「manufacturing order」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing apparatus 501 of liquid crystal display device includes: a polarizing plate dividing device 502 applying laser beams of wavelength 0.355 to 10.6 μm in order to divide the polarizing plate attached onto a substrate which constitutes a liquid crystal cell; and a polarizing plate stripping device 503 for stripping the unnecessary part in the polarizing plate divided by the laser beams.例文帳に追加

液晶表示装置の製造装置５０１は、液晶セルを構成する基板上に貼り付けられた偏光板を分断するために波長が０．３５５μｍ以上１０．６μｍ以下のレーザ光を照射することができる偏光板分断装置５０２と、上記レーザ光によって分断された上記偏光板のうち不要部分を上記基板上から剥離するための偏光板剥離装置５０３とを備える。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加

半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のｐＨと酸化還元電位（ＯＲＰ）をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のｐＨ制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film transistor substrate includes at least a step of forming a silicon semiconductor film on a substrate, a step of forming a gate insulating film of silicon oxide, and a step of forming a gate electrode in this order, and includes a high-pressure vapor processing step of less than 300°C after the step of forming the gate electrode.例文帳に追加

少なくとも、基板上にシリコン半導体膜を形成する工程と、酸化ケイ素からなるゲート絶縁膜を形成する工程と、ゲート電極を形成する工程とをその順で有するトップゲート型の薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、前記ゲート電極の形成工程後に、３００℃未満の高圧水蒸気処理工程を設ける。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask having a mask pattern formed of step parts of two or more kinds of height, includes, before a stage of forming at least one kind of step part in 2nd order or later, a stage of making the substrate surface smooth by coating the step parts formed in the previous stage with the photosensitive resin and then polishing the photosensitive resin.例文帳に追加

マスクパターンが２種類以上の高さの段差部から形成されるフォトマスクの製造方法において、２番目以降に形成される少なくとも１種類の段差部形成工程の前に、前工程によって形成された段差部に感光性樹脂を塗布し、次いで研磨を行うことにより基板表面を平滑にする工程を含むフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the solar cell back sheet base film includes a coating process of forming a coated film by applying a coating of liquid which contains an oxazoline group containing compound, acrylic resin, and inorganic particles to at least one side of the support medium which contains the first polymer and a process of heating the coated film in order for the acrylic resin to be crosslinked by the oxazoline group containing compound.例文帳に追加

第１のポリマーを含むシート状の支持体の少なくとも片面に、オキサゾリン基を有する化合物、アクリル樹脂、及び、無機微粒子を含有する液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、オキサゾリン基を有する化合物によりアクリル樹脂が架橋されるように、塗膜を加熱する工程と、を有する太陽電池のバックシート用基材フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrostatic charge image developing toner which has a sharp grain size distribution and good shape without a change in the grain size distribution and shape of the toner before and after drying even if the velocity of a heated air current flowing in main piping is increased in order to prevent the generation of undried toner particles and flocculated particles, and which has excellent image stability and electrostatic charge characteristics.例文帳に追加

未乾燥のトナー粒子や凝集粒子の発生を防止するために主配管を流れる加熱気流の速度を大きくしても、乾燥前後でのトナーの粒度分布や形状に変化がなく、シャープな粒度分布と良好な形状を有し、画質安定性が優れ帯電特性の良好な静電荷現像用トナーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method for semiconductor device comprises a process for forming a cobalt layer 11 on the surface of a silicon layer 4, a process for heat-treating silicon layer and cobalt layer 11 at temperature range of 150°C to 300°C, and a process for heat treating the silicon and the cobalt layer 11 at 500°C to 800°C to be carried out in this order.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、シリコン層４の表面にコバルト層１１を形成する工程と、１５０℃〜３００℃の温度下でシリコン層及びコバルト層１１を熱処理する工程と、５００℃〜８００℃の温度下でシリコン層及びコバルト層１１を熱処理する工程とをこの順に含んでいる。 - 特許庁

