「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an arrangement of an alignment mark that has improved compatibility with extreme dipolar illumination settings and also with less extreme settings to be used in the other patterning step during lithography processing.例文帳に追加

極端ダイポール照明設定と、またリソグラフィ処理中の他のパターニングステップ中に使用することができるあまり極端でない設定と、改善された互換性を有するアライメントマークの構造。 - 特許庁

There are provided: a letterpress for printing having an alignment mark outside a print image region, and forming a salient outside the region outside the print image region in a letterpress printing plate in which a salient in the region forming the print image is formed, with a concave alignment mark being provided in the salient outside the region; a method for manufacturing the letterpress, and a method for manufacturing an organic electroluminescence device.例文帳に追加

印刷画像領域外にアライメントマークを有するとともに、印刷画像を形成する領域内凸部が形成されている凸版印刷版において、印刷画像領域外に領域外凸部を形成し、前記領域外凸部中に凹形状のアライメントマークが設けられていることを特徴とする印刷用凸版とその製造方法並びに有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display panel which is accurately aligned by being provided with an alignment mark for aligning and which certainly prevents light leakage from a region in the vicinity of the alignment mark, and to provide the liquid crystal display panel which is accurately aligned with a case and easily contained therein by using the substrate and of which the lowering of display quality due to light leakage is significantly suppressed.例文帳に追加

位置合せの為のアライメントマークを備えることにより位置合せを正確に行えると共にそのアライメントマーク近傍領域からの光漏れを確実に防止することができる液晶表示パネル用基板と、この基板を用いることによりケースに正確に位置合せして容易に収納できると共に光漏れによる表示品質の低下が顕著に抑制された液晶表示パネルとを、提供する。 - 特許庁

A method of determining offset between a center of the substrate and a center of concavity of chuck comprises the steps of: offering a testing substrate smaller than the concavity in size; measuring a location of alignment mark of the testing substrate while the testing substrate exists inside the concavity; and determining the offset between a center of the testing substrate and the center of the concavity from the location of the alignment mark.例文帳に追加

基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法には、寸法が凹所の寸法より小さい試験基板を凹所に提供するステップと、試験基板が凹所内に存在している間に、試験基板のアライメント・マークの位置を測定するステップと、アライメント・マークの位置から試験基板の中心と凹所の中心との間のオフセットを決定するステップが含まれている。 - 特許庁

Upon forming a plurality of elements on a semiconductor substrate 1 with a circular substrate surface by implementing a plurality of steps including at least an epitaxial growth step and a device step thereafter, a laser mark 2 is formed at a reference position of mask alignment in the device step before the epitaxial growth step, and the mask alignment is performed taking the laser mark 2 as a reference in the device step after the epitaxial growth step.例文帳に追加

基板面が円形の半導体基板１に、少なくともエピタキシャル成長工程とその後のデバイス工程を含む複数の工程を行って複数の素子を形成する際に、エピタキシャル成長工程以前に、デバイス工程でのマスク位置合わせの基準位置にレーザマーク２を施しておき、該エピタキシャル成長工程後のデバイス工程でそのレーザマーク２を基準としてマスク位置合わせをする。 - 特許庁

In step and repeat type imprinting, an alignment mark on the mold side is formed at a position parted from a groove structure on the same plane as the transcription region of the mold, and is not aligned with the substrate side alignment mark in a transcribed region where imprinting is performed, but is aligned with the transcribed region vertically, horizontally, and diagonally brought into contact with the transcribed region.例文帳に追加

ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

When a resist film 55, for forming a post electrode 10 on a silicon substrate 2 is exposed under wafer state, an exposure mask for forming the post electrode is employed for a semiconductor element forming region 1A, and an exposure mask for forming an alignment post electrode is employed for an alignment mark forming region 21A.例文帳に追加

ウエハ状態のシリコン基板２上にポスト電極１０を形成するためのレジスト膜５５の露光を行なうとき、半導体素子形成領域１Ａに対しては、ポスト電極形成用露光マスクを用いて行ない、アライメントマーク形成領域２１Ａに対しては、アライメント用ポスト電極形成用露光マスクを用いて行なう。 - 特許庁

