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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > gas defectに関連した英語例文

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gas defectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 233



例文

A gas utilization factor which is a rate of gas utilized in actual electrochemical reaction of the supplied gas is calculated (step S230), an the presence of the defect is determined (step S240).例文帳に追加

そして、供給ガスのうちで実際に電気化学反応に利用されたガスの割合であるガス利用率を算出して(ステップS230)、不具合の有無を判定する(ステップS240)。 - 特許庁

Based on the gas pressure value and the max. value of the gas pressure calculated, defect generating positions to be generated in the injection-molded article are predicted in a defect predicting part 24 and quality of the filling behavior of the molten material is evaluated in a filling behavior evaluating part 25.例文帳に追加

算出されたガス圧力値及びガス圧力最大値に基づいて、欠陥予測部24で、射出成形品に発生する欠陥発生位置を予測し、充填挙動評価部25で、溶融材料の充填挙動の良否を評価する。 - 特許庁

To provide a method of producing a gas-barrier film by which defective appearance and surface defect of the gas-barrier film due to splash caused when vaporizing an inorganic oxide by using a vapor deposition method according to a heating system is suppressed and also the gas-barrier film having high gas-barrier performance is produced.例文帳に追加

加熱方式による真空蒸着法を用いて無機酸化物を蒸発させる際に発生するスプラッシュによる外観不良および表面欠陥を抑制し、かつ高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

After performing crystal defect repair processing or crystal defect removal processing of the single crystal silicon layer, using stock gas at least containing silicon based gas, the stock gas is activated by plasma under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure to cause single crystal silicon layer epitaxial growth and a second impurity silicon layer is formed on the epitaxial grown surface side.例文帳に追加

単結晶シリコン層の結晶欠陥修復処理又は結晶欠陥除去処理を行った後、シラン系ガスを少なくとも含む原料ガスを用い、大気圧或いは大気圧近傍下で生成したプラズマにより原料ガスを活性化させ、単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、該エピタキシャル成長させた表面側に第2不純物シリコン層を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a gas permeable composite material including polytetrafluoroethylene (PTFE) porous film and a gas permeable support material and having less defect on a surface and no deviation in peeling strength.例文帳に追加

ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔質膜と通気性支持材とを含み、表面に欠陥が少なく、剥離強度にも偏りがない通気性複合材を得る。 - 特許庁


例文

To provide an automatic multi-electrode gas shielded arc welding device that prevents the occurrence of a welding defect caused by an unstable molten pool and is suitable for automating gas shielded arc welding.例文帳に追加

湯だまりの不安定化による溶接欠陥の発生を防止するとともに、ガスシールドアーク溶接の自動化に適合する多電極ガスシールドアーク自動溶接装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a welding method using a welding steel wire for CO_2 gas shielded arc welding, the welding steel wire composed of steel wire and capable of obtaining a joint free from a weld defect, in performing multilayer CO_2 gas shielded arc welding for a steel plate.例文帳に追加

厚鋼板の多層炭酸ガスシールドアーク溶接を行なうにあたって、溶接欠陥のない継手を得ることが可能な、鋼素線からなる炭酸ガスシールドアーク溶接用鋼ワイヤを用いた溶接方法を提供する。 - 特許庁

Thus, even when the liquefied gas fuel under the very high pressure is supplied to the chamber interior 13, the high pressure does not act on the coil support member 22 so as to avoid a defect of external leakage of the liquefied gas fuel.例文帳に追加

このため、非常に高い圧力の液化ガス燃料が室内13に供給されても、その高い圧力はコイル支持部材22に作用せず、液化ガス燃料が外部に漏れる不具合はない。 - 特許庁

To provide a liquefied petroleum gas for an automobile, capable of reducing an exhaust gas and capable of avoiding deterioration of a driving performance caused by a defect of a fuel supply system.例文帳に追加

排出ガスを低減するとともに、燃料供給系の不具合に起因する運転性能の低下を回避することができる自動車用液化石油ガスを提供する。 - 特許庁

例文

Then, the introduction of the raw material gases is stopped, and an etching gas is introduced into the crucible 4 through the gas-feeding pipe 13 to etch the growing crystal 20 in a growing atmosphere until the observed defect D appears.例文帳に追加

