 - 特許庁

In the correction method of a photomask, a light shielding part and a light transmitting part are formed on one side surface of the substrate with the prescribed pattern and, further, the defect on the surface of the opposite side to the surface on which the pattern is formed is filled with transparent resin.例文帳に追加

基板の片面に、遮光部と透光部が所定のパターンで形成されたフォトマスクの修正方法であって、パターンが形成された面の反対側の面上の欠点を透明樹脂で充填することを特徴とするフォトマスクの修正方法。 - 特許庁

Filter response waveform data which is the filter response waveform data of the FIR filter with j tap, 1/2^i oversampling and whose sampling timing is shifted by every 1/2^k of an oversampling period is stored in a filter pattern storage memory 7 for each pattern which a signal with j bit structure can take.例文帳に追加

フィルタパターン格納メモリ7には、jタップ、1/2^iオーバサンプリングのFIRフィルタのフィルタ応答波形データであって、jビット構成の信号が取り得る各パターン毎に、オーバサンプリング周期の1/2^kずつサンプリングタイミングをずらしたフィルタ応答波形データが格納されている。 - 特許庁

A carriage 1 is equipped with an optical signal level means 2 for detecting a variation of an optical signal level for one pattern length of a printing pattern, and a position identifying means 3 for identifying a position of the variation of the optical signal level, which is detected by means 2.例文帳に追加

キャリッジ１には、印刷パターンの１パターン長における光信号レベルの変化量を検出する光信号レベル手段２と、光信号レベル手段２が検出した光信号レベルの変化位置を特定する位置特定手段３とが搭載されている。 - 特許庁

At this time, a character string matching a specific pattern including an English symbol, etc., registered in a character string pattern storage part 112 is retrieved from character strings before conversion in the input character string buffer 105 and stored as a replacement candidate in a candidate storage part 110.例文帳に追加

その際、入力文字列バッファ１０５内の変換前の文字列の中から文字列パターン記憶部１１２に登録された英記号等を含む特定のパターンと一致する文字列を検索し、これを置き換え候補として候補記憶部１１０に格納する。 - 特許庁

A coil region 23d consists of an arc region 26 formed so that the conductor pattern 25 becomes an arc centered at a position G_1 separated by a winding pitch P from the position G_0, and a linear region 27 formed so that the conductor pattern 25 becomes a straight line.例文帳に追加

コイル領域２３ｄは、導体パターン２５が位置Ｇ_０から巻きピッチＰ分だけ離れた位置Ｇ_１を中心とした円弧となるように形成された円弧領域２６と、導体パターン２５が直線となるように形成された直線領域２７とからなっている。 - 特許庁

In the decorative sheet having a pattern layer 2, an adhesive layer 3, a transparent resin layer 4, and a surface protective layer in this order on a substrate 1, the pattern layer 2 employs the photoluminescent pigment of a distribution of particle sizes of 1-15 μm.例文帳に追加

基材１上に絵柄模様層２、接着剤層３、透明樹脂層４、表面保護層を少なくともこの順に設けてなる化粧シートにおいて、前記絵柄模様層２に、粒径が１〜１５μｍの範囲で分布する光輝性顔料を用いることを特徴とする。 - 特許庁

This printed wiring board 1 is equipped with: an insulation layer 10; first conductor patterns 11 laminated on the insulation layer 10 and becoming signal lines; and a second conductor pattern 12 laminated on the insulation layer 10 and having a large conductor area relative to the first conductor pattern 11.例文帳に追加

プリント配線板１は、絶縁層１０と、絶縁層１０に積層され、信号ラインとなる第１の導体パターン１１と、絶縁層１０に積層され、第１の導体パターン１１よりも大きな導体面積を有した第２の導体パターン１２とを具備する。 - 特許庁

Thereby an air gap 72 is defined between the first wiring patterns 53a to form a hollow structure between the wirings, and an air gap 73 is also defined between fine patterns in the dummy pattern 53b to form a dummy pattern 53b having a hollow structure.例文帳に追加

これにより、第１の配線パターン５３ａ同士の間に空隙７２が形成されて配線間が中空構造となると共に、ダミーパターン５３ｂにおける微細パターン同士の間にも空隙７３が形成されて、中空構造を有するダミーパターン５３ｂが形成される。 - 特許庁

The color image data within the black boundaries in an N pixel width of the black area are modified by a substituting operation in conformity with a black pixel modification pattern, and the black pixel modification pattern substitutes some of the separate pixels in the black plane with the separate pixels in the non-black planes.例文帳に追加

ブラック画素修正パターンに従い置換操作によりブラック領域のＮ画素幅のブラック境界内のカラー画像データが修正され、ブラック画素修正パターンはブラック平面内の分離画素の一部を非ブラック平面内の分離画素と置換する。 - 特許庁