The thin-film-transistor manufacturing method is the one wherein a semiconductor layer, a gate insulating film, a gate electrode, and a cap insulation film are disposed in this order, and further, the cap insulation film is so formed on the gate insulating film and the gate electrode as to inject impurities into the semiconductor layer via the gate insulating film and the cap insulation film.例文帳に追加

半導体層、ゲート絶縁膜、ゲート電極及びキャップ絶縁膜をこの順に備える薄膜トランジスタの製造方法であって、上記製造方法は、ゲート絶縁膜及びゲート電極上にキャップ絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜及びキャップ絶縁膜を介して半導体層に不純物を注入する薄膜トランジスタの製造方法である。 - 特許庁

To solve the problem in a conventional mounting device that manufacturing management for providing a mounting device of ball detector capable of precisely mounting a ball detector 20 in a prescribed position are difficult because the precision of a dimension W1 from an inner front wall 17a to the locking surface of a locking part is required in order to precisely hold the ball detector 20 in the prescribed position.例文帳に追加

従来の取付け装置では、球検出器２０を所定の位置に正確に保持するためには、内部前壁１７ａから係止部の係止面までの寸法Ｗ１の精度が要求されるため、球検出器２０を所定の位置に正確に装着できる球検出器の取付け装置を得るための製造管理が困難である。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor apparatus includes steps of: (1) forming a polyimide-containing resin film on a wafer; (2) subjecting the resin film to plasma treatment using a reactive gas; (3) subjecting the resin film to heat treatment; and (4) sealing at least a part of the resin film with a sealing resin, the steps being performed in this order.例文帳に追加

少なくとも（１）ウエハ上にポリイミドを含有する樹脂膜を形成する工程、（２）前記樹脂膜に反応性ガスを用いたプラズマ処理をする工程、（３）前記樹脂膜に熱処理をする工程および（４）前記樹脂膜の少なくとも一部を封止樹脂で封止する工程をこの順に有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrode catalyst layer for the fuel cell includes (a) a process for forming the electrode catalyst layer which does not contain a solvent, on a support, and (b) a process for placing the electrode catalyst layer formed on the support in a first environment at 0°C or less and then placing in a second environment of 20°C or higher in order.例文帳に追加

燃料電池のための電極触媒層の製造方法は、（ａ）支持体上に設けられ、溶媒を含まない電極触媒層を準備する工程と、（ｂ）発電に使用される前に、支持体上に設けられた電極触媒層を、０℃以下の第１の環境と、２０℃以上の第２の環境と、に順次置く工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a head supporting device which can reduce the number of crash stops disposed in a casing in order to prevent damage due to a runaway of a voice coil motor or the impact from the outside or by a contact or collision of the head supporting device with or against a recording medium or other disk device constituting parts and can be manufactured at a low manufacturing cost.例文帳に追加

ボイスコイルモータの暴走または外部からの衝撃により、ヘッド支持装置が記録媒体またはその他のディスク装置構成部位と接触または衝突して損傷するのを防止するために筐体に設けられるクラッシュストップの数を削減し、安価な製造コストで作製することができるヘッド支持装置を提供する。 - 特許庁

To determine, in order to determine exhaust weights of components of an object to be measured, such as fluoro-compounds included in an exhaust gas from semiconductor equipment, a flow rate of a pump-exhaust gas from a pump installed in the downstream of the semiconductor manufacturing equipment high-precisely and correctly, and to thereby determine the exhaust weight of components of the object high-precisely.例文帳に追加

半導体製造装置からの排ガス中に含まれるフルオロコンパンズ等の被測定対象成分の排出重量を正確に求めるために、半導体製造装置の下流に設置されたポンプからのポンプ排出ガスの流量を高精度かつ正確に求め、これにより被測定対象成分の排出重量を高精度に求められるようにする。 - 特許庁