その後、原料ガスの導入を停止するとともにガス導入管13を通してエッチングガスをルツボ4内に導入して、観察した欠陥Dの発生以前まで成長結晶20を成長環境下でエッチングする。 - 特許庁

例文

To provide a curable composition giving a cured product improved in gas barrier property that is a defect of a sealing silicone resin and giving a cured product excellent in heat resistance as well as in gas barrier property.例文帳に追加

封止用シリコーン樹脂の欠点であったガスバリア性が改良された硬化物、さらに加えて耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性組成物の提供。 - 特許庁

To suppress the release of reaction gas to the working environment, further, to suppress the retainment of reaction gas in a gap flow channel between the cylinder inner wall surface and an electrode, and to prevent failures such as a defect in conducting.例文帳に追加

作業環境への反応ガスの放出を抑制できると共に、シリンダ内周面と電極間の隙間流路に反応ガスが滞留することを抑制して通電不良等の不具合を防止できること。 - 特許庁

To provide a gas compressor having a case not to depend on the specifications of a gas compressor, and to reduce cost, facilitate casting and machining, and reduce incurring of a loss due to a casting defect and a machining miss.例文帳に追加

気体圧縮機の仕様によらず安価かつ鋳造・加工が容易で、鋳造欠陥や加工ミスによる損失の少ないケースを備えた気体圧縮機を提供する。 - 特許庁

To provide a method of gas gouging capable of surely conducting deburring in a deburring method by gas flames, and reducing a defect on the surface of a product due to the burr produced on the end face of a cast piece and a plate breaking trouble.例文帳に追加

ガス火炎によるバリ取り方法においてバリ取りが確実に行え、鋳片端面に生じるバリによる製品表面欠陥および板破断トラブルを低減する溶削方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a weld defect caused by poor shielding resulting from increase of a gas flow and at the same time increase of a welding speed, in the case of increasing the gas flow in response to the welding speed.例文帳に追加

溶接速度に応じてガス流量を増加させる場合に、溶接速度の増加と同時にガス流量を増加させていたことに起因するシールド不足による溶接欠陥を防止する。 - 特許庁

To prevent the development of gas defect in a casting and chilling part on the surface of the casting by preventing gas from being entraped into molten metal even in the case of charging the molten metal into a mold at high speed.例文帳に追加

溶湯を鋳型に高速で充填する際にも、溶湯にガスが巻き込まれないようにして、鋳物のガス欠陥及び鋳物表面のチル化を防止する。 - 特許庁

To provide a gas hardening mold or a self-hardening mold with which sufficient strength is realized before using the mold and excellent collapsibility is displayed after using the mold and also, the development of gas defect in a casting can advantageously be restrained.例文帳に追加

使用前においては充分な強度を実現し、且つ使用後においては優れた崩壊性を発揮すると共に、鋳物におけるガス欠陥の発生を有利に抑制し得るガス硬化鋳型又は自硬性鋳型を提供すること。 - 特許庁

By filling the insulation layer 3 with the pressurized gas, the amount of gas per filling is large, and no air comes into the layer 3 even if there is a defect connecting the layer 3 to the exterior.例文帳に追加

ガスが加圧されて保冷層3に充填されることにより、1回に充填されるガスの量が大きく、保冷層3と外部とを接続する欠陥があるときでも保冷層3内に大気が侵入しない。 - 特許庁

After a defect-introduced layer 3 is formed in a substrate by injecting Si or an inert gas into the substrate through ion implantation IPI, an impurity-injected layer 4 is formed by injecting impurity into the layer 3 through ion implantation IP2, and the impurity in the layer 4 is thermally diffused along the defect-introduced layer 3.例文帳に追加

Siまたは不活性ガスのイオン注入IP1を行うことにより、欠陥導入層3を形成した後、不純物のイオン注入IP2を行うことにより、不純物注入層4を形成し、不純物注入層4の不純物を欠陥導入層3に沿うようにして熱拡散させる。 - 特許庁

To provide a porous polypropylene film which can give high accuracy to a filter for removing a foreign substance causing a defect of pinholes and the like in the film while keeping high gas permeability and porosity, and which hardly causes a defect such as short circuit when used as a separator of an electric storage device.例文帳に追加

