「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, it is preferable that the cross-linking agent is isocyanate based one, that the coating method of the processing liquid is a gravure roll processing, and that the porous layer composed of the polymer elastic body is formed by a wet coagulation method.例文帳に追加

さらには、架橋剤がイソシアネート系であることや、処理液の塗布方法がグラビアロール処理であること、高分子弾性体からなる多孔層が、湿式凝固法によるものであることが好ましい。 - 特許庁

The host computer 10 executes a reservation layer 31b for controlling the generation of a processing thread 31c by means of a CPU 31 and processing requests exceeding the throughput of the CPU 31 are registered in a queue.例文帳に追加

ホストコンピュータ１０は、ＣＰＵ３１により、処理スレッド３１ｃの生成を制御する予約レイヤ３１ｂを実行し、ＣＰＵ３１の処理能力を超える処理要求はキューに登録される。 - 特許庁

A first interface unit 31 inputs transmission target data and a trigger relating to cancellation of transmission of the transmission data from a processing unit 30 that performs processing in compliance with a communication protocol of an upper layer.例文帳に追加

第１インタフェース部３１は、送信対象データおよび送信対象データの送信のキャンセルに関係するトリガを、上位層の通信プロトコルに従った処理を行う処理部３０から入力する。 - 特許庁

Then, a conductive film 51 is formed on almost entire region of the upper surface of the piezoelectric layer 42 (conductive film forming step) followed by cutting out a common electrode 44 from the conductive film 51 by laser processing (laser processing step).例文帳に追加

次に、圧電層４２の上面のほぼ全域に導電膜５１を形成し（導電膜形成工程）、続いて、レーザ加工により、導電膜５１から共通電極４４を切り出す（レーザ加工工程）。 - 特許庁

To provide a method of processing a blind hole in a multilayer circuit board which allows easy confirmation of the location of an inner layer and can increase the processing accuracy, and also to provide the multilayer circuit board and a probe for inspection.例文帳に追加

内層位置の確認作業が容易で、加工精度を向上させることができる多層回路基板の止まり穴加工方法および多層回路基板並びに検査用プローブを提供すること。 - 特許庁

Part of processing of a high-order protocol is executed in advance in a lower protocol layer and executing the inspection of utility of packets reduces unnecessary processing and efficiently executes a protocol program.例文帳に追加

プロトコル階層の下位の層で、上位のプロトコルの処理の一部を先んじて実行し、パケットの有用性の検査を実行することによって、不必要な処理を軽減させ、プロトコルプログラムを効率良く実行する。 - 特許庁

A transistor 27, etc., of which a signal processing circuit is composed are formed in the upper surface layer part of the 1st silicon chip 15, and the electrical signals of the photodiodes DR and DL are processed by the signal processing circuit.例文帳に追加

第１のシリコンチップ１５における上面表層部に信号処理回路を構成するトランジスタ２７等が形成され、信号処理回路によりフォトダイオードＤR ，ＤL の電気信号が処理される。 - 特許庁

As a laser processing for forming the through-opening and the recessed part, a CO_2 laser processing is used, and as a thin sheet 101 of an object to be processed, a product with a base layer composed of an acrylic resin is used.例文帳に追加

貫通開口や凹部を形成するレーザー加工処理として、ＣＯ_２レーザー加工処理を用いるとともに、加工対象物薄板１０１として、アクリルからなる基層を有するものを用いた。 - 特許庁

On the outer wall of the base 7 and the outer wall 14 of the lip 8 are given crimp processing in the satin finished state as a surface irregularity processing in advance to be brought close to glaze and color of the surface processed layer 12.例文帳に追加

基部７の外壁及びリップ８の外壁１４には、表面処理層１２の光沢及び色彩に近づけるための表面凹凸加工たる梨地状のシボ加工が予め施されている。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing device capable of removing a predetermined part of a layer on a substrate without carrying out a complicated step such as etching, ashing, cleaning or the like.例文帳に追加