In order to remove a germanium (Ge) contaminant stuck in a manufacturing process of a semiconductor device, a treatment is performed using a solution containing hafnium (HF) after a treatment using an oxidative solution such as an ammonia-hydrogen peroxide solution (APM), hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution (HPM), sulfuric acid-hydrogen peroxide solution (SPM), and aqua regia or oxidation treatment such as oxidative plasma treatment.例文帳に追加

半導体デバイス製造過程において付着したゲルマニウム（Ｇｅ）汚染物を除去するために、酸化力を有する溶液、例えば、アンモニア−過酸化水素水（ＡＰＭ），塩酸−過酸化水素水（ＨＰＭ）、硫酸−過酸化水素水（ＳＰＭ）、王水等による処理、もしくは、酸素プラズマ処理等の酸化処理に連続して、弗酸（ＨＦ）含有水溶液による処理を行なう。 - 特許庁

To realize a process method of punching and embedding a conductive matter on the surface of a metal separator member in a low-cost blasting process after a molding process in a complicated shape at high productivity with the use of a raw material with high workability in order to attain low cost and mass production in manufacturing a metal separator for a solid polymer fuel cell with stainless steel, titanium, or titanium alloy.例文帳に追加

固体高分子型燃料電池用メタルセパレータをステンレス鋼、チタンまたはチタン合金で製造するにあたり、低コスト化と量産性を確保するために、高い加工性を有する素材を用いて高い生産性で複雑形状に成形加工した後に、安価なブラスト工程でメタルセパレータ部材表面に導電性物質を打ち込み埋め込む工法を実現することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the metallic layer laminated film includes at least (1) a step which applies polyimide or a precursor thereof on a support film having a glass transition point of 250°C or more, and forms a polyimide layer, (2) a step for laminating a metallic foil on the polyimide layer by heating and pressurizing, and (3) a step for peeling the support film in this order.例文帳に追加

少なくとも（１）ガラス転移点が２５０℃以上である支持フィルム上にポリイミドまたはその前駆体を塗布し、ポリイミド層を形成する工程、（２）前記ポリイミド層に金属箔を加熱加圧により積層する工程、（３）支持フィルムを剥離する工程をこの順に有する金属層積層フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide an optical element of high quality, which suppresses a rise in refractive index of a substrate surface when impurities are thermally diffused in a crystal substrate made of lithium niobate crystal of constant-ratio composition or made by doping the crystal with Mg, or when the crystal substrate is heat-treated in order to recover machining strain, and has superior productivity and optical characteristics, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

定比組成ニオブ酸リチウム結晶又は該結晶にＭｇをドープした結晶基板において、不純物を熱拡散する場合や、加工歪を回復するために熱処理する際の基板表面の屈折率上昇を抑制し、また、生産性並びに光学特性の優れた高品位な光学素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the steel decorative panel constituted by laminating the steel sheet base material on the side of the polyolefinic resin layer of the decorative sheet, which is formed by laminating a polyolefinic resin layer, a pattern layer and a transparent polypropylene resin layer in this order, through the adhesive, the decorative sheet is heated to 120-220°C at the time of lamination.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂層と絵柄模様層と透明ポリプロピレン樹脂層とを少なくともこの順に積層してなる化粧シートのポリオレフィン系樹脂層側に、接着剤を介して鋼鈑基材を貼り合わせてなる鋼鈑化粧板の製造方法において、貼り合わせの際に前記化粧シートを１２０〜２２０℃に加熱することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an alignment substrate having an alignment layer of a solid molecular compound comprising two or more aromatic rings particularly the alignment substrate having the alignment layer with high order parameter in a short time, and to provide a method for aligning the solid molecular compound even in a large area.例文帳に追加

２個以上の芳香環からなる固体分子化合物を用いて、該固体分子化合物の配向膜を有する配向基板、特に、秩序性の高い固体分子化合物の配向膜を有する配向基板を、容易に、且つ短時間に、しかも大面積化をも可能とする製造方法、並びに該固体分子化合物の配向方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing process of hydrogen peroxide with the anthraquinone method involves (1) separating organic phase 1 and water phase 1 by washing the bottom liquid obtained from the solvent distillation step and (2) removing the solvent-degenerated matter by treating separated water phase 1 in order to remove the solvent-degenerated matter accumulated in the working solution.例文帳に追加