高い透気性、空孔率を維持したまま、フィルム中のピンホールなどの欠陥の原因となる異物を除去するためのフィルターを高精度にすることができ、蓄電デバイスのセパレータに用いた際に、短絡などの欠陥を起しにくい多孔性ポリオレフィンフィルムを提供すること。 - 特許庁

To reduce occurrence of mounting defect of an insulating ring to a negative electrode terminal board and an appearance defect caused by it, and to suppress the spray-shaped jet of an alkali electrolyte, even if the gas pressure in an alkaline dry cell increases, in a manufacturing process of the alkaline dry cell.例文帳に追加

アルカリ乾電池の製造工程において、絶縁リングの負極端子板への装着不良およびそれに起因する電池の外観不良の発生を低減化するとともに、アルカリ乾電池内部のガス圧が上昇した場合でも、アルカリ電解液のスプレー状の噴出を抑制する。 - 特許庁

The method also comprises a step for warning the gas leak by the breakage of the pipe when the hydrogen variation amount ΔQ is in the leak area (S140), and outputting the sensor defect for warning when the hydrogen variation amount ΔQ is in the defect area continuously for a prescribed time (S160).例文帳に追加

水素変動量ΔQが漏れ領域にあるときには配管破断などによるガス漏れを警告出力し(S140)、水素変動量ΔQが所定時間継続して不良領域にあるときにはセンサ異常を警告出力する(S160)。 - 特許庁

To provide a gas barrier film for an electronic display medium whereby an excellent image display can be obtained, because even if it has a defect such as a dark spot or the like, the visibility of the defect is low, or it has a wide angle of visibility.例文帳に追加

本発明は、ダークスポット等の欠陥がある場合であってもその欠陥の視認性が低く、あるいは、広視野角性を有することにより、良好な画像表示を得ることが可能である電子表示媒体用ガスバリア膜を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To prevent exhaust defect, quality defect and the corrosion of ambient equipment, to prevent the reduction of operation rate due to the exchange of the exhaust pipe and to reduce the maintenance cost by preventing clogging of an exhaust pipe, the entrainment of the air and the indoor leakage of a dehydrated process gas.例文帳に追加

排気管詰まり、大気巻き込み、脱水プロセスガスの室内漏洩が生じないようにし、排気不良、品質不良、周辺設備の腐食を防止するとともに、排気管交換による稼働率低下の防止や、補修費の低減を図る。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

Wire repairing technique includes: supplying metal particulates (24) to a wire defect part (20) of the circuit board (10) to be repaired; and blowing a gas (22a) which is heated and contains oxygen to the metal particulates (24) supplied to the wire defect part (20) to bake the metal particulates.例文帳に追加

配線補修技術は、回路基板(10)の補修すべき配線欠損部分(20)に金属微粒子(24)を供給し、加熱されたガスであって酸素を含むガス(22a)を前記配線欠損部分(20)に供給された金属微粒子(24)に吹き付けて、該金属微粒子を焼成する。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a defect of a photomask by which the transmittance of a thin film during correcting a defect of a photomask can be judged and, from the results, the supply amount of CVD source gas, laser irradiation intensity, laser irradiation time and the number of irradiation pulses can be controlled.例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正中の薄膜の透過率を判断でき、その結果によってCVD原料ガス供給量、レーザ照射強度、レーザ照射時間及び照射パルス数を制御することが可能なフォトマスクの欠陥修正方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern medium using an imprint method capable of preventing a resist pattern defect generated by gas taken between an interface of an imprinting mold and a resist layer and a resist pattern defect generated by a bubble probably generated in the resist film and on the resist surface.例文帳に追加

インプリント用モールドの界面とレジスト層との間に取り込まれた気体によるレジストパターン欠陥や、レジスト膜中、レジスト表面に発生する可能性のある気泡によるレジストパターン欠陥の発生を防止できるインプリント法を用いたパターン媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

An excessive surface 22, of bad crystalinity and comprising defect, which is deposited with a remaining gas in a temperature-falling process from a crystal growth temperature at completion of growth of silicon carbide is removed, and a Schottky electrode 25 is formed on a silicon carbide 24 with reduced defect.例文帳に追加

炭化珪素成長終了時の結晶成長温度からの降温過程で残留ガスにより堆積した結晶性が悪く欠陥を含んだ余分な表面22を除去し、欠陥が低減された炭化珪素24上にショットキー電極25を形成する。 - 特許庁