To provide a method for verifying pattern data of a semiconductor device for appropriately deciding whether the allowable error of design data of a pattern to be formed in a lithographic process using at least two masks is within an appropriate range or not by the use of simulation.例文帳に追加

少なくとも２枚のマスクを用いるリソグラフィ工程において、形成されるパターンの設計データの許容誤差が適正な範囲内であるか否かをシミュレーションを利用して適正に判断する半導体装置のパターンデータの検証方法を提供する。 - 特許庁

The thickness of the copper pattern 13, which is formed in the upper surface of the substrate core 3 corresponding to a semiconductor chip mounted region 30, is smaller than the thickness of the copper pattern 4, which is formed in the upper surface of the substrate core corresponding to a region outside the semiconductor chip mounted region.例文帳に追加

半導体チップ搭載領域３０に対応する、基板コア３の上面に形成された銅パターン１３の厚みは、半導体チップ搭載領域外の領域に対応する、基板コアの上面に形成された銅パターン４の厚みより小さい。 - 特許庁

Dot pattern data used for recording at a path 1 is stored corresponding to each color in the address of a former half of the memory, and a dot pattern data used for recording at a path 2 is stored corresponding to each color in the address of a latter half of the memory.例文帳に追加

このメモリ１９０１の前半のアドレスにはパス１での記録で使用されるドットパターンデータが各色に対応して記憶されており、メモリ１９０１の後半のアドレスにはパス２での記録で使用されるドットパターンデータが同じく各色に対応して記憶されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that gives a cured relief pattern with high resolution on copper or a copper alloy, as a useful coating film for manufacturing electric and electronic materials, and to provide a pattern forming method, a semiconductor device and a method for manufacturing the device using the above composition.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な塗膜として、銅又は銅合金上で高い解像度の硬化レリーフパターンを与えうる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたパターン形成方法並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

At the receiving of the reading request of a predetermined logical address(LBA) from a diskless PC 1002, a data transfer control part 1008 of a cache device 1004 inquires for the storage location of access pattern information to an IP name server device 1017, and acquires access pattern information.例文帳に追加

キャッシュ装置１００４のデータ転送制御１００８部は、ディスクレスＰＣ１００２から、既定の論理アドレス（ＬＢＡ）の読出要求を受け取ると、ＩＰネームサーバ装置１０１７にアクセスパタン情報の格納場所を照会して、アクセスパタン情報を取得する。 - 特許庁

Then, the second and fourth antennas perform phase inversion for each data communication between a pattern 1 that in-phase currents are allowed to flow through the second antenna 12 and the third antenna 13 and a pattern 2 that in-phase currents are allowed to flow through the first antenna 11 and the second antenna 12.例文帳に追加

第２及び第４アンテナは、第２アンテナ１２と第３アンテナ１３とに互いに同相の電流が流れるパターン１と第１アンテナ１１と第２アンテナ１２とに互いに同相の電流が流れるパターン２との間でデータ通信ごとに位相反転を行う。 - 特許庁

A multilayer wiring board 11 is provided with an inner layer conductive pattern 13 between three insulating layers 12 composed of a glass-epoxy resin, and also on upper and lower both faces with a surface conductor pattern 14 which is plated with copper on a surface of a copper foil, and further with a through-hole 15.例文帳に追加

多層配線基板１１は、ガラス−エポキシ樹脂からなる３層の絶縁層１２間に内層導体パターン１３を備えると共に、上下両面に、銅箔の表面に銅メッキを施した表面導体パターン１４を備え、更にスルーホール１５を備える。 - 特許庁

In the display device, a discharge pattern which crosses gate lines or source lines that configure the active-matrix circuit is formed around the active-matrix circuit, and length of the discharge pattern is longer than a pixel pitch of the active-matrix circuit.例文帳に追加

また、本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の周辺に、前記アクティブマトリクス回路を構成するゲイト線又はソース線と交わる放電パターンが形成され、前記放電パターンの長さは、前記アクティブマトリクス回路の画素ピッチよりも長いことを特徴とする。 - 特許庁

The regions 14a and 14b have a long rectangular pattern opening 16 formed substantially at the center, and 39 small opening positional deviation measuring marks 18 disposed in a lattice shape at equal intervals in the lateral an longitudinal directions around the pattern opening 16.例文帳に追加

単位走査領域１４ａ及び１４ｂは、ほぼ中央に形成された縦長の長方形のパターン開口１６と、パターン開口１６の周りに縦横等間隔の格子状に配置された３９個の小開口の位置ずれ測定マーク１８とを備えている。 - 特許庁