「Scanning Probe Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The testing method of semiconductor device comprises a steps of forming an electrode 10 on the main surface of a semiconductor test sample, cutting out a semiconductor test sample, exposing the cross-section of the semiconductor test sample, and obtaining carrier distribution within the cross-section by scanning the cross-section with a probe 14 of the scanning probe microscope while the predetermined potential is applied to the electrode 10.例文帳に追加

半導体試料の主面上に電極１０を形成する工程と、半導体試料を切断し、該半導体試料の断面を露出させる工程と、前記電極１０に所定電位を与えながら、走査型プローブ顕微鏡のプローブ１４で上記断面を走査することにより、該断面内におけるキャリア分布を得ることを特徴とする半導体装置の検査方法。 - 特許庁

To provide an inspection method for inspecting a semiconductor by which the continuity of circuit elements in a semiconductor device can be inspected by observation by a scanning charged particle microscope such as an electronic microscope without performing such troublesome work as the random access operation of a probe, and to provide a system for obtaining the same.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、プローブのランダムアクセス操作のような厄介な作業をすることなく、電子顕微鏡等の走査型荷電粒子顕微鏡の観察から半導体デバイスにおける回路要素の導通等の検査を可能とする検査手法を提示し、それを実現するシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and a system for inspecting a semiconductor by which the continuity etc., of circuit elements in a semiconductor device can be inspected by observation by a scanning charged particle microscope such as the electronic microscope etc., without performing such troublesome work as the random access operation of a probe.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、プローブのランダムアクセス操作のような厄介な作業をすることなく、電子顕微鏡等の走査型荷電粒子顕微鏡の観察から半導体デバイスにおける回路要素の導通等の検査を可能とする検査手法を提示し、それを実現するシステムを提供することにある。 - 特許庁

In this method of manufacturing the probe made of iridium, used in the scanning tunneling microscope(STM), a calcium chloride solution incorporated with acetone is used as an electrolyte, and a parallel plate type electrodes made of graphite are used as opposed electrodes in electrolytic grinding to manufacture the acute probe made of iridium, easy to handle, by an electrolytic polishing method.例文帳に追加

走査トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）で使用するイリジウム製探針の製作方法において、アセトンを添加した塩化カルシウム溶液を電解液とし、かつ電解研削時の対向電極として黒鉛製平行平板型電極を用いて電解研磨法により、取り扱いが容易な尖鋭なイリジウム製探針を作製する。 - 特許庁

A plurality of point probes having sharp tips 1, 2, 3 and 4 access sample electrodes 5, 6, 7 and 8 respectively until contact currents saturate and contact with them securely, while observing through a scanning electron microscope, by the control of a point probe moving control circuit 18 by using point probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁

To widen the contact area between a probe and a sample in measurement, to reduce the contact pressure thereby to restrain a sample surface from being deformed, to restrain the contact area with the sample from being dispersed, and to eliminate dispersion in physical property measurement of the sample surface to allow stable measurement, in a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡において、測定時にプローブと試料との接触面積を大きくし、接触圧を下げ、試料表面の変形を抑えること、また試料との接触面積のばらつきを抑え、試料表面の物性測定においてばらつき無く安定に測定できるようにすること。 - 特許庁

While observing with a scanning electron microscope, a plurality of probes 1, 2, 3 and 4 each having a sharp tip are made to approach sample electrodes 5, 6, 7 and 8, respectively, and made to come into contact with them completely until a contact current saturates by the use of probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17 under the control of a probe movement control circuit 18.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁

The scanning electromagnetic wave microscope is characterized by that it comprises an electromagnetic wave generating means, an electromagnetic wave emitting means or an electromagnetic wave inducing means of emitting or propagating an electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating means to one or both of a probe and the sample, and the probe provided near the sample surface.例文帳に追加

本発明の走査型電磁波顕微鏡は、電磁波発生手段と、電磁波発生手段で発生させた電磁波をプローブやサンプルの一方、または双方に入射または伝播させる電磁波入射手段または電磁波誘導手段と、サンプル表面に近接して設けられたプローブとからなることを特徴とする。 - 特許庁

A cantilever provided with a spherical member in a tip part of a probe is used in this scanning probe microscope for measuring the sample surface properties, comprising the cantilever having the fine probe in its tip part, a means for detecting a displacement of the cantilever, a means for oscillating the cantilever or the sample at a fixed cycle by a desirable amplitude quantity, and a sample moving means for moving the sample.例文帳に追加