By the alignment method for positioning an original plate and a substrate by measuring the position of a measurement mark at a plurality of shot positions on the substrate and statistically processing measured values, measurement marks which used for the alignment is selected individually when a plurality of measurement marks are present in the shot.例文帳に追加

基板上の複数のショット位置における計測マークの位置を計測し計測値の統計処理を行って、原板と前記基板の位置合わせを行う位置合わせ方法において、位置合わせに使用する計測マークの選択を、計測マークが前記ショット内に複数個存在する場合、その複数個各々に対して独立に行う。 - 特許庁

When a resist film 55, for forming a post electrode 10 on a silicon substrate 2 in a wafer state, is exposed, an exposure mask for forming the post electrode is employed for a semiconductor element forming region 1A, and an exposure mask for forming an alignment post electrode is employed for an alignment mark forming region 21A.例文帳に追加

ウエハ状態のシリコン基板２上にポスト電極１０を形成するためのレジスト膜５５の露光を行なうとき、半導体素子形成領域１Ａに対しては、ポスト電極形成用露光マスクを用いて行ない、アライメントマーク形成領域２１Ａに対しては、アライメント用ポスト電極形成用露光マスクを用いて行なう。 - 特許庁

To provide a measurement target having a simple and low-cost constitution, enabling a worker to readily recognize its location in a dark place, causing a cross alignment mark for assisting an alignment associated with a measurement apparatus to be recognized clearly, and facilitating accurate measurements to be conducted.例文帳に追加

簡単かつ低コストな構成でありながら、暗所でも作業者が容易に所在を認識することができると共に、測定装置との関連において位置合わせを助けるための十文字などの位置合わせ用マークを明確に認識させて測定を容易かつ正確に行わせることができる測定用ターゲットを提供する。 - 特許庁

A flat panel display has display electrodes formed by photosensitive films on a substrate; the display electrode has a black layer and a conductive layer; the flat panel display has alignment marks, constituted of the same composition as that of the photosensitive film, on the substrate; and the film thickness of the alignment mark is larger than that of the black layer.例文帳に追加

基板上に感光性膜によって形成した表示電極を有するフラットパネルディスプレイであって、表示電極は黒色層および導電層とを有し、基板上には感光性膜と同じ組成からなるアライメントマークを有し、アライメントマークの膜厚が、黒色層の膜厚よりも厚いことを特徴とする。 - 特許庁

In a state where the plate table 3 on which the plate 5 is placed and a table 4 to be printed on which a printing target 6 is placed are arranged in the alignment area 9, deviation is obtained relating to the three axes of XYθ from the correct position of the plate 5 and the printing target 6 based on the alignment mark 11 photographed by the camera 10.例文帳に追加

版５を載置した版テーブル３や印刷対象６を載置した印刷対象テーブル４をアライメントエリア９に配置させた状態で、カメラ１０により撮影されたアライメントマーク１１を基に、版５や印刷対象６の正しい位置からのＸＹθの３軸に関するずれを求める。 - 特許庁

When making alignment of the transparent substrate 11 and the shadow mask 14 in order to form a thin film layer on the transparent substrate 11 by a vapor deposition method, a white light source is used as an irradiation light source to irradiate light on the alignment mark 13 and a plurality of optical filters 17 having a different center wavelength of transmission wavelength are prepared.例文帳に追加

透明基板11上に薄膜層を蒸着法により形成するため、透明基板11とシャドーマスク14とをアライメントする際、アライメントマーク13に光を照射する照射光源16として白色光源を使用するとともに、透過波長の中心波長が異なる複数の光学フィルタ17を準備する。 - 特許庁

Merely an oxide film 5 that is deposited, in advance, in a groove 4 for alignment is selectively thinned with photo resist as a mask, thus preventing the region of the groove 4 for alignment from being flattened even in a flattening machining after that, and hence achieving an effective function as the mark for positioning of a process following after an element insulation and isolation process.例文帳に追加

予め位置合わせ用溝４に堆積した酸化膜５のみをフォトレジストをマスクとして選択的に薄くすることにより、その後の平坦化加工においても、位置合わせ用溝４の領域が平坦になることはなく、素子絶縁分離工程に続く工程の目合わせ用マークとして有効に機能させることができる。 - 特許庁

