「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(949ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法において、タンタル膜６をパターニングし、非線形素子用下電極６１を備えた第１のタンタルパターン６ａと、データ線２、保持容量用下電極６２、および共通電極６３を備えた第２のタンタルパターン６ｂとを形成する。 - 特許庁

Thus, on the substrate, there are disposed both of the cells in which a diffraction grating pattern for constituting the display image has been formed and the cells in which the minute images recognized only by magnification observation have been formed, thereby constituting a diffraction grating pattern including hidden minute images.例文帳に追加

これにより、基材上に、表示画像を構成するための回折格子パターンが形成されたセルと拡大観察しなければ認識が困難な微小画像が形成されたセルの双方を設け、隠蔽微小画像を含む回折格子パターンを構成する。 - 特許庁

A printed wiring original plate 1 is made up such that it has a first mounting substrate part 5 on which a circuit pattern for a first printed-circuit board 3 is printed and a second mounting substrate part 9 on which a circuit pattern for a second printed-circuit board 7 is printed.例文帳に追加

プリント配線原板１を、第１のプリント回路板３のための回路パターンが印刷された第１の実装用基板部分５と、第２のプリント回路板７のための回路パターンが印刷された第２の実装用基板部分９と、を有するように構成する。 - 特許庁

The pattern determination means 12 determines the drive speed pattern PD of which the acceleration period and the deceleration period respectively correspond to an integer multiple of a period T1 of primary vibration of the objective 3 to be driven, the servomotor M1 makes the objective 3 to be driven position under a non-vibration condition.例文帳に追加

パターン決定手段１２は、加速期間、減速期間がそれぞれ駆動対象３の一次振動の周期Ｔ1 の整数倍に相当する駆動速度パターンＰＤを定め、サーボモータＭ1 は、駆動対象３を無振動状態に位置決めすることができる。 - 特許庁

Since a positional detection pattern 240, a focus detection pattern 242, and a depth detection part 244 are aggregated in one surface, that is a composite inspection surface 236, of a reference roll 226, detection can be performed in a shorter time by this detector than by a constitution comprising plural inspection surfaces.例文帳に追加

基準ロール２２６の一面、すなわち複合検査面２３６に、位置検出パターン２４０、フォーカス検出パターン２４２、及び深度検出部２４４を集約したので、検査面が複数ある構成と比較し、短時間で検知を行なうことができる。 - 特許庁

When each of the beams 10c, 10d impinge on a grating pattern part 420 corresponding to each of the diffraction gratings 42a, 42b, the each of the beams 10c, 10d is diffracted at ±1 degree of diffraction by the grating pattern part 420 to impinge on photoreception elements 7a-7d for the origin signal.例文帳に追加

各光束１０ｃ、１０ｄが対応する回折格子４２ａ，４２ｂの格子パターン部４２０に入射すると、各光束１０ｃ、１０ｄは格子パターン部４２０により±１次回折されて原点信号用受光素子７ａ〜７ｄに入射する。 - 特許庁

To provide a resist developing solution which is reduced in a permeability into a gap between polymer aggregates and has a sufficient dissolution rate, and to provide a pattern forming method by which a pattern low in line edge roughnessby can be formed by using the resist developing solution.例文帳に追加

高分子集合体と高分子集合体との隙間への浸透力を弱め、十分な溶解速度を有するレジスト現像液と該レジスト現像液を使用して、低いラインエッジラフネスのパターンを形成可能としたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

On determination of the home position, while the scan unit 3 is moved in a sub-scanning direction and an imaging device 5 is operated for imaging on a pattern sheet 8, the home position detection pattern 8a is detected in a prescribed range S1 and thus the home position for the scan unit 3 is determined.例文帳に追加

ホームポジションの決定時には、スキャンユニット３を副走査方向に移動させ撮像装置５にパターンシート８上を撮像させつつ、所定の範囲Ｓ１においてホームポジション検出パターン８ａを検出させてスキャンユニット３のホームポジションが決定される。 - 特許庁

In a Pachinko game machine, a voice control means reproduces not less than one special effect data, correlated to a performance pattern for voice output corresponding to performance display by the performance pattern, by not less than one channel for outputting from loudspeakers.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機において、音声制御手段は、演出パターンによる演出表示に対応して音声出力されるよう当該演出パターンに対応付けられた１以上の効果音データを１以上のチャンネルで再生してスピーカから出力させる。 - 特許庁