基板上の層の所定部分をパターニング、エッチング、アッシング、洗浄等の煩雑な工程を経ることなく除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In detail, solution is injected in a spray mode (15) rotating the magnetic recording medium (11) after applying liquid lubricant layer, the tape (13) is fed for each processing, and feeding of the tape is stopped during processing.例文帳に追加

詳しくは、液体潤滑層塗付後の磁気記録媒体（１１）を回転させながら、溶剤をスプレー式で噴射（１５）し、加工毎にテープ（１３）を送り、加工中はテープの送りを停止する。 - 特許庁

A processing means (LAN data link layer) performs a processing for transmitting the judged received signal to the transmission destination corresponding to transmission destination identification information based on the storage content of the storage means 32.例文帳に追加

処理手段（ＬＡＮデータリンクレイヤ）が、当該判定後の受信信号を記憶手段３２の記憶内容に基づく送信先識別情報に対応する送信先に対して送信するための処理を行う。 - 特許庁

The metal surface is directly phase-transformed into a modified layer containing more ceramic particles with the ion beam implantation, or high-speed electron beam irradiation as the pretreatment, and the plasma processing as the main processing.例文帳に追加

イオンビーム注入、或いは、高速電子線照射を前処理とし、プラズマプロセッシングを主加工として、金属直面を直接的にセラミックス粒子を多く含む改質層に相変態させる加工法。 - 特許庁

The processing method for a chemical-less negative lithographic printing plate is characterized in that a chemical-less negative lithographic printing plate including a hydrophilic layer, an image forming layer containing a photosensitive polymer, and an over layer, at least in this order on a plastic film substrate is subjected to a developing process with a chemical-less processing liquid in the presence of a chelating agent.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、感光性ポリマーを含有する画像形成層、更にオーバー層を少なくともこの順に有するケミカルレスネガ型平版印刷版の処理方法において、ケミカルレス処理液による現像処理をキレート剤の存在下で行うことを特徴とするケミカルレス平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

A multiple function peripheral (MFP) is provided with an external API (application program interface) section 40 that has a function of receiving XML data including a processing request related to image processing from an external PC 50, converting the data into a command corresponding to the API of a control layer 20, and giving the command to an application of an application layer 30 or the control layer 20.例文帳に追加

デジタル複写機（ＭＦＰ）は、外部ＰＣ５０からの、画像処理に関する処理要求を示すＸＭＬデータを受け付けて、それを制御層２０のＡＰＩ（アプリケーション・プログラム・インターフェース）に対応するコマンドに変換してアプリケーション層３０のアプリケーションまたは制御層２０に渡す機能を有する外部ＡＰＩ部４０を備える。 - 特許庁

In a plasma-etching method for etching an SiN layer 104 or a silicon oxide layer formed on a substrate to be processed by plasma of processing gas with an ArF photoresist layer 102 as a mask, the processing gas contains at least CF_3I gas, and a high frequency power having a frequency of 13.56 MHz or less is applied to a lower electrode on which the substrate to be processed is mounted.例文帳に追加

被処理基板上に形成されたＳｉＮ層１０４又は酸化シリコン層を、ＡｒＦフォトレジスト層１０２をマスクとして処理ガスのプラズマによりエッチングするプラズマエッチング方法であって、処理ガスは、少なくともＣＦ_3Ｉガスを含み、被処理基板を載置する下部電極に１３．５６ＭＨｚ以下の周波数を有する高周波電力を印加する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein at least a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective layer are sequentially layered on the surface of the disk substrate 1 on which the texture processing is performed after the texture processing is performed, when the texture processing is performed, a polishing slurry S including an abrasive formed by sintering and pulverizing cluster diamond is used.例文帳に追加

ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施した後に、このテクスチャ加工が施されたディスク基板１の表面上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層、及び保護層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法であって、前記テクスチャ加工を施す際に、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなる砥粒を含む研磨スラリーＳを用いる。 - 特許庁

