「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

A plurality of dummy tungsten plug 15D are provided on the auxiliary pattern 11S spaced apart from the tungsten plug 15 and connected with the lower layer wiring 11 but it is electrically open on the upper layer.例文帳に追加

ダミーのタングステンプラグ１５Ｄは、タングステンプラグ１５から離れた補助パターン１１Ｓ上に複数設けられ、下層配線１１と結合されるが上層において電気的にはオープンになっている。 - 特許庁

A gas diffusion layer 2 is arranged on a flat-face laminate 3 structured in a pattern shape of a ferromagnetic body and a feeble magnetic body, and is directly applied with catalyst ink to form the electrode catalyst layer 1.例文帳に追加

強磁性体と弱磁性体によってパターン状に構成された平面状の積層体３上に、ガス拡散層２を配置して、触媒インクを直接塗布し、電極触媒層１を形成する。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by providing a surface protective layer comprising a coating film of the two-pack type curable urethane resin on a film based on the polyester resin (a) and forming an emboss pattern on the surface protective layer.例文帳に追加

下記ポリエステル系樹脂（ａ）を主成分とするフィルム上に、２液硬化型ウレタン樹脂の塗膜からなる表面保護層を設け、かつ前記表面保護層にエンボス模様を形成した化粧シート。 - 特許庁

A magnetic layer 51 containing at least one kind of elements selected from a group including iron, cobalt and nickel and a mask pattern 52 exposing the etching area 51E of the magnetic layer 51 are formed on a substrate S.例文帳に追加

基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層５１と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。 - 特許庁

By impressing voltage between the reserve pattern part 2Ba-2Bc of the transparent electrode layer 2 and the metal electrode layers 6, the metal electrode layer 6 is electrically divided along the virtual division lines 7a-7c.例文帳に追加

透明電極層２の予備パターン部２Ｂａ〜２Ｂｃと金属電極層６間に電圧を印加することによって、金属電極層６を仮想分割ライン７ａ〜７ｃに沿って電気的に分割する。 - 特許庁

A pattern of the second lens is formed on a resist layer 13 by irradiating the first lens 1 with the UV light through the gray scale mask 23 and exposing a resist layer 13 with the light transmitted through the first lens.例文帳に追加

そして、グレースケールマスク２３を介して第１レンズ１に紫外光を照射し、第１レンズを透過した光でレジスト層１３を露光することで、レジスト層１３に第２レンズのパターンを形成する。 - 特許庁

With a resist 7 pattern-formed in advance on a synthetic resin layer 2 above an electrode pad 3, an antireflection film 8 is removed together with the resist 7 so that a surface of the synthetic resin layer 2 is exposed.例文帳に追加

電極パッド３の上方の合成樹脂層２上にレジスト７を予めパターン形成し、レジスト７とともに反射防止膜８を除去することにより、合成樹脂層２の表面を露出させる。 - 特許庁

A distribution in expected pattern is formed in this dielectric layer structure by etching, doping, injection or diffusion to form a distribution of at least one kind of dielectric coefficients on each dielectric layer.例文帳に追加

この誘電層構造にエッチング、ドープ、或いは注入或いは拡散の方式により予定パターンの分布を形成し、各一つの誘電層に少なくとも一種類の誘電係数の分布を形成する。 - 特許庁

This semiconductor photoelectric cathode C is further has a backward mesa inclined surface area MA where the width of the other direction [01-1] of the pattern of the semiconductor layer 14 is decreased toward the electron emission layer 13.例文帳に追加

この半導体光電陰極Ｃは、電子放出層１３に向かうに従って半導体層１４のパターンの他方向［０１−１］の幅が狭くなる逆メサ斜面領域ＭＡを更に備えている。 - 特許庁

The electrode catalyst layer 1 is formed by arranging a gas diffusion layer 2, with catalyst ink directly coated, on a flat base material 3 structured in a pattern shape by a ferromagnet and a feeble magnet.例文帳に追加

強磁性体と弱磁性体によってパターン状に構成された平面状の基材３上に、ガス拡散層２を配置して、触媒インクを直接塗布し、電極触媒層１を形成する。 - 特許庁

The multilayered resin film 10 includes a layer 12 to be printed which is made of polyethylene terephthalate or a hologram and has a pattern 11 printed thereon and protective layers 14 made of soft vinyl chloride for coating both sides of the layer 12 to be printed.例文帳に追加

