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Patternを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 50000



例文

The projector unit 30 is constituted such that the pin hole plate 32 provided with a pin hole 32a for focusing the optical image of the color pattern chart 34 is oppositely arranged on the light reception surface 5 of the imaging device with a prescribed distance to the light dispersion plate 31 provided with the color pattern chart 34.例文帳に追加

カラーパターンチャート34を有する光拡散板31に、所定距離をおいて撮像素子の受光面5にカラーパターンチャート34の光学像を結像させる孔32aを有するピンホール板32を対向配置させて、投影ユニット30を構成した。 - 特許庁

In a first etching step of a method for forming metallic pattern, about 1/6 of the top portion of a lower electrode forming film 17A is etched with a mixed gas of chloride supplied at a flow rate of 0.09 slm and Ar supplied at a flow rate of 0.01 slm by using a resist pattern 18 as a mask.例文帳に追加

第1のエッチング工程において、流量0.09slmの塩素と流量0.01slmのArとの混合ガスを用いて、レジストパターン18をマスクとして下部電極形成膜17Aの上部の6分の1程度に対してエッチングを行なう。 - 特許庁

In the case of designing a reticule aligning a 70 nm line 12A at an upper right end of the chip for which the chips are present in all directions, back-scattering from a large pattern 11 of the chips present at upper, upper right and right parts of the line 12A is taken into consideration, and the reticule pattern is designed.例文帳に追加

八方にチップの存在するチップの右上端の70nmライン12Aを露光するレチクルを設計する場合、ライン12Aの上方、右上方、右方にあるチップの大パターン11からの後方散乱を考慮して、レチクルパターンを設計するようにする。 - 特許庁

To provide an ink keys controlling method and an ink keys controlling device, which is effective for realizing a stable controlling by reducing the influence due to the difference between a high pattern areal percentage and a low one even under the condition that there exists the difference between the high pattern areal percentage and the low one in one printed matter.例文帳に追加

1つの印刷物中で絵柄面積率の高低差がある場合でも、絵柄面積率の高低差による影響を低減し、安定した制御を実現する為に有効なインキキー制御方法及びインキキー制御装置の提供を目的とする。 - 特許庁

例文

The belt-like printed pattern 1 on a printed matter 10 is made to look like a printed pattern with a haloed belt border by setting a gradation region 1 g which changes parallel with the outer edge, in the neighborhood of the outer edge of a part stretching upto the outer edge E of the printed matter 10.例文帳に追加

印刷物10上の帯状の印刷模様1が、印刷物の外縁Eまで伸びた部分の外縁近傍に於いては、外縁に平行な方向に変化するグラデーション領域1gを設けて帯の境界を暈した印刷模様とする。 - 特許庁


例文

The game machine is constituted so as to select one operation pattern from among a plurality of kinds of operation patterns by drawing to drive-control a motor for moving an operation area for moving the operation area of an induction increasing apparatus of a special game device 36 by the selected operation pattern.例文帳に追加

複数種類の動作パターンのうちから抽選により1つの動作パターンを選択して、選択された動作パターンにより特別遊技装置36の誘導増加装置作動領域を移動させる作業領域移動用モータを駆動制御する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of forming an image with high sensitivity by exposure or heating, giving a high resolution and high sharpness image and capable of forming an image with an infrared laser or the like on the basis of digital data and to provide an image forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

露光或いは加熱により高感度で画像を形成でき、高解像度で、鮮鋭度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等によりデジタルデータに基づいた画像形成が可能なパターン形成材料及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative plastic container which is excellent in recycle suitability and has high design properties including a picture pattern-like pattern by directly forming thin films with different refractive indices on the surface of a plastic container substrate by a vapor deposition, coating or printing means.例文帳に追加

プラスチック容器基材表面に屈折率の異なる薄膜を蒸着、塗工または印刷手段によって直接設けることにより、リサイクル適性に優れた、絵柄状のパターンを含む、意匠性の高い加飾プラスチック容器を提供することである。 - 特許庁

A correction pattern estimating section 14 estimates candidates, with which error of a bit array of the reception data can be detected from the calculated correction patterns, based on relations between the bit array of the reception data and the correction patterns calculated by the correction pattern calculating section 13.例文帳に追加

訂正パターン推定部14は、受信データのビット列と訂正パターン算出部13により算出された訂正パターンとの関係に基づいて、算出された訂正パターンのうちから受信データのビット列の誤りを検出可能な候補を推定する。 - 特許庁