先端に微小な探針を有するカンチレバーとカンチレバーの変位を検出する手段とカンチレバーまたは試料を一定周期で所望の振幅量で振動させる手段と試料を移動させる試料移動手段からなり、試料の表面物性を測定する走査型プローブ顕微鏡において、探針の端部に球状のものを設けたカンチレバーを使用することにした。 - 特許庁

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5.例文帳に追加

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。 - 特許庁

To prevent poor transfer and obtain a highly fine image of high quality by configuring an endless belt so that a ten-point mean roughness of a surface of the endless belt, measured with a scanning probe microscope, is in a range from not less than 2.1 nm to not more than 11.0 nm.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡によって測定した表面の十点平均粗さが２．１〔ｎｍ〕以上、かつ、１１．０〔ｎｍ〕以下の範囲となるようにして、転写不良が発生せず、高品質な高精細画像を得ることができるようにする。 - 特許庁

After a resist film 11 is coated on the surface of a substrate 10 and a layer of atom 12 is formed on the resist film 11, atoms 12 is pulled out of the layer of the atoms 12 according to the designed pattern by the use of probe 13 of scanning tunneling microscope.例文帳に追加

基板１０の表面にレジスト膜１１を塗布し、次いで、前記レジスト膜１１上に原子１２の層を形成した後、走査型トンネル顕微鏡の探針１３を用いて設計パターン様に前記原子１２の層から原子１２を引き抜く。 - 特許庁

To provide a technology for cleanly removing chips with the shaving of defects by a scanning probe microscope, without being restricted even by the surface tension of adsorption water existing on the surface or static charge with friction on a sample surface.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡による欠陥部削り落としに伴う切り粉が、表面に存在する吸着水の表面張力や摩擦にともなう帯電によっても試料面に拘束されることなく綺麗に除去される技術を提示する。 - 特許庁

To provide a forming method of an outgoing wiring, which effects the forming of leader wiring and connection to a substrate simultaneously while retaining collimation between a test piece and the substrate, and a manufacturing method of the test piece for scanning-type probe microscope to which this forming method is applied.例文帳に追加

引出配線の形成と基板との接合を同時に行い、かつ試料と基板の平行性を保持する引出配線の形成方法及びこの形成方法を適用した走査型プローブ顕微鏡用試料の作成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a scanning probe microscope capable of expanding a measuring range in the measurement of a sample of which the surface irregularities are severe and capable of measuring accurate physical characteristics not affected by the unstable deformation of the leading end of the laser reflecting surface of a cantilever.例文帳に追加

表面凹凸の激しい試料の測定において測定範囲を広げること および カンチレバーのレーザ反射面先端の不安定変形の影響の無い正確な物理特性を測定可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The surface irregularity measuring device for measuring the irregularity of the surface using a scanning probe microscope is configured to measure the irregularity of the surface of the measured sample, calculate a gray-level histogram of the measured data and perform the calibration of the sample measurement.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡を用いた試料の表面の凹凸を測定する表面凹凸測定装置であって、測定した試料表面の凹凸を測定し、この測定したデータのグレイレベルヒストグラムを算出して試料測定のキャリブレーションを行なうように構成する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope suitably adapted to the study of the observation of the lattice of lines of magnetic induction or an electron state in a magnetic flux inlusive of the study of a nanoscale non-uniform superconductive state and the observation of the uneven image on the surface of a sample, and its using method.例文帳に追加

ナノ・スケール不均一超伝導状態の研究を始めとして、磁束線格子の観測や磁束内電子状態の研究、さらには試料表面の凹凸像の観測に適用して好適な走査プローブ顕微鏡およびその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a standard sample for a scanning probe microscope and a carrier concentration measurement method, capable of finding the correlations between the carrier concentrations and the local electrical characteristics (including the characteristics of spreading resistance, capacitance and nonlinear dielectric constant) more accurately than conventionally.例文帳に追加

キャリア濃度と局所的電気特性（広がり抵抗、静電容量特性及び非線形誘電率特性を含む）との相関を従来よりも正確に求めることができる走査プローブ顕微鏡用標準試料及びキャリア濃度測定方法を提供する。 - 特許庁

The scanning type probe microscope is provided further with an acquisition-registering means for acquiring and registering a reference pattern for alignment, and a recipe formation means for recipe-registering the luminous energy to an illuminance when registering an image pattern to a recipe by the acquisition-registering means.例文帳に追加

さらに走査型プローブ顕微鏡は、アライメントのための参照用パターンを取得・登録する取得登録手段と、この取得登録手段によって画像パターンをレシピに登録した時の照度に光量をレシピに登録するレシピ化手段とを備える。 - 特許庁