In the transparent electromagnetic wave shielding film composed by performing exposure to a photosensitive material having a silver halide emulsion containing layer containing at least photosensitive silver halide and a binder on a support, performing development processing and intensification processing, and forming a conductive metal pattern, a protective layer is formed after the intensification processing.例文帳に追加

支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーを含有するハロゲン化銀乳剤含有層を有する感光材料に露光後、現像処理及び補力処理を行い、導電性金属パターンを形成してなる透明電磁波遮蔽フィルムにおいて、補力処理後に保護層を形成することを特徴とする透明電磁波遮蔽フィルム。 - 特許庁

In an RLC communication device in which an RLC protocol processing is performed in an RLC protocol processing section 104 to automatically reproduce data missed in a radio section, RLC PDU which is a protocol data unit generated by the RLC protocol processing is received by a low-order layer communication processing section 101 from the opposing device.例文帳に追加

ＲＬＣプロトコル処理部１０４で、無線区間で紛失したデータを自動再生するＲＬＣプロトコル処理を行うＲＬＣ通信装置において、ＲＬＣプロトコル処理によって生成されるプロトコルデータユニットであるＲＬＣ ＰＤＵを対向装置から下位レイヤ通信処理部１０１で受信する。 - 特許庁

The host request reception processing section 15 receives transmission data from a host layer, to write the data to a transmission area in the transmission/reception buffer 11, and the protocol processing section 12 applies protocol processing to the transmission data to generate a transmission frame, and the network transmission processing section 14 transmits the generated transmission frame to a network N.例文帳に追加

ホスト要求受信処理部１５は、送信データを上位レイヤから受け取って送受信バッファ１１内の送信用領域に書き込み、プロトコル処理部１２は、送信データにプロトコル処理を行って送信フレームを作成し、ネットワーク送信処理部１４は、作成された送信フレームをネットワークＮ上に送信する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrator capable of suppressing occurrence of a processing flaw, a destructive altered layer and a micro clack appeared on a processing surface duet to a processing such as a grinding and a polishing and also capable of showing piezoelectric characteristics owned originally by a piezoelectric board with preventing a drop in degree of polarization due to pressure and heat of the processing.例文帳に追加

研削や研磨等の加工によって加工表面にできる加工傷や破壊変質層あるいはマイクロクラックの発生を抑えるとともに、加工圧力や加工熱による分極の度合いの劣化を防止し、圧電板がもつ本来の圧電諸特性を発揮することができる圧電振動子を提供する。 - 特許庁

In a microwave plasma processing method for depositing a thin film layer on a base body disposed in a plasma processing chamber by introducing a microwave into the plasma processing chamber to turn treatment gas into plasma, the microwave is intermittently oscillated and introduced into the plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理室にマイクロ波を導入し、処理用ガスをプラズマ化することにより、前記プラズマ処理室内に配置した基体に薄膜層を形成するマイクロ波プラズマ処理方法において、前記マイクロ波を断続発振させて、前記プラズマ処理室に導入することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理方法である。 - 特許庁

As one example, a processing mode 1 for performing transfer by a low order layer 11 and a processing mode 2 for performing transfer by a high order layer are changed, depending on whether an information transmission rate in a transmission-side wireless section is larger or smaller than a predetermined threshold.例文帳に追加

一例として、送信側の無線区間における情報伝送速度が予め定められた閾値と比べて大きいか或いは小さいかに応じて、下位レイヤ１１により転送を行う処理モード１と、上位レイヤ１２により転送を行う処理モード２とを切り替える。 - 特許庁

When compressing a source image by means of a compression processing section (image compressor) 3, in a color image processing apparatus 2, an edge of a black character and/or line drawing in the source image is detected, a foreground layer (first image) is produced by representing the detected edge as a binary image, and the foreground layer is reversibly compressed.例文帳に追加