例文

Scrambled pattern data, necessary for executing scramble processing to a transport stream for each packet, are preliminarily registered in a scramble pattern table 141 of a scrambler 14, and at the starting of scrambling, a label is transmitted from a scramble controller 13 to a scrambler 14.例文帳に追加

トランスポートストリームに対し各パケット毎のスクランブル処理を実行するために必要なスクランブルパターンデータを、スクランブラ14のスクランブルパターンテーブル141に予め登録しておき、スクランブル開始時に、スクランブル制御装置13からスクランブラ14に対しラベルを送信する。 - 特許庁

例文

To sufficiently ensure brightness of a diffusion region of a light distribution pattern after reducing the longitudinal length of a lamp unit, in a vehicular headlamp which is structured to form a predetermined light distribution pattern by light irradiation from a projector type lamp unit.例文帳に追加

プロジェクタ型の灯具ユニットからの光照射により所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの前後長を短くした上で、配光パターンの拡散領域の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁

In a manufacturing process of the thin film device 10, a resin insulating film 14 is likely to be filled so as to coat the conductive film pattern 12 covered with a covering insulating film 13 so that the conductive film pattern 12 is sufficiently insulated from the circumference.例文帳に追加

薄膜デバイス10の製造過程において、被覆絶縁膜13により被覆された状態の導電膜パターン12を被覆するように樹脂絶縁膜14が充填されやすくなるため、その導電膜パターン12が周辺から十分に絶縁される。 - 特許庁

After making a desired wiring pattern and a pattern plating for depositing a metal on the minimum required part by opening the protective resist and applying an electricity in the vicinity thereof, the protective resist is removed, and unnecessary seed layers including a scribe line are collectively removed by a wet etching.例文帳に追加

所望の配線パターン、及び、その近傍で保護レジストを開口して通電し、必要最小限の部分に金属を堆積させるパターンめっきを行った後に、保護レジストを除去し、ウエットエッチングによりスクライブラインを含めた不要なシード層を一括して除去する。 - 特許庁

A receiving device which is arranged apart from the transmitting device with insufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern of the low resolution space, and a receiving device with sufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern which is mapped to the space with higher resolution.例文帳に追加

送信装置から離れて解像度が十分でない受信装置は低解像度空間の2次元点滅パターンを読み取り、また、解像度が十分な受信装置はより高解像度の空間にマッピングされた2次元点滅パターンを読み取ることができる。 - 特許庁

A control circuit 40 detects opening of the case 11 based on comparison between a signal pattern P of a received optical signal output from the light-receiving sensor 28, in response to the radiation light Ld for detection from the light source 22 for detecting opening and a pattern Pd for detecting opening.例文帳に追加

そして、制御回路40は、開封検知用光源22からの検知用照射光Ldに応じて受光センサ28から出力される受光信号の信号パターンPと開封検知用パターンPdとの比較に基づいて筐体11の開封を検知する。 - 特許庁

The sewing data producing device 11 is provided with a transfer control means 22a for calculation and display so that the part from the retracted position WP to the start position SS of the pattern 1 is changed for the actual sewing pattern 4 to be transferred to the transfer position MP.例文帳に追加

縫製データ作成装置11では、縫いパターン1のうちの退避位置WPから縫い始め位置SSまでの部分を変化させて実縫いパターン4を移動先位置MPに移動するように演算表示する移動制御手段22aを設ける。 - 特許庁

Whether or not the game state of a pachinko machine is a specified game state is judged (S42), and in the case of the specified game state (S42: YES), a fluctuation start flag is turned ON so as to perform the fluctuation of the pattern of a special pattern display device by the next one interruption (S43).例文帳に追加

パチンコ機の遊技状態が特定遊技状態であるか否かを判定して(S42)、特定遊技状態の場合には(S42:YES)、次の1割込で特別図柄表示装置の図柄の変動ができるように変動開始フラグをONとする(S43)。 - 特許庁

The control part 5 registers a cutting pattern of the grinding wheel attained by the moving motor M2 and the cutting motor M1, and grinding correction work is completed by reciprocating in a predetermined grinding correction section while rotating the grinding wheel based on the cutting pattern.例文帳に追加

制御部5には、移動用モータM2及び切込み用モータM1によって実現される砥石の切込みパターンが登録されており、この切込みパターンに基づいて、砥石を回転させつつ所定の削正区間を往復することで削正作業を完了させる。 - 特許庁

A state variable and a control parameter are detected (S101 and S102), and a pattern for image quality detection is formed on an image carrier (S103), and image quality characteristics are operated from the quantity of reflected light of the pattern (S104 and S105), and degradation of image quality is determined by an operation result (S106).例文帳に追加