The scanning probe microscope comprises: the cantilever 14 provided with prove 13; the moving mechanisms 11 and 17 for relatively moving the position of the probe to the sample 10; the detection means for detecting the specific physical amount; the measurement means for measuring the surface of the sample; and the measurement control means 60 for controlling the operation of the moving mechanisms and the measurement means.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡は、探針１３を有するカンチレバー１４と、試料１０に対する探針の位置を相対的に変化させる移動機構１１，１７と、所定物理量を検出する検出手段と、試料表面を測定する測定手段と、移動機構と測定手段の動作を制御する測定制御手段６０を備える。 - 特許庁

This cantilever for a scanning type probe microscope is provided with: a flexible beam 120 with one end 121 fixed to a base part 110; a probe 130 formed on the side of the other end 122 of the flexible beam 120; and a through-hole 140 formed in a region including the prove 130 and the side of the other end 122 of the flexible beam 120.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーは、一端１２１が基部１１０に固定されている可撓性の可撓梁１２０と、可撓梁１２０の他端１２２の側に設けられている探針１３０と、探針１３０と可撓梁１２０の他端１２２の側とを含む領域に形成されている貫通孔１４０とを備えている。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

A joint section where the carbon nanotube adheres to the tip of the probe of the scanning probe microscope or the handling equipment, is dipped in a dielectric liquid section, and a portion of liquid is solidified around the joint section in order to form a reinforcing section, by applying a potential difference between the joint section and the liquid section by using an external power source, thereby reinforcing the joint section.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡あるいはハンドリング機器のプローブ先端部とカーボンナノチューブとの付着部である接合部を誘電体である液体部に浸し、該接合部と液体部間に外部電源装置によって電位差を付与させて接合部周囲に液体の一部を固化させて補強部を形成し、以って接合部を強化する。 - 特許庁

To provide a microscopic surface temperature distribution measuring device capable of measuring a temperature of a microscopic area of 1μm or less without adopting a composition wherein a microscopic temperature measuring means is arranged on a microscopic tip of a cantilever which is a cause of error in temperature measurement in a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡における温度測定の際の、誤差の原因であるカンチレバーの微小先端に微小な温度計測手段を配置するという構成を採らずに、１μｍ以下の微小領域の温度を計測できる微小表面温度分布測定装置の提供。 - 特許庁

This scanning probe microscope is characterized by having the electrically independent plural probes 10a, 10b or the like, among which two or more probes 10a, 10b or the like are nanotube probes and one or more probes 10a, 10b or the like are equipped with image observation function.例文帳に追加

電気的に独立した複数のプローブ１０ａ，１０ｂ等を有し、プローブ１０ａ，１０ｂ等のうち、２本以上のプローブ１０ａ，１０ｂ等がナノチューブプローブであり、かつ、１本以上のプローブ１０ａ，１０ｂ等が像観察機能を備えることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡である。 - 特許庁

The semiconductive belt includes an elastic layer made of a semiconductive rubber and a surface layer, wherein the surface layer is composed of a resin layer, containing a polytetrafluoroethylene resin fine powder, and a hardness-corresponding peak voltage value of the surface layer measured by an SPM (scanning probe microscope) method is ≤-6.35 V.例文帳に追加

半導電性ゴムからなる弾性層と表面層からなり，表面層はポリ四フッ化エチレン樹脂微粉末を含有する樹脂層からなり，表面層のＳＰＭ法（走査型プローブ顕微鏡）で測定した硬度対応ピーク電圧値が−６．３５Ｖ以下である半導電性ベルトとする。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope for certainly sticking a sample to a substrate, more concretely, without using a metal ion source as a solution, and without requiring an expensive coat on the rear surface of a cantilever.例文帳に追加

本発明は走査型プローブ顕微鏡に関し、更に詳しくは溶液として金属イオン源を用いることなく、またカンチレバー背面に高価なコートをする必要がなく、かつ試料を確実に基板に付着させることができる走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope capable of separately measuring frictional force deriving from surface force such as adsorptive force corresponding to the surface conditions of a sample and frictional force caused by the coefficient of friction of the surface of the sample.例文帳に追加

試料表面の摩擦力を測定する際に、試料の表面状態に対応した吸着力等の表面力に基づく摩擦力と、試料表面の摩擦係数に基づく摩擦力とを分離して測定することが可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method using a scanning probe microscope capable of quantitatively grasping the irregularity of the shape or physical properties of the pattern on a two-dimensional plane, the relation between the shape and physical properties of the pattern, pattern arrangement precision and the like in the analysis of the pattern having feasures in its shape, physical properties or the like.例文帳に追加