アントラキノン法による過酸化水素の製造方法において、作動溶液に蓄積する溶媒変成物を除去するために、（１）溶剤蒸留工程で得られた缶出液を水で洗浄して、有機相１と水相１に分離し、（２）分離した水相１を処理して溶媒変成物を除去することを特徴とする過酸化水素の製造方法。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing a carbon nanotube film comprises a sample holder arranged, a bar member supply unit, a loading unit and a drawing unit in order, wherein the bar member supply unit is adjacent to the sample holder, and the loading unit is arranged between the bar member supply unit and the drawing unit.例文帳に追加

本発明のカーボンナノチューブフィルムの製造装置は、順番に配列された試料台、棒部材供給ユニット、積載ユニット及び引き伸ばしユニットを含み、前記棒部材供給ユニットと前記試料台が隣接し、前記積載ユニットが前記棒部材供給ユニット及び前記引き伸ばしユニットの間に配置される。 - 特許庁

The method for manufacturing the microstructure obtains the microstructure having micropores on the surface thereof, by performing in this order: (A) a step of forming at least an oxide film 14 having the micropore 16 by anodization, on the surface of an aluminum substrate 12; and (B) a step of heating the oxide film 14 formed by the (A) at 50°C or higher for at least 10 minutes.例文帳に追加

（Ａ）アルミニウム基板１２表面に、少なくとも、陽極酸化処理によりマイクロポア１６を有する酸化皮膜１４を形成する処理、および（Ｂ）上記（Ａ）で形成された酸化皮膜１４を５０℃以上の温度で少なくとも１０分間加熱する処理、をこの順に施すことにより、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。 - 特許庁

This method for manufacturing a support for a lithographic printing plate applies treatments such as at least, mechanical surface roughing with the use of a rotary brush and a polishing agent, electrochemical surface roughing using alternating current in a water solution containing nitric acid, and electrochemical surface roughing and anodic oxidation using alternating current in a water solution containing hydrochloric acid in that order to an aluminum sheet with an uneven surface pattern.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有するアルミニウム板に、少なくとも、回転するブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理、硝酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理、塩酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理および陽極酸化処理をこの順に施す平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the anti-dazzle reflection preventive film having the anti-dazzle hard coat layer and the low refractive index layer having refractive index of 1.35-1.49 on a transparent base material in this order has a step for applying the anti-dazzle hard coat layer on the transparent base material and curing and a step for treating the anti-dazzle hard coat layer with alkali.例文帳に追加

透明基材上に防眩性ハードコート層と屈折率が１．３５〜１．４９の低屈折率層とをこの順序で有する防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、透明基材上に防眩性ハードコート層を塗布、硬化させる工程と、防眩性ハードコート層をアルカリ処理する工程とを有する防眩性反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing a piezoelectric element 300, a first electrode 132, a piezoelectric substance layer 135, a second electrode 136, and an insulating layer 138 are formed in this order above a first substrate 110, and the insulating layer 138 is etched so that at least a portion of the second electrode 136 is exposed and the insulating layer 138 has a projection 138x projected above relative to the second electrode 136.例文帳に追加

圧電素子３００の製造方法は、第１基板１１０の上方に第１電極１３２、圧電体層１３５、第２電極１３６および絶縁層１３８をこの順で形成し、第２電極１３６の少なくとも一部が露出し、かつ、絶縁層１３８が第２電極１３６に対し上方に突出する突出部１３８ｘを有するように、絶縁層１３８をエッチングする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of functional element having a drying process of applying coating liquid onto a barrier wall formed on a substrate, drying and solidifying the applied coating liquid, the method enabling a functional layer to be formed into a shape in which a difference of thicknesses of the center part and end parts of the functional layer becomes the difference of such an order to bring about no inconvenience in functions.例文帳に追加