状態量及び制御パラメータを検知し(S101,102)、像担持体上に画質検知用パターンを形成し(S103)そのパターンの反射光量から画質特性を演算し(S104,105)、演算結果から画質の劣化を判定する(S106)。 - 特許庁

Then, the small prize pattern stored in the general game state, i.e., the small prize pattern determined as the internal winning symbol combination in the general game state is determined as the internal winning symbol combination in an AT game state where the internal winning symbol combination is announced for each unit game.例文帳に追加

そして、単位遊技ごとに内部当籤役が報知されるAT遊技状態において、一般遊技状態で記憶された小役、すなわち一般遊技状態で内部当籤役として決定された小役が内部当籤役として決定される。 - 特許庁

Next, the relative position is adjusted by rotating or moving the memory medium and/or the transfer master so as to avoid or reduce defective transfer of a transfer pattern caused by overlap of the foreign matter or the defect on the surface of the memory medium and the transfer pattern with each other (step S3).例文帳に追加

続いて、記憶媒体及び/又は転写マスタを回転若しくは異動させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減する様に、相対位置を調整する(ステップS3)。 - 特許庁

A means formed of an optical sensor and an automatic sheet feeder, to which a reading pattern is added, and for determining paper sheet size by detecting position of the paper sheet with the optical sensor on the basis of a reading value of the reading pattern is made to also work as a means for determining sort of the paper sheet.例文帳に追加

光学式センサと、読取用パターンを付加したオートシートフィーダからなり、前記光学式センサが前記読取用パターンの読取値から位置を検出することにより用紙サイズを判別する手段と、用紙種類を判別する手段を兼用する。 - 特許庁

In this case, the first and second solders 34a, 34b are shaped to make contact tightly with the surface of the first terminal 24a and the surface of the first pattern 32a, and with the surface of the second terminal 24b and the surface of the second pattern 32b therealong, respectively.例文帳に追加

この場合、第1及び第2の半田34a、34bの形状は、第1の端子24aの表面と第1の配線パターン32aの表面、及び、第2の端子24bの表面と第2の配線パターン32bの表面に沿って密着した形状となる。 - 特許庁

The annular pattern electrode of the pattern electrode 58 includes a refractive index distribution forming electrode group 27 forming a refractive index distribution of liquid crystal 50 within an effective diameter 40, and an orientation stabilizing electrode 30 provided around the refractive index distribution forming electrode group 27.例文帳に追加

パターン電極58の輪帯パターン電極は、有効径40内に液晶50の屈折率分布を形成する屈折率分布形成電極群27と、屈折率分布形成電極群27の周囲に設けられた配向安定電極30とからなる。 - 特許庁

The image density of a toner pattern more easily causing the transfer dust than a toner pattern for process control is detected by a P sensor 50, and bias applied to a discharging blade 40 when a result of detection is within a predetermined image density range is set as a proper value.例文帳に追加

プロセスコントロール用のトナーパターンよりも転写チリを起こし易いトナーパターンの画像濃度をPセンサ50によって検知し、その検知結果が所定の画像濃度範囲内に入った際の除電ブレード40に印加したバイアスを適正値として設定する。 - 特許庁

To simultaneously realize exposure processing for the width of a film carrier tape for mounting multithread electronic parts even on the carrier pattern of the same width or the carrier pattern of different width in accordance with the product wiring patterns of the multiple carrier patterns without exchanging an exposure device.例文帳に追加

露光装置を取り替えることなく、複数のキャリアパターンの製品配線パターンの種類に応じて、同じ幅のキャリアパターンであっても、異なる幅のキャリアパターンであっても、同時に多条電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅にわたって露光処理を可能とする。 - 特許庁

To provide a wiring board and a multilayer wiring board allowing formation of a high level conductive circuit pattern on a board, formation of excellent conductive layer of conductive circuit pattern, and realizing low cost and production in small amount of versatile products.例文帳に追加

基板上に高度な導電性の回路パターンが形成され、また、導電性の回路パターンの導体層を良好に形成することができ、低コスト化、多種少量生産化を図ることができる配線基板および多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the pattern preparing process are rated based on the preset degree of column adjacency, degree of planar dispersion and degree of vertical dispersion in every direction to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度,平面的分散度,立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