多層樹脂フィルム10は、絵柄11が印刷された、ポリエチレンテレフタレートまたはホログラム製の被印刷層12と、被印刷層12の両面を被覆する軟質塩化ビニル製の保護層14とを含む。 - 特許庁

In this case, the tilt of the core layer is adjusted by controlling the etching selection ratio between the photoresist pattern and core layer to precisely control the profile of the tapered optical waveguide through the simple process.例文帳に追加

この場合、フォトレジストパターンとコア層のエッチング選択比を制御することにより、コア層の傾斜を調節し、単純な工程を通じてテーパ型光導波路のプロフィールを精密に制御することができる。 - 特許庁

The support substrate 60 is peeled off a stack 40 including the electrode formation layer 62 and thin film transistor 30 and the electrode formation layer 62 is divided in a predetermined pattern to form pixel electrodes.例文帳に追加

その後、電極形成層６２及び薄膜トランジスタ３０を含む積層体４０から支持基板６０を剥離し、電極形成層６２を所定のパターン状に分割し、画素電極を形成する。 - 特許庁

One surface of a silicon substrate 21, with desired elements formed thereon, is covered with an insulation film 22; a first layer Al wiring 23 is formed on the one surface and an inspection pattern 24 of a first layer Al film is formed at the same time.例文帳に追加

所望の素子が形成されたシリコン基板２１の絶縁膜２２で覆われた面に第１層Ａｌ配線２３を形成し、同時に第１層Ａｌ膜による検査パターン２４を形成する。 - 特許庁

The camouflage material is composed of a laminated body of at least two or more layers, the outer layer material 1 having a camouflage pattern composed of camouflage colors of four stages, and the inner layer material 2 having the infrared ray absorbing capacity.例文帳に追加

赤外線吸収能を付与した内層材料を配置させることにより、赤外線領域での反射率上昇を抑制し、迷彩性能を損なわない偽装材料を提供する。 - 特許庁

In a TFT array substrate 10 of the reflection type electro-optical device 100, on the lower layer side of the light reflection film 8a, a recess and projection forming layer 13a forming the recessed and projected pattern 8g is formed.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、凹凸パターン８ｇを形成する凹凸形成層１３ａが形成されている。 - 特許庁

Since the solder resist layer 28 is formed by coating a liquified resin on the surface of the flattened insulating resin layer 26 and wiring pattern 24, it is formed in a planar condition with scarcely having an evenness on the surface.例文帳に追加

ソルダレジスト層２８は、平坦化された絶縁樹脂層２６及び配線パターン２４の表面に液状樹脂を塗布して形成されるため、表面に凹凸が殆どない平面状に形成される。 - 特許庁

A circuit board 26 of the present invention comprises: a substrate 12; an insulation layer 20 covering the top face of the substrate 12; and a conductive pattern 16 in prescribed shape which is formed on the top face of the insulation layer 20.例文帳に追加

本発明の回路基板２６は、基板１２と、基板１２の上面を被覆する絶縁層２０と、この絶縁層２０の上面に形成された所定形状の導電パターン１６とを備えている。 - 特許庁

A method for fabricating a cellular trench MOSFET includes depositing a first photoresist atop a first epitaxial (epi) layer to pattern a trench area, depositing a second photoresist atop a first gate conductor layer to pattern a mesa area, etching away part of the first gate conductor layer in the mesa area to form a second gate conductor layer with a hump, and titanizing crystally the second gate conductor layer to form a Ti-gate conductor layer.例文帳に追加

多孔質のＭＯＳＦＥＴの製造方法は、トレンチ領域をパターニングするために第１のエピタキシャル（エピ）層の上に第１のフォトレジストを堆積する段階と、メサ領域をパターニングするために第１のゲート導体層の上に第２のフォトレジストを堆積する段階と、ハンプを有する第２のゲート導体層を形成するために前記メサ領域の前記第１のゲート導体層の部分をエッチング除去する段階と、Ｔｉゲート導体層を形成するために前記第２のゲート導体層を結晶的にチタン化する段階と、を含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition which is excellent in pattern formation, adhesiveness after pattern formation, heat resistance after adhesion and moisture resistance reliability, to provide an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with adhesive layer, and a semiconductor device which use the photosensitive adhesive composition and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