カラー画像処理装置２は、圧縮処理部（画像圧縮装置）３で、原画像を圧縮する際に、原画像中の黒色の文字及び／又は線画のエッジを検出し、検出したエッジを２値画像で表した前景レイヤ（第１画像）を生成し、前景レイヤを可逆圧縮する。 - 特許庁

In the laser processing process, a laser processing region 43 including a metal pattern 41a formed on the principal surface 3a of the scribe region 40b is irradiated with a first laser beam having first energy from the side of a principal surface 3a to remove an insulating layer (first insulating layer) 34.例文帳に追加

このレーザ加工工程では、第１のエネルギーを有する第１のレーザを、スクライブ領域４０ｂの主面３ａ上に形成された金属パターン４１ａを含むレーザ加工領域４３に主面３ａ側から照射して、絶縁層（第１絶縁層）３４を取り除く。 - 特許庁

Each of the two foil surfaces which is physically bonded to the dielectric layer is smooth (preferably by chemical processing) and has a thin, organic layer thereon, while the outer surfaces of both foils are also smooth (preferably by using a chemical processing step).例文帳に追加

この絶縁層に物理的に接合されたこれら箔１１の２つの表面は平滑（好ましくは化学処理によって）であって、それらの上に薄い有機質層を備えており、一方両方の箔１１の外側の表面もまた平滑（好ましくは化学処理ステップを用いることによって）である。 - 特許庁

After narrowing and thinning the electrode layer 24 as indicated by a solid line by an isotropic etching processing, an n^--type source region 32 and an n^--type drain region 34 are formed by the ion implantation processing with the lamination of the electrode layer 24 and the insulating film 20, and the insulating film 16 as the masks.例文帳に追加

等方性エッチング処理により電極層２４を実線で示すように細く且つ薄くした後、電極層２４及び絶縁膜２０の積層と絶縁膜１６とをマスクとするイオン注入処理によりＮ^−型ソース領域３２及びＮ^−型ドレイン領域３４を形成する。 - 特許庁

To provide a surface processing method of a film with metal foil, with which a life of roughening liquid is prolonged, a stable roughening processing is realized and a wiring board superior in bonding reliability of a wiring circuit layer, a via conductor and an insulating layer can easily be manufactured, and to provide a manufacturing method of the wiring board.例文帳に追加

粗化液の寿命を延長し、安定した粗化処理を可能とし、配線回路層と、ビア導体及び絶縁層との接合信頼性に優れた配線基板を容易に作製できる金属箔付きフィルムの表面処理方法および配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The hardware abstract layer control part receives a control request for one of the plurality of hardware processing parts from a program that operates in a user mode, and performs control about a hardware processing part specified by a control request by using the common interface in the hardware abstract layer.例文帳に追加

ハードウェア抽象化層制御部は、ユーザモードで動作するプログラムから、複数のハードウェア処理部のいずれかに対する制御要求を受け付け、ハードウェア抽象化層において、共通のインタフェースを用いて、制御要求により特定されるハードウェア処理部に関する制御を行う。 - 特許庁

A frame ground terminal 2a of a terminal strip 2, mounted on a signal processing substrate 1, is connected to a shield 5b of a shield cable 5 and a terminal pin 2b thereof is connected to a frame ground layer 9 formed as an inner layer of the signal processing substrate 1 through a through-hole 13.例文帳に追加

信号処理基板１に実装された端子台２のフレームグランド端子２ａはシールドケーブル５のシールド線５ｂと接続されており、そのターミナルピン２ｂが信号処理基板１の内層として形成されたフレームグランド層９とスルーホール１３を通じて接続されている。 - 特許庁

The target object W to be processed has an organic film and a photoresist layer formed on the organic film, and the organic film is etched with plasma containing hydrogen using a processing gas containing hydrogen as a processing gas and also using the photoresist layer as a mask while applying a DC negative voltage to a first electrode 5.例文帳に追加