Thereby, correction variation is performed in which a rotation amount obtained by adding a rotation amount at each rotational speed of the basic correction variation pattern and a rotation amount at each rotational speed of the variable correction variation pattern is set as a correction rotation amount at each rotational speed.例文帳に追加

それにより、基本補正変動パターンにおける各回転速度での回転量と、可変補正変動パターンにおける各回転速度での回転量とを加算して得られる回転量を各回転速度での補正回転量とした補正変動が実行される。 - 特許庁

In this metal pattern forming method, a plating layer with a thickness of 1 μm or smaller is formed on the surface of the silver thin film pattern formed on a support using a neutral or basic copper plating bath and electroplating for a thickness increase is further applied to the surface of the plating layer.例文帳に追加

支持体上に形成された銀薄膜パタン上に中性、あるいは塩基性の銅めっき浴により厚さ１μｍ以下のめっき層を形成した後、さらに厚付のための電解めっきすることを特徴とする金属パタンの形成方法。 - 特許庁

A board 7 for forming an electric element opposed to the surface of the transfer substrate is moved by synchronizing with the movement of the transfer substrate 5, and the nanowire 3 is transferred on the pattern shape area 8 of the board 7 corresponding to the pattern shape area 6 of the transfer substrate 5.例文帳に追加

転写基材５の移動と同期して、転写基材の表面に対向させた電気素子形成のための基板７を移動させ、転写基材５のパターン状領域６に対応した基板７のパターン状領域８にナノワイヤ３を転写する。 - 特許庁

When a user selects a pattern, a control unit of a sewing machine determines which storage chamber 28 stores a presser foot 13 suitable for sewing the pattern, and controls an opening/closing mechanism 30 for moving the window 31a to above that storage chamber 28.例文帳に追加

ミシンの制御装置は、ユーザにより模様が選択されると、その模様の縫製に適した押え足１３が収納されている収納室２８を決定し、当該収納室２８の上方に窓部３１ａを移動させるように開閉機構３０を制御する。 - 特許庁

To accurately distinguish between a color slippage detecting pattern and a scratch on an endless belt even in the case the scratch on the endless belt becomes large in accordance with the increase of the number of image- formed sheets, and to calculate the color slippage while referring to only the detection data of the color slippage detecting pattern.例文帳に追加

画像形成枚数の増加によって無端状ベルトのキズが大きくなったとしも、色ずれ検出パターンとベルトのキズを正確に判別することができ、色ずれ検出パターンの検出データだけを参照して色ずれ量を算出すること。 - 特許庁

Coincidence detector circuits 23, 24 set a flip-flop 6, when a pattern generation address signal inputted from a pattern generator 2 coincides with the address signal of the getting start of the source current, and resets the flip-flop 6, when it coincides with the address signal of the getting finish of the source current.例文帳に追加

一致検出回路２３、２４は、パターン発生器２から入力されるパターン発生アドレス信号が電源電流取得開始アドレス信号と一致した時に、フリップフロップ６をセットし、電源電流取得終了アドレス信号と一致した時に、リセットする。 - 特許庁

A second mask film 30 is formed on the second film 28, and a wiring pattern 32 is formed in the second mask film, and then, while the second mask film is being used as a mask, the second film 28 is etched to form a pattern 32 wherein the first mask film is exposed on the bottom.例文帳に追加

第２の被エッチング膜上に第２のマスク膜３０を形成し、第２のマスク膜に配線パターン３２を形成し、第２のマスク膜をマスクとして、第２の被エッチング膜をエッチングすることにより、第１のマスク膜が底部に露出したパターン３２を形成する。 - 特許庁

Therefore, even after power is interrupted and then the power is turned on (power recovery), a variation pattern is selected based on the variation pattern sorting table according to the kind and internal control state when power is interrupted, and the game amusement is achieved according to the condition when power is interrupted.例文帳に追加

その結果、電源断されて電源投入（復電）された後も電源断時の種別と内部制御状態に応じた変動パターン振分テーブルで変動パターンが選択されることになり、電源断時の状況に応じた遊技性を実現することができる。 - 特許庁

Left ends of a surface side lead pattern 16A for a thermoelectric module and a back side lead pattern 16B for the thermoelectric module which lead patterns are formed on a partition plate 1 are bonded to a Cu rod 2C arranged on the right end of a thermoelectric semiconductor element group fixed to the partition plate 1 by using solder 24.例文帳に追加

仕切板１上に形成された熱電モジュール用表側リードパターン16A および熱電モジュール用裏側リードパターン16Bの左端を、仕切板１に固定された熱電半導体素子群の右端に設けられたCuロッド2Cにハンダ24により接合する。 - 特許庁