To provide a drawing device in which an alignment camera for photographing an alignment mark of an object to be drawn can be calibrated by a drawing positioning function as to a position shift in an optical-axis rotational direction and which can improve correction precision of a drawing position shift on the object to be drawn, and a calibrating method for the drawing device.例文帳に追加

描画位置合わせ機能において描画対象物のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの光軸回転方向の位置ズレを校正可能とし、描画対象物に対する描画位置ずれの補正精度を向上することができる描画装置および描画装置の校正方法を提供する。 - 特許庁

A second surface 3b of the silicon board 3 is polished and a diaphragm 6 is formed in a bottom part of the recessed part 4, and a silicon oxide film 9 with a recessed part 18 for an alignment mark is formed in a second surface 3b of the silicon board 3.例文帳に追加

シリコン基板３の第２の面３ｂを研磨して凹部４の底部にダイヤフラム６を形成し、シリコン基板３の第２の面３ｂに、アライメントマーク用凹部１８を有する酸化シリコン膜９を形成する。 - 特許庁

To eliminate the need of retreat of an image acquisition device during exposure to shorten the tact time by acquiring an image of an alignment mark to align a mask and a substrate without covering a part of a pattern of the mask with the image acquisition device.例文帳に追加

マスクのパターンの一部を画像取得装置で覆うことなく、アライメントマークの画像を取得して、マスクと基板との位置合わせを行い、露光時の画像取得装置の退避を不要にして、タクトタイムを短縮する。 - 特許庁

In the center in the lateral direction on the outer surface of the outer clipping piece 5, there is formed a mark 8 for the purpose of clipping the neckbands 1a, 2a of the undershirt 1 and the kimono 2 vertically in alignment with the back center 3 of the kimono 2.例文帳に追加

この外側挟持片５の外面の横幅方向における中央に、着物２の背中心３に合わせて真っ直ぐ縦向きに襦袢１と着物２の襟１ａ、２ａを挟むための目印８を形成する。 - 特許庁

An alignment mark 5 is formed in a position adjacent to at least one corner part of four corner parts forming an opening 3b of a frame 3, of a touch panel 2 in a manner corresponding to the opening 3b of the frame 3.例文帳に追加

アライメントマーク５は、タッチパネル２において、フレーム３の開口部３ｂを形成する４つのコーナー部のうち少なくとも一つのコーナー部近傍に形成されており、フレーム３の開口部３ｂに対応して形成されている。 - 特許庁

To provide a highly accurate calibration method and device for measuring device by adding an alignment mark and a reflecting surface on parallel plates having high transparency or by marking in the circumferential direction of a circular cylinder having high transparency.例文帳に追加

透明度の高い平行平板にアライメントマークと反射面とを付加したり、透明度の高い円柱の円周方向にマーキングすることで、きわめて高精度な測定装置校正方法および校正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a screen printing plate that hardly causes a relative displacement between a printing pattern formed in an inner mesh and an alignment mark formed in an outer mesh, and manufactured at low cost, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

内紗に形成される印刷パターンと外紗に形成されるアライメントマークとの間に相対的な位置ずれが生じにくく、かつ、製造コストの安価なスクリーン印刷版およびその製造方法を提供する - 特許庁

A TFT(thin film transistor) substrate 110 and a counter substrate 120 are aligned and joined together by deciding the coincidence of an alignment mark 112 of the TFT substrate 110 and a pitch of the micro lenses part 122 of the counter substrate 120 with each other.例文帳に追加

ＴＦＴ基板１１０のアライメントマーク１１２と対向基板１２０のマイクロレンズ部１２２のピッチの一致を判定することにより、ＴＦＴ基板１１０と対向基板１２０とを位置合わせして接合する。 - 特許庁

To improve an yield by making the electrical characteristics of device chips uniformize, formed at the vicinity of forming region of an alignment mark for positioning a semiconductor wafer and other device chips formed in other regions.例文帳に追加

半導体ウェハの位置合せ用のアライメントマークの形成領域の近傍に形成されるデバイスチップと他の領域に形成されるデバイスチップの電気的特性を均一化させることにより、歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a transfer device that can transfer a fine transfer pattern to an accurate position of a molded article even if a mold is formed of a material that does not transmit light and the molded article is not provided with an alignment mark.例文帳に追加