To prevent a forming method for an injection-formed material so as to restrain the occurrence of internal defect (particularly, gas defect) in the case of injection-forming molten light metal in the semi-molten state at a temperature less than the melting point or the molten state at a temperature equal to or just above the melting point.例文帳に追加

軽金属溶湯を融点未満の半溶融状態、又は融点乃至融点直上の溶融状態で射出成形する場合において、内部欠陥(特にガス欠陥)の発生が抑止されるような射出成形材の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent gas barrier film having a high gas barrier capacity and not deteriorated in its gas barrier capacity even if bent, and an electroluminescence element free from deterioration or the occurrence of a defect using the same.例文帳に追加

高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent gas barrier film having a high gas barrier capacity and not deteriorated in its gas barrier capacity even if bent, and an electroluinescence element free from deterioration or the occurrence of a defect using the same.例文帳に追加

高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供する - 特許庁

The Cl group of the silicon source gas is reduced to a hydrogen chloride(HCl) by the hydride compound gas and is removed together with an exhaust gas, it is possible to prevent a visual defect due to a SiClx crystal obtained by coupling chloride to silicon, and an abnormal growth of the lower polysilicon film.例文帳に追加

水素化合物ガスによりシリコンソースガスのCl基を塩化水素(HCl)に還元し、排気ガスと共に除去するので、塩素とシリコンが結合したSiClx結晶による視覚不良、ならびに下部のポリシリコン膜の異常成長を防止することができる。 - 特許庁

A component of vapor deposition gas is accumulated at the detected defect place of the recording medium plane by introducing vapor deposition gas to the recording medium plane by a gas introducing means 9 irradiating the recording medium with electron rays, and a mark is formed.例文帳に追加

さらに、電子線を記録媒体に照射しながら、ガス導入手段9により記録媒体面に蒸着ガスを導入することにより、記録媒体面の検出された欠陥場所に蒸着ガスの成分を堆積させ、マークを形成する。 - 特許庁

When black defects are corrected, assist gas or etching gas is introduced through an etching gas introduction system 6, and only a black defect region 3 is selectively irradiated with an charged particle beam 4 and etched as high as the height of a recess of the original plate for correction.例文帳に追加

黒欠陥修正はエッチング用ガス導入系6からアシストガスまたはエッチングガスを導入し、荷電粒子ビーム4を黒欠陥領域3のみに選択照射して原版の凹部の高さまでエッチングし黒欠陥3を修正する。 - 特許庁

To provide a method for repairing gas turbine blades, which prevents the generation of a defect such as a crack in build-up welding and performs highly reliable repair when repairing a thickness-reduced portion of a blade tip of the gas turbine blades and to provide the gas turbine blades repaired by the repairing method.例文帳に追加

ガスタービン動翼の翼先端の減肉部を補修する際、肉盛溶接におけるき裂等の欠陥の発生を防止し、信頼性の高い補修を行うことができるガスタービン動翼の補修方法、およびその補修方法により補修されたガスタービン動翼を提供する。 - 特許庁

In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.例文帳に追加

フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス(一例として沃化エチルガス)を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁

A hole for converting the pressure of leaking gas or an obstacle to a gas current is installed for the gas leakage detecting device and an inspector hears the pressure of the leaking gas as an audible sound by the simple device, independently of the shape of the defective hole to be inspected nor leak conditions of gas to detect whether there is a defect.例文帳に追加

気体漏れの検出装置に漏れ気体の風圧を音響に変換する孔または気流の障害物を設置することにより、被検査対象の欠陥孔の形状、気体の漏れ条件に関わりなく、簡便な装置で漏洩気体の風圧を可聴音として検査者が聞き取り、欠陥の有無を検出できるようにした。 - 特許庁

A defect correction device includes: a stage for placing a substrate; and a local exhaust ventilation system that comprises a local ventilation region that serves as a processing part for processing the substrate, a gas supply part for jetting gas toward the stage so that the system rises from the stage, and an exhaust part for exhausting gas jetted toward the stage and gas supplied from the local ventilation region to the stage side.例文帳に追加