The device makes a light 17 be incident on a finger print measuring part 12a at an angle not less than a critical angle and projects a light totally reflected from the measuring part 12a to an imaging device 11, and images an optical pattern corresponded to an uneven pattern of a finger 16.例文帳に追加

臨界角以上の角度で指紋測定部１２ａに光１７を入射し、この指紋測定部１２ａで全反射した光を撮像素子１１に出射し、指１６の凹凸パターンに応じた光パターンを結像させる凹凸パターン検出装置である。 - 特許庁

To provide an etching solution which causes less changes in an etching speed and a formable narrowest wiring pitch of a pattern due to the change of a spray pressure when forming a fine wiring pattern by executing etching using an etching solution in which oxalic acid is added to an iron chloride aqueous solution.例文帳に追加

塩化鉄水溶液にシュウ酸を添加したエッチング液を用いてエッチングを行い、微細な配線パターンを形成する際に、スプレー圧力の変化によって生じるエッチング速度やパターン形成可能な最狭配線ピッチの変化が少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

The plurality of reference patterns 12 has the same shape, and the specific pattern 13 is formed in a different shape from the reference patterns 12 or the layout relationship of the specific pattern 13 to the reference patterns 12 is different from the array of the reference patterns 12.例文帳に追加

複数の基準パターン１２が同一形状で形成され、特異パターン１３が基準パターン１２と異なる形状で形成されているか、又は、特異パターン１３の基準パターン１２に対する配置関係が基準パターン１２間の配列と異なっているものである。 - 特許庁

In the internal combustion engine 1, a first fuel injection pattern in which fuel is injected only by a cylinder injection valve 16 and a second fuel injection pattern in which fuel is injected only by an intake passage injection valve 15 are performed according to an engine operation state.例文帳に追加

内燃機関１では、筒内噴射弁１６のみにより燃料が噴射される第１の燃料噴射パターンと、吸気通路噴射弁１５のみにより燃料が噴射される第２の燃料噴射パターンとが機関運転状態に応じて実行される。 - 特許庁

The required circuit wiring pattern 2 is formed on the surface of the multilayered circuit board 1, and a mask 5, which is used for boring a connection opening 3 necessary for mounting of parts or connection to the other circuit board in a prescribed part of the circuit wiring pattern 2, is formed.例文帳に追加

多層回路基板１の表層に所要の回路配線パタ−ン２を形成し、この回路配線パタ−ン２の所定箇所には部品実装又は他の回路基板との接続に必要な接続用開口部３を形成する為のマスク５を形成する。 - 特許庁

In the dielectric filter, a conductor pattern 16 extended to connect short-circuit end faces or to connect the short-circuit end face and an open end face is formed on an adhered face of a dielectric substrate 11 between resonators, and the conductor pattern 16 between the resonators is formed to be wider at its middle part and narrower at its ends.例文帳に追加

共振器間の誘電体基板の貼り合わせ面に、短絡端面あるいは短絡端面と開放端面を接続するように伸びる導体パターンを形成し、この共振器間の導体パターンを中央部で広く、端部で狭く形成する。 - 特許庁

In either case (Yes in the S4003), game result information which is the number of points stored in the RAM is obtained (S4004), and a performance pattern concerning the reliability of prior read (an operation performance pattern of the accessory continuous operating device) is selected according to the game result information (S4005).例文帳に追加

いずれかの場合（Ｓ４００３でＹｅｓ）、ＲＡＭに格納されているポイント数であるゲーム結果情報を取得し（Ｓ４００４）、ゲーム結果情報に応じて先読みの信頼度に関する演出のパターン（役連装置作動演出パターン）を選択する（Ｓ４００５）。 - 特許庁

In the other embodiment, the movement of the small drops is decided in a manner that the small drops enter the feature pattern in a desired area and is substantially immobilized there by at least one characteristic of the nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drops.例文帳に追加

他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 - 特許庁

Then the mail transmission server calculates a point of the object of character animation by each character and each word (S107) and totalizes the points of the objects of the character animations as to each pattern of combinations of each character and each word for forming the received character string (S109) to rank the priority of each pattern.例文帳に追加

次に、各文字や単語ごとの、文字アニメーションの候補のポイントを計算し（Ｓ１０７）、受信した文字列となるような各文字や単語の組合わせのパターンごとに文字アニメーションの候補のポイントを合計して（Ｓ１０９）、パターンごとの優先順位をつける。 - 特許庁