型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。 - 特許庁

The alignment mark is constituted of a square ring shaped part 44 formed of the assembly of three zigzag columns of dots 42 and an L-shape part 46 provided in the square ring shaped part 44.例文帳に追加

アライメントマークは、ドット４２の千鳥状３列縦隊の集合体によりそれぞれ形成された、正方形環状部４４と、正方形環状部４４内に設けられたＬ字体部４６とから構成されている。 - 特許庁

In a low resolution part in which the barrier wall of a light shielding part, an alignment mark or the like is wide and the enlargement of print depth is required, the surface of a substrate 21 for the printing plate is patterned by etching and formed.例文帳に追加

遮光部隔壁、アライメントマークなどの幅が広く、版深さを深くする必要がある低解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面を、エッチング処理によってパターン化して形成する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory cell capable of preventing the occurrence of a crack by heat-treating a part by thinning a ferroelectric thin film formed in a recess for an alignment mark, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

アライメントマーク用凹部に形成される強誘電体薄膜を薄くし、この部分に熱処理でクラックが発生することを防止できる強誘電体メモリ素子およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Regarding an optical imprint mold for transferring a recording pattern to a disk substrate, the optical imprint mold having an alignment mark disposed in a position equivalent to an opening around the nontransferred rotary axis of a disk substrate center is provided.例文帳に追加

ディスク基板に記録パターンを転写するための光インプリントモールドであって、ディスク基板中央の転写されない回転軸周りの開口部に該当する位置にアライメントマークを設けた光インプリントモールドを提供する。 - 特許庁

An opening portion H can be formed shallowly, so it is easy to bury a W layer 11 in the opening portion H and step coverage of an oxidized barrier layer 17 covering the alignment mark 15 can be improved.例文帳に追加

開口部Ｈを浅く形成することができるので、開口部Ｈ内をＷ層１１で埋め込むことが容易となり、合わせマーク１５を覆う酸化バリア層１７の段差被覆性を向上させることができる。 - 特許庁

The black layer 8a is then formed on the pixel patterns 3, 4 and 5 and the substrate side alignment mark 6 via an ITO layer 7 by using a black ink 8b composed of a pigment, a solvent and a joining resin.例文帳に追加

次に、これらの画素パターン３、４、５および基板側アライメントマーク６上に、ＩＴＯ層７を介して顔料と溶剤と接合性樹脂とからなるブラックインキ８ｂを用いてブラック層８ａが形成される。 - 特許庁

Since an opening H can be formed shallowly; the opening H can be filled with a W film 11 easily, and level difference can be reduced on the surface of the alignment mark 15.例文帳に追加

このような構成であれば、開口部Ｈを浅く形成することができるので、開口部Ｈ内をＷ膜１１で埋め込むことが容易であり、合わせマーク１５の表面の段差を小さくすることができる。 - 特許庁

Low-resistance polysilicon is buried in the contact hole 21b with the insulating film 21c interposed to form a contact layer 21a, thereby forming a backside extraction electrode 21 serving as an alignment mark.例文帳に追加

この絶縁膜２１ｃを介して、コンタクト孔２１ｂ内に低抵抗ポリシリコンを埋め込んでコンタクト層２１ａを形成することにより、アライメントマークを兼用する裏面取り出し電極２１を形成する構成となっている。 - 特許庁

After the substrate 2 arrives at the processing position, each imaging section 7 for fine adjustment images a second region of the substrate 2 including the alignment mark 3 and narrower than the first region at a second magnification higher than the first magnification.例文帳に追加

基板２が処理位置に到達した後、各微調用撮像部７によって、基板２のアライメントマーク３を含み、かつ第１領域よりも狭い第２領域を、第１倍率よりも高い第２倍率で撮像する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multilayer printed-wiring board capable of accurately forming the place of the circuit pattern of the next layer by using an alignment mark in response to a previously formed circuit pattern.例文帳に追加

本反発明は、既に形成された回路パターンに対応して、次の層の回路パターン位置をアライメントマークを用い精度よく形成することのできる多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The test device two-dimensionally moves a video camera for photographing the alignment mark in a plane parallel to the board supported on a test stage and a camera stage of a test station in first and second directions crossing each other.例文帳に追加