基板上に形成された隔壁内に塗工液を塗布し乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子において、機能層の中心部および端部の厚みの差が機能に不都合を発生させない程度の差となる形状に形成することが可能な機能性素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A manufacturing method of the fuel cell is equipped with (a) a process of measuring an index value expressing a pressure loss inside the diffusion layer included in the fuel cell, and (b) a process of impregnating a prescribed material which suppresses circulation of the gas inside the diffusion layer into the diffusion layer interior 232 in order to increase the pressure loss inside the diffusion layer according to measurement results.例文帳に追加

燃料電池の製造方法は、（ａ）燃料電池に含まれる拡散層の内部における圧力損失を表す指標値を測定する工程と、（ｂ）測定の結果に応じて拡散層の内部における圧力損失を増大させるために、拡散層内部におけるガスの流通を抑制する所定の材料を拡散層の内部２３２に含浸させる工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate which can obtain the substrate for the lithographic printing plate comprises at least an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a mixed aqueous solution containing hydrochloric acid and sulfuric acid and an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in an aqueous solution containing hydrochloric acid in this order on an aluminum plate 11.例文帳に追加

アルミニウム板１１に、少なくとも、塩酸と硫酸とを含有する混合水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理、および、塩酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理をこの順に施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

To provide a printer head, a printer and a process for manufacturing a printer head being applied to a so-called full line type print head provided with a nozzle array depending on the width of a print object, e.g. a sheet, and a printer employing that print head in order to prevent a sheet material stuck to a frame from slacking.例文帳に追加

本発明は、プリンタヘッド、プリンタ及びプリンタヘッドの製造方法に関し、例えば印刷対象の用紙幅によりノズル列が設けられてなるいわゆるフルラインタイプのプリントヘッド、このプリンタヘッドを用いたプリンタに適用して、枠体に貼り付けたシート材の弛みを防止することができるようにする。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step to install a ceramic core 14 in a casting die, the core 14 having a shape corresponding to a passage formed in the air foil part, a step to install a heat-resistant metal core element 10 to the ceramic core 14 in order to stabilize the tip region 12 of the ceramic core 14, and a step to cast the air foil part.例文帳に追加

本方法は、エアフォイル部分内に形成される通路の形状を有するセラミックコア１４を鋳型内に配置するステップと、セラミックコア１４の先端領域１２を安定させるために、耐熱金属コア要素１０をセラミックコア１４に取り付けるステップと、エアフォイル部分を鋳造するステップと、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method of an arc tube includes: an arc tube preparation process of preparing an arc tube 20a with a bulb part 30 formed therein; a bulb part surface polishing process of polishing a surface of the bulb part 30; and an optical thin film formation process of forming an antireflection film 70 as an optical thin film on the surface of the tube part 30, in that order.例文帳に追加

管球部３０が形成された発光管２０ａを準備する発光管準備工程と、管球部３０の表面を磨く管球部表面磨き工程と、管球部３０の表面に光学薄膜としての反射防止膜７０を形成する光学薄膜形成工程とをこの順序で含む発光管の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing equipment is equipped with n pieces (n≥1) of elastic rolls 11 and n+1 pieces of metal rolls 12, the elastic rolls and the metal rolls 12 are alternately, adjacently arranged so that their central shafts are positioned on the same plane, the electrode material raw sheet 20 is continuously passed through between adjacent rolls in order to press-treat several times.例文帳に追加

ｎ本（ｎ≧１）の弾性ロール１１と、ｎ＋１本の金属ロール１２とを備え、弾性ロール１１と金属ロール１２とは、交互に隣接して位置しかつそれぞれの中心軸が同一平面上に位置するように配設されるとともに、隣接する各ロール間を順次通過させて連続的に電極材原反２０に対して複数回の加圧処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the lead storage battery is constituted by putting the cover 14 beforehand on the penetration hole 8 prepared in order to make connection between the cells by the resistance-welding method, when the electrode group 2 is inserted into the battery case 1, by removing the above cover 14 after inserting the electrode group 2, and subsequently by making connection between the cells by the resistance-welding method.例文帳に追加