形状もしくは物性等に特徴を有するパターンの解析において、二次元平面でのパターン形状や物性のばらつき、パターン形状と物性の関係、パターン配列精度等を定量的に把握することができる測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional membrane structure measuring method of a scanning probe microscope capable of measuring the surface shapes of respective layers at every manufacturing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a multilayered structure to synthesize the measurement results and capable of analyzing and evaluating those measuring results using the data of a multilayer.例文帳に追加

多層構造を有する半導体デバイスの製造プロセスで、各層の表面形状を製造工程毎に計測し、それらの計測結果を合成し、多層のデータを用いて解析・評価することができる走査型プローブ顕微鏡の立体膜構造測定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a low vacuum scanning electron microscope including an evacuation system in which an orifice diameter can be made larger than the conventional one so that a throughput until observation from sample exchange can be improved, and a required amount of a probe current can be obtained when irradiating an electron beam.例文帳に追加

本発明の目的は、試料交換から観察までのスループット向上を図ると共に、電子ビーム照射時には、必要なプローブ電流量が得られるようオリフィス径を従来より拡大することができる排気システムを備えた低真空電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁

To provide a cylinder piezoeletric element and a scanning probe microscope, with which an error of straightness can be corrected with a simple structure on an expansion and contraction operation in an axial direction, high straightness is realized, measurement precision is improved and a measurement object with a high aspect ratio can securely be measured.例文帳に追加

軸方向の伸縮動作に関して簡単な構成で真直度の誤差を補正することができ、高い真直度を実現し、測定精度を高め、高アスペクト比の測定対象物も確実に測定できる筒型圧電素子および走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The method of evaluating the vapor deposition film measures a phase change by scanning vibratingly a probe of an atomic force microscope on a vapor deposition film surface of an optical member having the vapor deposition film on a base material, and evaluates the vapor deposition film, based on the measured phase change.例文帳に追加

基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring a magnetic force of a specimen using a scanning probe microscope, capable of automatically obtaining an optimal applied voltage for cantilever vibration when a lift amount is optionally determined.例文帳に追加

本発明は走査プローブ顕微鏡を用いた試料の磁気力測定方法及び装置に関し、任意のリフト量を設定した際、最適なカンチレバ加振電圧を自動的に求めることができる走査プローブ顕微鏡を用いた試料の磁気力測定方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The method for fabricating a probe tip for use in the scanning probe microscope includes steps of forming a triangular prism formed with protective films on both sidewalls by patterning a (111) general silicon wafer; etching the silicon wafer to make the triangular prism into a probe tip of triangular pyramid shape; and removing the protective films.例文帳に追加

本発明は、走査探針顕微鏡（ＳＰＭ：Ｓｃａｎｎｉｇ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）に用いられる探針ティップを製造する方法において、（１１１）一般シリコンウェーハをパターニングし、両側壁に保護膜が形成されている三角柱を形成する段階と、前記シリコンウェーハをエッチングし、前記三角柱を三角錐状の探針ティップに形成する段階と、前記保護膜を取り除く段階と、を含む探針ティップの製造方法を提供する。 - 特許庁

This scanning near-field optical microscope according to one embodiment includes means for illuminating a sample with light, scanning means for bringing a probe close to the sample and scanning the sample, a plurality of collecting optical systems with different optical axes for collecting the scattering light generated by the illumination, and a plurality of scattering light- detecting mechanisms set respectively the plurality of the collecting optical systems.例文帳に追加

本発明の一態様によると、試料に光を照射する手段と、試料にプローブを近接させ走査する走査手段と、照射により発生した散乱光を集光するもので、それぞれ、異なる光軸を持った複数の集光光学系と、前記複数の集光光学系にそれぞれ設けられた複数の散乱光検出機構とを有することを特徴とする走査型近接場光学顕微鏡が提供される。 - 特許庁

The scanning probe microscope 100 comprises a cantilever 110 for examining a sample, mechanism 120 for scanning the cantilever 110, light source section 140 emitting a light beam, mirror 170 for directing a light beam from the light source 140 toward the cantilever 110, and section 160 for detecting a light beam reflected on the cantilever 110.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡１００は、試料を調べるためのカンチレバー１１０と、カンチレバー１１０を走査するための走査機構１２０と、光ビームを射出する光源部１４０と、光源部１４０からの光ビームをカンチレバー１１０に方向付ける方向付けミラー１７０と、カンチレバー１１０で反射された光ビームを検出するための光検出部１６０とを備えている。 - 特許庁