A mask correction unit 3 is determined in accordance with the space dependence 7 of a pattern obtained through photolithography and etching steps, design data 1 for producing a photomask are corrected using the mask correction unit 3 and the objective photomask is produced with a pattern forming device.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性7に基いてマスク補正単位3を決定し、このマスク補正単位3を用いてフォトマスク作成用の設計データ1に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。 - 特許庁

To enhance productivity of an optical wave guide circuit device by forming an electrode pattern by making the wet etching from an electrode layer laminated by sputters on the thin film heater pattern of a heating device of the optical wave guide circuit device which can tune an optical path length finely.例文帳に追加

光路長を微調整可能な光導波回路装置の加熱装置の薄膜ヒータパターンの上にスパッタ法により積層した電極層からウエットエッチングして電極パターンを成形することによりその光導波回路装置の生産性を高める。 - 特許庁

This manufacturing method includes the following process: a lower conducting film is formed on a semiconductor substrate, and a lower sacrificial film pattern and an upper sacrificial film pattern, which are laminated, is sequentially formed on the lower conducting film; then a mask spacer is formed on the sidewalls of the sacrificial film patterns.例文帳に追加

この方法は、半導体基板上に下部導電膜を形成し、その結果物上に順次に積層された下部犠牲膜パターン及び上部犠牲膜パターンを形成した後に、上部及び下部犠牲膜パターンの側壁にマスクスペーサを形成する段階を含む。 - 特許庁

A basic pattern for determining the basic performance of a tire tread comprising wide grooves 1, and a cut-pattern comprising thin cuts 6 having the shallow depth which has substantially no effect on the traveling characteristic of a tire, are determined to be the same for all tread patterns.例文帳に追加

幅広の溝1からなりタイヤトレッドの基本性能を定める基本パタ−ンと、タイヤの走行特性に実質的に影響を与えない程度の浅い深さを有する細い切り込み6からなる切り込みパターンとを、全てのトレッドパタ−ンに対して同一に決定する。 - 特許庁

The pattern shape is formed such that a ratio occupying in a direction parallel to the dicing line 4 is larger than a ratio occupying in a direction vertical to the dicing line 4, and includes a flowage region 13 facilitating flow of an etchant for forming the pattern shape.例文帳に追加

このパターン形状は、ダイシングライン4に平行な方向に占める比率が、ダイシングライン4に垂直な方向に占める比率よりも大きく形成され、パターン形状を形成するためのエッチング液の流動を促す流動領域13を含んでいる。 - 特許庁

The replacement of symbols changes the timing of displaying the symbols in the LCD, so that a successive variation pattern designated by a variation pattern designating command can be terminated at the stopped symbols designated by the stopped symbol designating command.例文帳に追加

この図柄の差し替えにより、LCDディスプレイへの図柄の表示タイミングを変更することができるので、変動パターン指定コマンドにより指定された一連の変動パターンを、停止図柄指定コマンドにより指定された停止図柄で終了させることができる。 - 特許庁

This standard cell has various types of patterns constituting transistors in a rectangular cell frame, and the pattern includes a threshold adjustment pattern for adding impurities adjusting the threshold voltages of the transistors arranged over nearly the whole of a constituent region of the transistors in the cell frame.例文帳に追加

スタンダードセルは、矩形のセル枠内に、トランジスタを構成する各種のパターンを有し、パターンは、セル枠内のトランジスタの構成領域の略全体にわたって配置された、トランジスタの閾値電圧を調整する不純物を添加するための閾値調整パターンを含む。 - 特許庁

The resist pattern 11 is removed, and the entire surface of the silicon oxide film 3 is etching-processed until the remaining silicon oxide film 3 is completely removed, thus thinning the thickness of the silicon oxide film 3 covered with the resist pattern 11 and forming a side wall spacer 7.例文帳に追加

レジストパターン11を除去して、残ったシリコン酸化膜3が完全に除去されるまで、シリコン酸化膜3の全面をエッチング処理することにより、レジストパターン11で覆われていたシリコン酸化膜3の厚みを薄くするとともにサイドウォールスペーサ7を形成する。 - 特許庁

A resist pattern forming method includes: a resist film forming step of forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition; an exposure step of selectively irradiating the resist film with exposure light; and a development step of developing a pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対し露光光を選択的に照射する露光工程と、パターンを現像する現像工程とを含む。 - 特許庁

Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.例文帳に追加

すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁

When electricity is supplied to the motor 27 for forming pattern air, its voltage and current are kept stable without fluctuation, and therefore the rotation number of the axial-flow compressor 29 as well as the flow volume and the flow velocity of the pattern air are stabilized.例文帳に追加