電槽１に極板群２を挿入する際に、抵抗溶接法によるセル間接続をするために設けた貫通孔８に予め覆い１４をし、その後極板群２を挿入してから前記覆い１４を取除き、次いで抵抗溶接法によりセル間接続を行うことを特徴とする鉛蓄電池の製造方法である。 - 特許庁

To separately recover the valuable metal components such as iron and zinc, which are brought into dust from a high-temperature exhaust gas discharged from a rotary hearth furnace, when manufacturing reduced iron in a rotary hearth furnace by employing dust in ironworks as a raw material, in high purity, and use them, in order to smoothly promote recycling and effective usage for metal resources.例文帳に追加

製鉄所ダストを原料として回転炉床炉により還元鉄を製造する際、回転炉床炉から排出される高温排ガスからダストにもたらされる鉄分、亜鉛等の有価金属成分を独立して高純度回収・利用し、金属資源のリサイクルや有効活用を円滑に促進させること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the filter substrate for liquid display, the first layer composed of the non-photosensitive resin is formed on a substrate on which a colored layer of a plurality of colors is formed in a pattern, further a second layer containing the photosensitive resin is laminated on the first layer and a pattern processing is performed, and at least the following steps are performed in the described order.例文帳に追加

複数色の着色層がパターン形成された基板上に非感光性樹脂からなる第１の層を形成し、さらにその上に感光性樹脂を含有する第２の層を積層してパターン加工を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも下記の工程をこの順に行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a resin for heat imprint with low resin modulus of elasticity at fluidization and sufficient fine pattern transferring property excellent in thermal deterioration resistance in order to suppress generation of a particulate substance in fine processing by heat imprint, a resin solution for heat imprint using the resin, an injection molded body for heat imprint using the resin, a thin film for heat imprint using the resin, and its manufacturing method.例文帳に追加

熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve such a problem that it is necessary to use a mold larger than a molded article, a mold having a complicated shape or a special mold such as a split mold or the like in a conventional method in order to manufacture a large-sized molded article or a molded article having a complicated shape and cost is increased and a mold manufacturing period becomes long.例文帳に追加

大型の成形品や複雑な形状の成形品を射出成形により作るためには、従来方法では成型品よりも大きな金型や複雑な形状の金型或いは分割された型等の特殊な金型を用いる必要があり、コストアップや金型の作成期間が長くなる等の問題があり、これらの問題を解決する。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the coated glass container is constituted of arranging an electric processing device for forming a continuous or a discontinuous electric processing layer consisting of an electric processing liquid on the surface of the glass container, and an electrostatic coating device for forming an electrostatic coating layer comprising a liquid coating on the surface of the glass container in this order.例文帳に追加

塗装ガラス容器用製造装置において、ガラス容器の表面に、通電処理液からなる連続層または不連続層の通電処理層を形成するための通電処理装置と、ガラス容器の表面に、液体塗料からなる静電塗装層を形成するための静電塗装装置と、を順次に配置してなる。 - 特許庁

To provide printed matter, which has no problem on manufacturing cost and the desired matte pattern with surface unevenness on which can be favorably reproducibly and stably obtained, its forming method and an intermediate transfer recording medium in order to obtain a mat-like printed matter, which has a thermally transferred image thereon and the surface of which has fine unevenness.例文帳に追加

熱転写画像を有する印画物で、表面に微細な凹凸を有するマット状の印画物を得るために、製造コスト上、問題がなく、また表面凹凸を有した所望のマット柄を再現性良く、安定して得られることができる印画物とその形成方法、及びその印画物を形成するために使用する中間転写記録媒体を提供する。 - 特許庁