パターン形成性、パターン形成後の接着性、接着後の耐熱性及び耐湿信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a shield cover 2 made of metallic plate is adhered to the upper surface of the insulative protection layer 6 by using a conductive adhesive agent 7, and the adhesive agent 7 is also applied to the earth pattern 5, thereby connecting electrically the shield pattern 5 and earth pattern 5 by means of the adhesive agent 7.例文帳に追加

そして、この絶縁性保護層６の上面に金属板製のシールドカバー２を導電性接着剤７を用いて貼着し、この導電性接着剤７をアースパターン５上にも塗布することにより、シールドカバー２とアースパターン５を導電性接着剤７を介して電気的に接続する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern medium using an imprint method capable of preventing a resist pattern defect generated by gas taken between an interface of an imprinting mold and a resist layer and a resist pattern defect generated by a bubble probably generated in the resist film and on the resist surface.例文帳に追加

インプリント用モールドの界面とレジスト層との間に取り込まれた気体によるレジストパターン欠陥や、レジスト膜中、レジスト表面に発生する可能性のある気泡によるレジストパターン欠陥の発生を防止できるインプリント法を用いたパターン媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A reception part of a dictionary limiting part receives an input by a touch pad part 6 and a decision part decides a corresponding operation pattern of the input that the reception part receives by referring to an operation pattern storage part 12 to specify an operation layer corresponding to the operation pattern.例文帳に追加

辞書限定部１４の受付部がタッチパッド部６で入力を受け付け、判定部が、操作パタン記憶部１２を参照することにより、前記受付部の受け付けた入力の該当する操作パタンを判定し、その操作パタンに対応する前記操作階層を特定する。 - 特許庁

A circuit pattern including the connecting part to an IC chip is formed on a basic material by screen printing method using a conductive ink, an IC chip is fixed to the connecting part of circuit pattern thus formed and then the circuit pattern and the IC chip are coated or laminated with a plastic protective layer.例文帳に追加

基材上に導電性インキを用いてＩＣチップへの接続部を含む回路パターンをスクリーン印刷法により形成し、形成した回路パターンの接続部にＩＣチップを取り付け、しかるのち前記回路パターン及びＩＣチップを被覆する保護層をプラスチックをコーティングまたはラミネートする。 - 特許庁

A photoresist layer 48 is formed on the support board 46, and a photomask 49 is formed (mask pattern) thereon and then subjected to an exposure process, whereby a non-fixed part 51 having the same pattern with the pattern wiring 32 and a fixed part 52 other than the non-fixed part 51 are formed.例文帳に追加

支持基板４６上にフォトレジスト層４８を形成し、その上にフォトマスク４９（マスクパターン）を施して露光して、フォトレジスト層４８に前記パターン配線３２と同じパターンをなす非定着部５１と、非定着部５１以外の領域からなる定着部５２とを形成する。 - 特許庁

In an optical information recording medium equipped with an information recording layer in which information is recorded by using holography, a known pattern is recorded as a recording pattern of a specific page or block for a first reference light, and a data pattern is recorded for a second reference light.例文帳に追加

ホログラフィを利用して情報を記録した情報記録層を備えた光情報記録媒体において、情報記録層には、特定のページ又はブロックの記録パターンとして、第１の参照光に対しては既知パターンが記録され、第２の参照光に対してはデータパターンが記録されている。 - 特許庁

The pattern forming apparatus with the pattern forming material has at least a light irradiating means capable of irradiating light and a light modulator for modulating light from the light irradiating means and exposing the photosensitive layer of the pattern forming material to the modulated light.例文帳に追加

また、前記パターン形成材料を備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。 - 特許庁

The display device comprises: an insulating substrate 100; dams 120a, 120b, 120c and a first color filter pattern formed on the insulating substrate; and a second color filter pattern which is defined by the dams and are formed on pixel regions, wherein the dams and the first color filter pattern are located on the same layer.例文帳に追加

表示装置は、絶縁基板１００、絶縁基板上に形成されたダム１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃおよび第１カラーフィルタパターン、およびダムによって区切られて画素領域に形成された第２カラーフィルタパターンを含み、ダムおよび第１カラーフィルタパターンは、同一層に位置する。 - 特許庁

The upper layer 9 in the thick photosensitive pattern is modified into a silica film 10 which is hardly etched when the thin photosensitive film pattern in a recess 5 of the resist is removed by etching so that the thick photosensitive film pattern can maintain its planar profile as the profile before etching.例文帳に追加