検査装置は、アライメントマーク撮影用のビデオカメラを、検査ステーションにおいてカメラステージ、検査ステージに受けられた基板と平行の面内で互いに交差する第１及び第２の方向に二次元的に移動させる。 - 特許庁

The alignment mark is exposed and a resin layer is formed in a region of a periphery direction of the semiconductor substrate to prevent a breaking, a chipping, a crack or the like of the semiconductor wafer at the time of polishing a resin or the semiconductor substrate.例文帳に追加

この位置合わせマークを露出するとともに、樹脂や半導体基板の研磨時に、半導体基板の割れ、欠け、クラック等を防止するため半導体基板の外周方向の領域に樹脂層を形成する。 - 特許庁

In the step of forming the element isolation layer 12, a first alignment mark used as an aligning reference of an exposure mask in a subsequent photolithography step is formed on a scribing line on the silicon substrate 11.例文帳に追加

なお、素子分離層１２を形成する工程において、引き続くフォトリソグラフィ工程における露光用マスクの位置合わせ基準となる第１アライメントマークを、シリコン基板１１上におけるスクライブラインに形成する。 - 特許庁

Since this configuration allows formation of a shallow opening H, it is easy to fill the opening H with a W film 11, so that a level difference on the surface of the alignment mark 15 can be reduced.例文帳に追加

このような構成であれば、開口部Ｈを浅く形成することができるので、開口部Ｈ内をＷ膜１１で埋め込むことが容易であり、合わせマーク１５の表面の段差を小さくすることができる。 - 特許庁

When a uv rectangular coordinate system which sets a u-axis defined in the direction corresponding to an X-axis and a v-axis defined in the direction perpendicular to the u-axis is defined, a position relating to the v-axis direction of the image of the alignment mark is detected.例文帳に追加

受像面上に、Ｘ軸に対応する方向をｕ軸、ｕ軸に直交する方向をｖ軸とするｕｖ直交座標系を定義した時、アライメントマークの像の、ｖ軸方向に関する位置を検出する。 - 特許庁

The offset calculation part 70 calculates the deviation of the alignment mark 21 from a reference position on the basis of the inputted image, and gives an offset to the swing angle of a galvanoscanner system 40 to eliminate the calculated deviation.例文帳に追加

オフセット算出部７０は、入力された画像に基づいてアライメントマーク２１の基準位置からのずれを算出し、算出されたずれを解消するために、ガルバノスキャナ系４０の振り角にオフセットを与える。 - 特許庁

In this timing, the standard mark provided on the standard plate 50 is detected using the alignment system of the exposure apparatus in view of adjusting the amount of slide by controlling the drive of the measuring stage ST2 on the basis of the detected results.例文帳に追加

このとき露光装置のアライメント系を使って、基準板５０に設けられた基準マークを検出し、その検出結果にもとずいて計測ステージＳＴ２の駆動を制御して滑り量を調整する。 - 特許庁

In a process to make a patterning of a transparent electrode 12 on a transparent substrate 11, an alignment mark 13 used for positioning of a shadow mask 14 and the transparent substrate 11 on the transparent substrate 11 is formed of an identical material as the transparent electrode 12.例文帳に追加

透明基板11上に透明電極12をパターニングする工程において、透明基板11にシャドーマスク14と透明基板11との位置決めに使用するアライメントマーク13を透明電極12と同一の材料で形成する。 - 特許庁

To manufacture a flat panel display without converting a manufacturing line, without increasing man-hours, and by simply forming an alignment mark with high precision and excellent visibility, and further, with a reduced cost and good productivity.例文帳に追加

製造ラインを改造することなく、また工数も大きく増加させることなく、高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを簡単に形成し、さらに低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。 - 特許庁

To provide an element formation substrate for relaxing the concentration of stress by a trench that is an alignment mark, and to provide a semiconductor device, a backside irradiation solid-state imaging apparatus, a liquid crystal display, and each manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、アライメントマークであるトレンチによる応力集中を緩和する素子形成基板、半導体装置、裏面照射型固体撮像装置、液晶表示装置並びに各製造方法を提供するものである。 - 特許庁