被処理体Ｗが、有機膜と、この有機膜上に形成されたフォトレジスト層とを備え、処理ガスとして水素を含む処理ガスを用い、第１電極５に直流負電圧を印加しながら、フォトレジスト層をマスクに用いて、有機膜を、水素を含むプラズマによりエッチングする。 - 特許庁

The system is provided with application units 111, 112 for performing TCP/IP communication or the like, the communication processing unit 31 of a communication layer for performing radio communication by the DSRC, and a radio unit 41 for performing transmission/reception between a data processing unit 21 of an adaptive layer taking an interface therebetween and the mobile communication device.例文帳に追加

ＴＣＰ／ＩＰ通信等を行うアプリケーション部１１１、１１２と、ＤＳＲＣによる無線通信を行う通信層の通信処理部３１と、その間でインタフェースをとるアダプティブ層のデータ処理部２１及び移動局通信装置との間で送受信を行う無線部４１を設ける。 - 特許庁

To provide a multilayer antireflection film with single layer film properties of MgF2 capable of both side processing using only a sputtering method in the case of processing a lens which needs multilayer antireflection film properties at one side and single layer film properties of MgF2 at the other side.例文帳に追加

一方の片面が多層反射防止膜特性、他の片面がＭｇＦ２の単層膜特性を必要とするレンズを加工する場合、スパッタ法のみを用いて両面加工が可能な、ＭｇＦ２の単層膜特性を有する多層反射防止膜を提供することにある。 - 特許庁

To provide a process and a device for manufacturing an integrated circuit element on a substrate (for example, a silicon wafer), which enable an FSG layer to be flattened by a CMP processing process, and besides keep the stability of this FSG layer in the subsequent processing.例文帳に追加

本発明は、ＦＳＧ層がＣＭＰ処理工程によって平滑化されることを可能にし、且つ後続の処理工程の時になお、これらＦＳＧ層の安定性を維持する、基板（例えばシリコンウェハ）上に集積回路素子を製造するためのプロセスと装置とを提供する。 - 特許庁

To provide an image compressing method that improves efficiency of color image compression processing, when a foreground layer and a background layer obtained by dividing a color image are each compressed, and to provide an image compressing device, an image processing apparatus, an image forming apparatus, a computer program and a recording medium.例文帳に追加

カラー画像を分離してなる前景レイヤと背景レイヤとを夫々圧縮する場合に、カラー画像圧縮処理の効率を向上させることができる画像圧縮方法、画像圧縮装置、画像処理装置、画像形成装置、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

This device detects how many layers of gradations exist in the horizontal or vertical direction of an image processing object and enables high-speed processing of image by calculating only the first layer of detected gradations, copying and using the first layer to the layers after second one.例文帳に追加

上記目的を達成するために本発明の装置は、画像処理オブジェクトが水平方向あるいは垂直方向に何層のグラデーションがあるかを検知し、検知したグラデーションの第一層のみを計算し、第二層以下に第一層をコピーして使用することにより画像の高速処理を可能とした。 - 特許庁

The method for manufacturing a polyimide wiring substrate is constituted by including a reforming step that forms a reformed layer on a polyimide resin, an adsorbing step that allows metal ions to be adsorbed in the reformed layer, and a reducing step that reduces the adsorbed metal ions with a plasma processing or an electron beam radiation processing.例文帳に追加

ポリイミドフィルムに改質層を形成する改質工程；改質層に金属イオンを吸着させる吸着工程；および吸着した金属イオンをプラズマ処理または電子ビーム照射処理により還元させる還元工程；を含んでなるポリイミド配線板の製造方法。 - 特許庁

On a surface layer t of an organic material which has a bonding of carbon and hydrogen formed on a figure of component (e.g., shield ring) located in a processing room of a plasma processing apparatus, a surface fluorination treatment, which replaces hydrogen bound with carbon contained in the surface layer with fluorine, is performed.例文帳に追加