レジスト凹部５の薄い方の感光膜パターンをエッチング除去するときに、厚い方の感光膜パターンの上層９をエッチングされにくいシリカ膜１０に改質するので、厚い方の感光膜パターンはその平面形状をエッチング前の形状に維持することができる。 - 特許庁

A solution liquid in which a fluorine-containing polymer (A) substantially having no reactive functional group (x) is solved in a solvent is applied on the pattern of a mold 4 having the reverse pattern of the fine pattern, and the solvent is removed at a temperatures below 80°C to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、８０℃未満で溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁

After a preparatory resist pattern 63 having a projection part 63T at a position P3 corresponding to a flare point is formed by selectively exposing and developing a resist film, the preparatory resist pattern 63 is heated to form a resist pattern for forming a main magnetic pole layer.例文帳に追加

レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置Ｐ３に突起部６３Ｔを有する前準備レジストパターン６３を形成したのち、その前準備レジストパターン６３を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The dummy layer of the semiconductor device comprises a semiconductor substrate 401, an element separation film 402 for composing a dummy active region 403 in the logic region on the semiconductor substrate 401, a first dummy pattern 404 formed on the element separation film 402, and a second dummy pattern 405a for surrounding the first dummy pattern 404.例文帳に追加

本発明による半導体素子のダミー層は、半導体基板(401)と、半導体基板(401)上のロジック領域に、ダミーアクティブ領域(403)を構成する素子分離膜(402)と、素子分離膜(402)上に形成された第１ダミーパターン(404)と、第１ダミーパターン(404)を包囲する第２ダミーパターン(405a)とを有する。 - 特許庁

After the recessed pattern having surface density equivalent to that of the recessed pattern in the display region 102 is formed in the frame part 104, when columnar spacers 25 and 50 are formed, patterning is performed so that the recessed pattern of a transparent insulating layer formed in the frame part 104 is filled up with the columnar spacer 50.例文帳に追加

また、額縁部１０４に表示領域１０２と同等の面積密度の凹パターンを形成した後に、柱状スペーサ２５、５０を形成する際に、その柱状スペーサ５０で額縁部１０４に形成された透明絶縁膜層の凹パターンを埋めるようにパターンニングする。 - 特許庁

To provide a flexible wiring board having a multilayer wiring pattern electrode structure which can improve the continuity between wiring pattern electrodes in each layer and repeated-folding-resistance while effectively avoiding the influence of a noise to the wiring pattern electrodes, and to provide a liquid crystal display device using the same.例文帳に追加

配線パターン電極に作用するノイズの影響を有効に回避しつつ各層の配線パターン電極の導通と、曲げ性の向上とを図ることができる複数層の配線パターン電極構造を備えた可撓配線基板およびこれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal mask, which is made of a metal layer and is employed for a fabric-free printing and which develops no tendency for becoming thickening from the end part of a line pattern to its central part in the line pattern made of printing material obtained by printing and consequently the line pattern with a desired line width can be formed.例文帳に追加

金属層からなる、紗を用いない印刷用のメタルマスクで、印刷して得られる印刷材料からなるラインパターンにおいて、ラインパターンの端部から中央部にかけて線太になる傾向が見られず、所望のライン幅のラインパターンを形成できるメタルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor circuit board having a thick copper pattern layer and exhibiting excellent heat cycle resistance in which thermal stress due to difference of the coefficient of thermal expansion between a copper pattern and an insulating substrate is suppressed, stripping of the bonding interface between the copper pattern and the insulating substrate or cracking of the insulating substrate is retarded.例文帳に追加

銅パターンと絶縁基板の熱膨張係数差による熱応力が小さく、銅パターンと絶縁基板の接合界面の剥離や絶縁基板２の割れが生じ難く、銅パターン層が厚く、耐ヒートサイクル性に優れた高い信頼性を有する半導体回路基板を提供すること。 - 特許庁

A required circuit wiring pattern 2 is formed on at least one surface of an insulating base material 1 and an electrodeposited polyimide resin layer 4 is formed on the whole surface of the pattern 2 except openings 5 which become outside connecting terminal sections in the pattern 2.例文帳に追加

絶縁べ−ス材１の少なくとも一方面に所要の回路配線パタ−ン２を形成し、この回路配線パタ−ン２に於ける外部接続用端子部となる開口５を除くその回路配線パタ−ン２の全面に電着手段で電着ポリイミド樹脂層４を形成する。 - 特許庁