パターンエア生成用モータ27に電力を供給する際には、その電圧値や電流値を変動させずに安定した状態で供給することができるので、軸流圧縮機29の回転数及びパターンエアの流量及び流速が安定する。 - 特許庁

To provide a glass ceramic wiring board, where dimension precision and precision in the formation of a surface circuit pattern are high, a resistor pattern is formed, and covering by a thermosetting resin is not required in plating, by surely restricting the sintering shrinkage of a glass ceramic green sheet.例文帳に追加

ガラスセラミックグリーンシートの焼結収縮を確実に拘束して、寸法精度および表面回路パターンの形成の精度が高く、抵抗体パターンが形成されており、メッキを施す際に熱硬化樹脂による被覆が不要なガラスセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a printer using a DC brushless motor, in particular, a printer that prevents toner from adhering to a transfer belt in a stripe pattern, and thereby not causing image failure in a band pattern, as well as a drive control method of the printer.例文帳に追加

本発明はDCブラシレスモータを使用する印刷装置に関し、特に転写ベルトへのスジ状のトナーの付着を防止し、用紙にバンド状の画像障害を生じさせることのない印刷装置、及び印刷装置の駆動制御方法を提供するものである。 - 特許庁

Besides, reading the limit speed includes an image processing for completely narrowing a search area for pattern matching from an entire range of the photographed image in the front of the train, and for recognizing a signal in the front of the train by performing pattern matching in real time.例文帳に追加

なお、前記制限速度の読み取りは、列車前方の撮影画面の全領域の中からパターンマッチングのための探索エリアを確実に絞り込み、リアルタイムでパターンマッチングを行って列車前方の信号機を認識することを含む画像処理を含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing technique that prevents a reduction in read rate of digital information in copies of subsequent generations, in copying or scanning a printed material having a specific format pattern (e.g., a barcode pattern) containing digital information.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン(バーコードパターン等)が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、次の世代以降のコピー時におけるデジタル情報の読取率の低下を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

A Pachinko gaming machine 10 includes driving devices 100A, 100B, 100C, and 100D, and drive control data corresponding to operation pattern data are generated from the operation pattern data specifying operation contents of the driving devices for a predetermined time period for respective driving devices.例文帳に追加

本実施形態のパチンコ遊技機10は、駆動装置100A,100B,100C,100Dを備え、各駆動装置の所定期間に亘った動作内容を駆動装置ごとに各々個別に特定する複数の動作態様データから、動作態様データに対応した駆動制御データ生成する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method in which stored energy distribution in a resist film is generated in electron beam lithography while taking influence of front scatter and back scatter of electron beam scatter into consideration, and the energy distribution is applied to optimization of exposure conditions and a pattern size.例文帳に追加

電子線リソグラフィにおいて、電子線散乱による前方散乱と後方散乱の影響を考慮したレジスト膜中の蓄積エネルギー分布を作成し、露光条件やパターンサイズの最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the pattern of the resist mask for processing the shape of the (p) layer or (n) layer of the top layer is formed to be a size smaller than the pattern of the resist mask for processing the shape of the (i) layer though a mask having the same shape is used.例文帳に追加

上記構成により、同一の形状を有するマスクを用いながらも、最上層のp層或いはn層の形状を加工するためのレジストマスクのパターンを、i層の形状を加工するためのレジストマスクのパターンよりも、1回り小さく形成することができる。 - 特許庁

To perform highly accurate sewing along the shape of a punch part forming a punch pattern and also to improve sewing efficiency when the punch pattern is formed on the front surface of the fabric for a sewn product to be the base material of a bag or other various sewn products.例文帳に追加

鞄その他の各種縫製品の素材となる縫製品用生地の表面に打ち抜き模様を形成するに際し、打ち抜き模様を形成する打ち抜き部の形状に沿って高精度な縫製を可能とするとともに縫製効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium which significantly increases a recording density while performing smoothing of a magnetic layer having a sharp magnetic recording pattern, and minimizes cohesive force and residual magnetization in an area between magnetic recording pattern parts.例文帳に追加

鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行いつつ、記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

Since an irradiation object of inspection light is formed as the inspection pattern having a larger area than the diffraction pattern, the irradiation object can be aimed surely, even if the diameter of inspection light irradiated from an irradiation part is large, to thereby execute an inspection work easily.例文帳に追加

照射部から照射される検査光の直径が大きくても、検査光の照射対象を面積が回折パターンより大きい検査用パターンとしたことで、確実に照射対象を狙うことができ、検査作業を容易に実施することができる。 - 特許庁




  
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