プラズマ処理装置における処理室内に配設される部品（例えばシールドリング）の形状に形成された炭素と水素の結合を有する有機材料の表面層ｔに，この表面層に含まれる炭素に結合されている水素をフッ素に置換する表面フッ素化処理を施す。 - 特許庁

If stable reproduction cannot be attained, as a result of comparison by the comparator 107, a control circuit 108 controls an SW circuit 109 to stop the inputting of the layer B data to a synchronous processing section 103 for synchronizing layer A data and layer B data.例文帳に追加

制御回路１０８は、比較器１０７の比較の結果、Ｂ階層の安定再生が得られない場合、Ａ階層データとＢ階層データとの同期をおこなう同期処理部１０３へのＢ階層データの入力が停止するようＳＷ回路１０９を制御する。 - 特許庁

A distance by which crystal dislocation of an outer edge portion of the active layer 105 generated in selective oxidation processing for forming the oxide-confinement layer 107 is propagated to a center part of the active layer is made long to improve the long-period reliability of the surface emitting laser element.例文帳に追加

酸化狭窄層１０７を形成する選択酸化処理に際して発生する活性層１０５の外縁部の結晶転位が、活性層の中央部に伝搬する距離を長くすることで、面発光レーザ素子の長期信頼性を向上する - 特許庁

On the other hand, a DC-DC converter control IC 115 and an external LSI 123 that are arranged on the wiring board 131 and are other circuits for mainly processing signals are connected with a general ground layer 119 as a layer different from the power system ground layer 104.例文帳に追加

これに対して配線基板１３１に配置された主に信号処理用の他の回路であるＤＣ—ＤＣコンバータコントロールＩＣ１１５や外部ＬＳＩ１２３はパワー系グランド層１０４とは異なる層としての一般グランド層１１９に接続されている。 - 特許庁

In the color filter for the display device, having a color filter layer constituted by performing heat-treatment on the plastic film, the plastic film is made of crosslinking resin and heated at temperature of heat-processing temperature of the color filter layer or more, prior to the formation process of the color filter layer.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に加熱処理してなるカラーフィルタ層を有する表示装置用カラーフィルタにおいて、プラスチックフィルムが架橋性樹脂からなり、かつカラーフィルタ層の形成工程より先にカラーフィルタ層の加熱処理温度以上の温度で加熱されている - 特許庁

In addition, a method of manufacturing the photoelectric conversion device 10 includes: a step of processing the surface of the electrode layer 2 with a silane coupling agent; and a step of providing the compound semiconductor layer 3 with the chalcopyrite structure on the surface of the electrode layer 2, which is processed with the silane coupling agent.例文帳に追加

また、光電変換装置１０の製造方法は、電極層２の表面をシランカップリング剤で処理する工程と、電極層２のシランカップリング剤で処理された表面上にカルコパイライト構造の化合物半導体層３を設ける工程とを具備する。 - 特許庁

The electrode plate is manufactured by forming a phosphorus-containing layer on the surface of the collector by processing the surface of the collector with a water solution containing metal phosphate salt, and then forming an active material layer on the film layer.例文帳に追加

本発明の電極板は、例えば、リン酸金属塩を含有する水溶液を用いて集電体表面を処理することにより集電体表面にリン含有層を形成し、次いで該被膜層上に活物質層を形成することにより製造される。 - 特許庁

The development processor for processing a photosensitive planographic printing plate having an image forming layer and an oxygen blocking layer on a supporting body processes the removed oxygen blocking layer dissolved in washing water by the following means (A) and (B).例文帳に追加

支持体上に画像形成層、酸素遮断層を有する感光性平版印刷版を処理する現像処理装置において、取り除き、且つ、水洗水に溶解した該酸素遮断層を以下のＡ）、Ｂ）の手段で処理することを特徴とする現像処理装置。 - 特許庁