A scanning optical microscope comprising means for irradiating a specimen with light, a granular probe for scanning the specimen while keeping a constant distance therefrom, and means for detecting the intensity of proximity field light from the specimen is further provided with means for detecting the position of the granular probe by detecting the proximity field light therefrom.例文帳に追加

本発明の一態様によると、被検体に光を照射する手段と、前記被検体と一定の距離を保ち走査をする粒子状プローブと、前記被検体からの近接場光の強度を検出する手段とを有する走査型光学顕微鏡であり、前記粒子状プローブからの近接場光を検出することにより、前記粒子状プローブの位置を検出するプローブ位置検出手段を設けたことを特徴とする走査型近接場光学顕微鏡が提供される。 - 特許庁

Additionally the scanning probe microscope 100 is provided with a CPU 164 controlling an entire system, an indication input section 166 for designating a SPM measurement area, a display section 168 displaying the image and various information on the sample, and a memory section 170 storing the acquired data.例文帳に追加

さらに、走査型プローブ顕微鏡１００は、装置全体を制御するためのＣＰＵ１６４と、ＳＰＭ測定領域を指定するための指示入力部１６６と、試料の画像や種々の情報を表示するための表示部１６８と、得られる情報を記憶するための記憶部１７０とを有している。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope, constituted so as to easily perform the light spot positional alignment when a cantilever is irradiated with light in a dark field illumination state, with respect to the objective lens for observing a light spot, or when the light spot is difficult to be recognized from the wavelength of ultraviolet or infrared rays.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡において、光スポット観察用の対物レンズに対して、暗視野照明状態でカンチレバーに光が照射される場合や、紫外や赤外などの波長でスポットが認識しづらい場合に、光スポット位置合わせが容易に行えるような走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The probe of the scanning heat microscope comprises a cantilever, a first conductive layer formed in the cantilever, an insulating layer formed on the first conductive layer and having a hole, a second conductive layer formed on the surface of the insulating layer, a thermocouple, and a carbon nanotube installed at an end of the thermocouple.例文帳に追加

本発明に係る走査型顕微鏡のプローブは、カンチレバーと、該カンチレバーに形成される第一導電層と、該第一導電層に形成され、穴が設けられる絶縁層と、該絶縁層の表面に形成される第二導電層と、熱電対と、該熱電対の端部に設置されるカーボンナノチューブと、を含む。 - 特許庁

A second configuration of the Z-direction correction means has a tilt stage capable of adjusting a tilt angle unidirectionally or bidirectionally against a reference plane of the scanning probe microscope between a sample stand and the sample, and corrects the inclination caused by the characteristic of the sample or the scanner by the tilt stage.例文帳に追加

Ｚ方向補正手段の第２の形態は、試料台と試料との間において、走査型プローブ顕微鏡の基準面に対する傾斜角度を一方向又は二方向で調整可能とする傾斜ステージを備え、この傾斜ステージによって、試料あるいはスキャナーの特性による傾斜を補正する。 - 特許庁

To provide an optical axis adjusting auxiliary device capable of guiding easily and surely an irradiation spot to the center of a light receiving surface on the light receiving surface of a quadripartite photodetector, and facilitating an optical axis adjusting work, in the optical axis adjusting work of a scanning probe microscope or the like equipped with an optical lever type optical detection system.例文帳に追加

光てこ式光学検出系を備えた走査型プローブ顕微鏡等での光軸調整作業で、４分割光検出器の受光面でて照射スポットが受光面の中心に容易にかつ確実に導くことができ、光軸調整作業の容易化を図ることのできる光軸調整補助装置を提供する。 - 特許庁

Provided that "uniformly grafted" means a fact that a relative current value does not exceed 30 on all of the regions of surface of the particles when a contact current on each of individual particles is measured by using a scanning type probe microscope, and a mean contact current of not grafted particles is set as 100.例文帳に追加

ただし、均一にグラフト化されているとは、走査型プローブ顕微鏡を用いて個々の粒子表面のコンタクト電流（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）を測定し、グラフト化されていない粒子の平均コンタクト電流値を１００としたときの相対電流値が粒子表面全域で３０を超えないことをいう。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a needle crystal which can manufacture the needle crystal having an extremely sharp tip without requiring materials such as Au and the like that cause deterioration of a semiconductor crystal, and a cantilever of a scanning type probe microscope which can comply with extremely fine irregularities of the surface of an observation object.例文帳に追加

半導体結晶の劣化を引き起こすＡｕ等の材料を必要とせず、先端が極めて鋭い針状結晶を製造することができる針状結晶の製造方法と、被観察物表面の極めて微細な凹凸に対応することが可能な走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーとを提供する。 - 特許庁