When manufacturing a first semiconductor device having a first transistor, a second transistor, and a third transistor having a thick gate insulation film, a first lightly doped region 6a in the first transistor, a second lightly doped region 6b in a second transistor, and a third lightly doped region 6c in a third transistor are formed in this order.例文帳に追加

第１トランジスタ、第２トランジスタ、及びゲート絶縁膜が厚い第３トランジスタを有する第１半導体装置を製造する場合は、第１トランジスタの第１低濃度不純物領域６ａ、第２トランジスタの第２低濃度不純物領域６ｂ、及び第３トランジスタの第３低濃度不純物領域６ｃの順に形成する。 - 特許庁

After manufacturing an organic EL element having a stacked structure configured by stacking a positive electrode layer, an organic substance layer including a luminescent layer, and a negative electrode layer in that order, and having an interfacial surface subjected to stacking, printing, transferring or coating in the stacked structure, a periphery of the interfacial surface of the obtained organic EL element is selectively heated.例文帳に追加

陽電極層、発光層を含む有機物層および陰電極層とがこの順に積層された積層構造を有し、かつ、この積層構造中に、貼り合わせ、印刷、転写または塗布による界面を有する有機ＥＬ素子を製造した後、得られた有機ＥＬ素子の上記界面周辺を選択的に加熱する。 - 特許庁

A standard voltage generating part of the ballast stably outputs the standard voltage regardless of the temperature or the dispersion at the resistor manufacturing process, moreover, reduces the impact added to the total lamp system, caused by an illuminance alteration of the lamp, generated by the time delay control of the driving current, flowing through the lamp in order to control the lamp illuminance.例文帳に追加

この時、安定器の基準電圧生成部は、ランプシステムの作動時に基準電圧を温度や抵抗製造工程におけるバラツキに関係なく安定して出力するだけでなく、ランプの照度を制御するためにランプに流れるランプ駆動電流を時間遅延制御することによって、ランプの照度変化による全ランプシステムが受ける衝撃を減らす。 - 特許庁

The manufacturing method of the ferrocoke raw material molded product is provided, which, in mixing coal, an iron ore and a binder to mold in the cold in order to manufacture the molded product, uses an organic binder having a softening point of ≤100°C and an organic binder having a particle size of ≤0.5 mm and a softening point exceeding 100°C as the above binder.例文帳に追加

石炭と鉄鉱石とバインダーとを混合し、冷間で成型して成型物を製造する際に、前記バインダーとして軟化点が１００℃以下の有機バインダーと、粒径が０．５ｍｍ以下の軟化点が１００℃超の有機バインダーとを用いることを特徴とするフェロコークス原料成型物の製造方法を用いる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing multilayer printed circuit board in which dummy lands are provided in order to eliminate, during the stacking process, deterioration of flatness of surface, generation of voids, and fall of bonding force and measures are taken so that the dummy lands are no longer left within a product after the boring by drills are performed to form through-holes.例文帳に追加

多層プリント基板の製造において、積層プレス時に表面平滑度の劣化やボイドの発生、接着力の低下などが生じないようにダミーランドを設けると共に、該ダミーランドがスルーホール形成のためのドリル穴開け加工後には製品内に残留していないように工夫された多層プリント基板製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having the semiconductor epitaxial growth layer of silicon carbide or nitride gallium as a semiconductor layer on a semiconductor substrate composed of the silicon carbide, capable of maintaining the strength of the semiconductor substrate even when the thickness of the semiconductor substrate is reduced in order to realize small on-state resistance and reducing wafer breaking in a wafer process, and its manufacturing method.例文帳に追加

炭化珪素からなる半導体基板上に炭化珪素または窒化ガリウムの半導体エピタキシャル成長層を半導体層として備える半導体装置であって、小さなオン抵抗を実現するため前記半導体基板の厚さを薄くしても、半導体基板の強度を維持し、ウエハプロセスにおけるウエハ割れを少なくできる半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