An energy-saving support apparatus 1 includes a resource use information acquiring section 11, a target setting section 13, a reference amount acquiring section 14, a use planned amount arithmetic section 15, a storage section 16, a reduction pattern selection section 17, a recommendation pattern generation section 18 and a presentation section 19.例文帳に追加

省エネルギー支援装置１は、資源使用情報取得部１１と目標設定部１３と基準量取得部１４と使用予定量演算部１５と記憶部１６と削減パターン選択部１７と推奨パターン生成部１８と提示部１９とを備える。 - 特許庁

To provide a highly efficient LED luminaire with a high degree of freedom of an illumination pattern capable of forming an arbitrary illumination pattern with light emitted from the LED at an arbitrary distance with a combination of a reflector, an aspheric lens and a lens cover having optical property.例文帳に追加

ＬＥＤから放出される光を反射鏡、非球面レンズ、光学特性を持ったレンズカバーの組み合わせで任意の距離に任意の照射パターンが形成することができる高効率かつ照射パターンの自由度の高いＬＥＤ照明器具を提供する。 - 特許庁

The case for electronic component comprises a flexible substrate 10 having functional patterns 17 and 19 formed on the upper surface of a synthetic resin film 11, and a terminal connection pattern formed on the lower surface thereof wherein the functional patterns 17 and 19 are connected with the terminal connection pattern through a through hole 23.例文帳に追加

合成樹脂フイルム１１の上面に機能パターン１７，１９を形成し下面に端子接続パターンを形成すると共に機能パターン１７，１９と端子接続パターン間をスルーホール２３を介して接続してなるフレキシブル基板１０を具備する。 - 特許庁

The wiring section 30 for actuator drive signals comprises a first conductive pattern 32 formed on one surface 2102 in the thickness direction of the insulating substrate 21; and a second conductive pattern 34 formed on the other surface 2104 in the thickness direction of the insulating substrate 21.例文帳に追加

アクチュエータ駆動信号用配線部３０は、絶縁基板２１の厚さ方向の一方の面２１０２に形成された第１導電パターン３２と、絶縁基板２１の厚さ方向の他方の面２１０４に形成された第２導電パターン３４とで構成されている。 - 特許庁

During high-beam irradiation, a direct light from the light source 22a injected into the first additional reflector 36L is reflected diagonally to the lower right and then reflected frontward from the second additional reflector 40R to form an additional distribution pattern in a central region of a high-beam distribution pattern.例文帳に追加

ハイビーム照射時、第１付加リフレクタ３６Ｌに入射した光源２２ａからの直射光を、右斜め下方へ反射させた後、第２付加リフレクタ４０Ｒで前方へ反射させ、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを形成する。 - 特許庁

A drawing pattern is divided in a data conversion processing circuit 14 based on drawing data, a cross sectional contour of electron beam is formed rectangular in accordance with a drawing pattern after division and the formed rectangular electron beam is projected to a desired position of a drawing material.例文帳に追加

描画データに基づいてデータ変換処理回路１４において描画パターンを分割し、電子ビームの断面形状を分割後の描画図形に応じて矩形に成形し、成形された矩形状の電子ビームを被描画材料の所望位置に投射する。 - 特許庁

A decorative pattern 11 is formed on a surface of an external wall panel 1, a flat waterproof riser part 11x is formed by removing the decorative pattern 11, and a recessed groove 11y is formed on an upper end of the waterproof riser part 11x.例文帳に追加

外壁パネル１の表面には、加飾模様１１が形成されるとともに、その下端部には、加飾模様を削除して平坦面状の防水立ち上げ部１１ｘが形成され、また、防水立ち上げ部１１ｘの上端に凹溝１１ｙが形成されている。 - 特許庁

In the removing step, one end side of the wiring pattern 104 is removed so that a shortest distance from one end of the wiring pattern 104 to an end surface of the metal substrate 102 through a surface of the insulating layer 103 becomes longer than a thickness of the insulating layer 103.例文帳に追加

除去工程では、配線パターン１０４の一端から絶縁層１０３の表面を経て金属基板１０２の端面に到達するまでの最短距離が、絶縁層１０３の厚みよりも長くなるように、配線パターン１０４の一端側を除去する。 - 特許庁

In measuring the shape of the droplet changing with time, contrast information is extracted from the diffraction pattern being imaged (step S4-2), and the contrast of the central part of the diffraction pattern is so adjusted as to be a contrast enabling measurement of a contact diameter of the droplet (step S4-7).例文帳に追加