To keep pattern constituent materials to a minimum that are removed during the process of forming a metal or metal pattern to be used as an electrode, wire, or insulation layer so as to minimize the burden of recovering and reusing the pattern constituent materials.例文帳に追加

電極、配線または絶縁層として用いられる金属または金属化合物パターンを形成するに際し、工程途中で除去されるパターン構成材料を最小限に抑制し、パターン構成材料の回収再利用にかかる負荷を最小限に止めることができるようにする。 - 特許庁

The cut form sheet 1 with a watermark comprises a watermark ensign portion 3 having a watermark pattern layer 4 printed with oily ink on a surface of base paper 2 and edging pattern layers 5 printed along peripheral edges of the watermark pattern with shielding ink of paper color.例文帳に追加

原紙２の紙面上に油性インキにより印刷された透かし模様層４と、紙色の遮光インキにより該透かし模様の周縁に沿って印刷された縁取り模様層５とで構成される透かし標章部３を備えたことを特徴とする透かし入り帳票用紙１である。 - 特許庁

To limit the volume of a pattern component material, which is removed in a forming process to an irreducible minimum, so as to reduce the load required for the recovery and reuse of the pattern component material to an irreducible minimum, when a metal or metal compound pattern which is used as an electrode, wiring or an insulating layer is formed.例文帳に追加

電極、配線または絶縁層として用いられる金属または金属化合物パターンを形成するに際し、工程途中で除去されるパターン構成材料を最小限に抑制し、パターン構成材料の回収再利用にかかる負荷を最小限に止めることができるようにする。 - 特許庁

Then, a dielectric multi-layer film 2a accumulated on the mask pattern 11a is reduced as small as possible, and resist lift-off agent etc., can permeate through almost the whole surface of the mask pattern 11a at the lift-off process, then, the mask pattern can be easily and rapidly removed.例文帳に追加

それによって、マスクパターン１１ａ上に堆積する誘電体多層膜２ａは最小限に留まり、リフトオフ工程の際にレジスト剥離液等がマスクパターン１１ａのほぼ全面から浸透できることによって、マスクパターンの除去を容易かつ速やかに実施することが可能となる。 - 特許庁

In an optical information recording medium equipped with an information recording layer in which information is recorded by using holography, a known pattern is recorded as a recording pattern of a specific page or block with respect to a certain reference light, and a data pattern is recorded with respect to another reference light.例文帳に追加

ホログラフィを利用して情報を記録した情報記録層を備えた光情報記録媒体において、情報記録層には、特定のページ又はブロックの記録パターンとして、ある参照光に対しては既知パターンが記録され、別の参照光に対してはデータパターンが記録されている。 - 特許庁

In the ensign portion 3 of such a constitution, even if the layer 4 printed with the oily ink is diffused and stained due to aging change, the shielding layers 5 specify the edge of the pattern, and hence the pattern shape is still maintained so that the watermark pattern is not blurred.例文帳に追加

かかる構成の透かし標章部３にあって、経時変化により油性インキにより印刷された透かし模様層４が拡散して、滲んでも、遮光性のある縁取り模様層５が模様の周縁を規定しているから、模様形状が画然として維持され、透かし模様がぼけない。 - 特許庁

The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9.例文帳に追加

この高伝導化プリント基板１は、中空導体構造よりなり、絶縁基材２の外表面にパターニングされた銅箔パターン４と、銅箔パターン４を被覆する導体被膜９と、銅箔パターン４と導体被膜９間に形成された発泡中空層７とを、少なくとも有している。 - 特許庁

By the method for forming the dummy layer of the semiconductor device, the element separation film 402 for composing the dummy active region 403 is formed in the logic region on the semiconductor substrate 401, the first dummy pattern 404 is formed on the element separation film 402, and the second dummy pattern 405a for surrounding the first dummy pattern 404 is formed.例文帳に追加

本発明による半導体素子のダミー層形成方法によれば、半導体基板(401)上のロジック領域に、ダミーアクティブ領域(403)を構成する素子分離膜(402)を形成し、素子分離膜(402)上に第１ダミーパターン(404)を形成し、第１ダミーパターン(404)を包囲する第２ダミーパターン(405a)を形成する。 - 特許庁