基板を載置するステージと、基板を加工する加工部となる局所排気領域と、ステージに向けてガスを噴射することにより該ステージから浮上するためのガス供給部と、ステージに向けて噴射したガス及び局所排気領域から該ステージ側に供給されたガスを排気する排気部とを備えた局所排気装置を有する。 - 特許庁

To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁

Even when a defect is developed at a layer of the hydrogen permeation membranes 14, the purity of the obtained hydrogen gas is not lowered because another layer of the hydrogen permeation membranes 14 inhibits foreign gases from passing through.例文帳に追加

1層の水素透過膜14に欠陥が発生しても、別の水素透過膜14が不純物気体の通過を阻むから、得られる水素ガスの純度が低下しない。 - 特許庁

This laminated film with gas barrier properties has at least one inorganic layer and one layer of polysilsesquioxane (a defect compensating layer), laminated on a base material film.例文帳に追加

基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と、少なくとも1層のポリシルセスキオキサンを含有する層(欠陥補填層)とを有するガスバリア性積層フィルム。 - 特許庁

By attaching this zeolite seed crystal onto a support to synthesize a zeolite membrane, a zeolite membrane dense and free of notable defect is efficiently produced for high performance gas separation use or filtration use.例文帳に追加

このゼオライト種結晶を支持体上に付着させてゼオライト膜の合成を行うと、緻密で顕著な欠陥の認められない高性能ガス分離用途或いは濾過用途のゼオライト膜を効率よく製造することができる。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control system and its control device for exhaust emission control determining which causes exhaust gas temperature rise defect, abnormality of fuel addition valve or abnormality of oxidation catalyst.例文帳に追加

排気温度の上昇不良が燃料添加弁または酸化触媒のいずれの異常によるものかを判定する排気浄化システムおよびその排気浄化制御装置を提供する。 - 特許庁

To effectively suppress catalyst exhaust gas odor and to surely prevent a speed reduction type defect at the time of speed reduction even in the case that an open failure occurred at a purge control valve.例文帳に追加

触媒排気臭を有効に抑制するとともに、パージ制御弁が開故障している場合であっても、減速時の減速性不良が発生することを確実に防止することを目的とする。 - 特許庁

The height of the defect being machined by electron beam or gas ion beam etching is measured with one probe in the independently actuatable probes to detect an end point.例文帳に追加

独立に駆動できる探針のうち1本の探針で、電子ビームまたはガスイオンビームエッチングで加工中の欠陥の高さを測定して終点検出を行う。 - 特許庁

After removing the resist 15 and the SiO2 film 14, when heat treatment is performed at 1050°C by nitrogen and ammonia gas atmosphere, a low-defect GaN layer 16 is formed at the groove part by a mass transport phenomenon.例文帳に追加

レジスト15とSiO_2膜14を除去した後、窒素とアンモニアガス雰囲気で、1050℃で熱処理を行うと、マストランスポート現象により溝部に低欠陥なGaN層16が形成される。 - 特許庁

To provide a polylactic acid sprue for dental precision casting which uses polylactic acid of biomass plastics as an environment-friendly economic material, causes no harmful gas upon incineration, has a shape dealing with a tooth shape and a casting defect.例文帳に追加

地球にやさしいエコ素材でバイオマスプラスチックのポリ乳酸を使用し、焼却時有毒ガスを生じなく、歯の形状や鋳造欠陥に対応する形状となる、歯科精密鋳造用ポリ乳酸スプルーを提供する。 - 特許庁

To solve a defect of a known method that a parameter of controlled spontaneous ignition, especially operation/control of gas temperature in a combustion chamber during compression stroke is extremely insufficient.例文帳に追加

制御自己点火に対するパラメータ特に圧縮行程の間における燃焼室内ガス温度の操作/制御がきわめて不十分であるという従来技術による既知の方法の欠点を解決する。 - 特許庁

例文

To avoid occurrence of a deuterium loading processing defect caused due to deuterium gas not reaching an optical fiber in a lower winding part of a winding bobbin, and to quickly perform good deuterium loading processing.例文帳に追加

巻取りボビンの下段巻部の光ファイバに重水素ガスが到達しなくなることによる重水素ローディング処理不良の発生を回避し、迅速に、良好な重水素ローディング処理を行えるようにすること。 - 特許庁

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