経時変化する液滴の形状計測において、撮像された回折パターンからコントラスト情報を抽出し（ステップＳ４−２）、回折パターンの中央部のコントラストを、液滴の接触径を計測可能なコントラストになるように調整する（ステップＳ４−７）。 - 特許庁

Since the peeling angle 39 is changed when the transfer sheet 15 performs suction, unevenness occurs intrinsically but the pattern is not drawn in the region 37 not drawn with the region 37 and therefore the effect of the unevenness does not appear in the pattern.例文帳に追加

剥離角度変化領域３５より外側は、転写シート１５を吸着する際に剥離角度３９が変化しているため、本来はムラが発生するが、絵柄非描画領域３７には絵柄が描画されていないため、絵柄にはムラの影響が現れない。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device having a gate insulating film, after the dummy gate pattern has been formed in a gate forming region on a semiconductor substrate, a first film is formed on the semiconductor substrate except for the dummy gate pattern, and a second film is formed on the first film, sequentially.例文帳に追加

ゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法において、半導体基板上のゲート形成領域にダミーゲートパターンを形成した後、ダミーゲートパターンを除いた半導体基板上に第１の膜と、第１の膜上に第２の膜とを順次形成する。 - 特許庁

This pattern control type automatic train control system includes the ground apparatus 4 for transmitting control information for controlling a train to a track circuit 3, and a pattern type automatic train control device 2 for receiving control information from the track circuit 3 for controlling the train 1.例文帳に追加

パターン制御式自動列車制御システムは、列車制御のための制御情報を軌道回路３に送信する地上装置４と、軌道回路３から制御情報を受信して列車１を制御するパターン式自動列車制御装置２とが設けられている。 - 特許庁

The power saving drive device includes: a DC-DC converter 93 driven by a battery 91 and an inverter 19 and is used for an apparatus 23 with the same load pattern, which is driven by a motor 21 whose power is supplied from the inverter and which is repeatedly operated in the same load pattern.例文帳に追加

バッテリ９１で駆動されるＤＣ−ＤＣコンバータ９３と、インバータ１９とを備え、インバータから電力供給されるモータ２１で駆動され、同一負荷パターンで繰り返し運転される同一負荷パターン装置２３の省電力駆動装置。 - 特許庁

An installation result image creation part 130 creates and displays on an image display part 110 an installation result image representing a joint pattern including the dummy joints by the arrangement of the selected plate building materials 10 in the selected arrangement pattern on the installation surface.例文帳に追加

施工結果画像作成部１３０は、施工対象面上に、選択された板状建材１０を選択された配置パターンで配置したときの疑似境界線を含めた境界線模様を示す施工結果画像を作成して、画像表示部１１０に表示する。 - 特許庁

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.例文帳に追加

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the dependency on the critical dimension (CD) pitch of a lithographic pattern printing process is associated with the spectrum intensity distribution of radiation used for projecting a pattern and therefore changes from system to system, which is a cause of mismatching of iso-dense bias among systems.例文帳に追加

リソグラフィ・パターン印刷プロセスのＣＤピッチ依存性は、パターンを投影するために使用される放射のスペクトル強度分布に関連付けられるので、システム毎に変化するため、システム間における孤立−稠密バイアス不整合の原因になっている。 - 特許庁

Light projected from the glass plate 2 as it is reflected from the pattern surface 1a of the mask 1 and another light projected from the glass plate 2 as it is reflected from the surface of the substrate 3 are detected, and a proximity gap between the surface of the substrate 3 and the pattern surface 1a of the mask 1 is measured.例文帳に追加

マスク１のパターン面１ａで反射してガラス板２から射出する光と、基板３の表面で反射してガラス板２から射出する光とを検出して、基板３の表面とマスク１のパターン面１ａとのプロキシミティギャップを測定する。 - 特許庁

A method for manufacturing a substrate with a Cu pattern is provided, in which the substrate with the Cu pattern is formed by treating a resin substrate with a strong alkaline aqueous solution, applying or printing a conductor ink containing copper element-containing particles to the treated resin substrate, and heating the patterned resin substrate to a temperature of 120°C or more in a gas atmosphere containing formic acid.例文帳に追加

樹脂基板を強アルカリ水溶液で処理した後、銅元素含有粒子を含む導体インクを塗布あるいは印刷により成形した後、ギ酸を含むガス雰囲気中で１２０℃以上に加熱するＣｕパターン付基板の製造方法。 - 特許庁