「oxidation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加

半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のｐＨと酸化還元電位（ＯＲＰ）をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のｐＨ制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor comprises a supporting body made of aluminum or an aluminum alloy and having an anodic oxide coating formed by an anodic oxidation process on the surface, an intermediate layer formed on the supporting body and containing titanium oxide and melamine resin by the volume ratio of titanium oxide/melamine resin =0.8/1 to 3/1, and a photosensitive layer formed on the intermediate layer.例文帳に追加

アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくともいずれかからなり、表面に陽極酸化処理により形成された陽極酸化被膜を有する支持体と、該支持体上に設けられ、酸化チタン及びメラミン樹脂を、酸化チタン／メラミン樹脂＝０．８／１〜３／１の体積比で含有する中間層と、該中間層上に設けられた感光層とからなる。 - 特許庁

The photocatalyst gel particle 3 is added into feed water to be cleaned in a photo oxidation reactor 1, irradiated with light from an ultraviolet lamp 4 while stirring the feed water with aeration 5, separated in a precipitating separation part 7 to be fed to the light irradiation process to be recycled and the cleaning treated water 6 flows out to the outside of the reactor 1.例文帳に追加

この光触媒ゲル粒子３を光酸化反応器１中で浄化対象の原水２に添加し、空気曝気５を用い攪拌しながら紫外線ランプ４で光照射した後、沈降分離部７で粒子３を分離してこれを光照射工程に供給再利用するとともに、清浄処理水６を反応器１外へ流出させる。 - 特許庁

In order to remove a germanium (Ge) contaminant stuck in a manufacturing process of a semiconductor device, a treatment is performed using a solution containing hafnium (HF) after a treatment using an oxidative solution such as an ammonia-hydrogen peroxide solution (APM), hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution (HPM), sulfuric acid-hydrogen peroxide solution (SPM), and aqua regia or oxidation treatment such as oxidative plasma treatment.例文帳に追加

半導体デバイス製造過程において付着したゲルマニウム（Ｇｅ）汚染物を除去するために、酸化力を有する溶液、例えば、アンモニア−過酸化水素水（ＡＰＭ），塩酸−過酸化水素水（ＨＰＭ）、硫酸−過酸化水素水（ＳＰＭ）、王水等による処理、もしくは、酸素プラズマ処理等の酸化処理に連続して、弗酸（ＨＦ）含有水溶液による処理を行なう。 - 特許庁

This oxidation furnace 10 for the spent nuclear fuel is provided with a reaction part 100 for oxidizing the spent nuclear fuel, a driving part 200 connected to the reaction part 100, and for moving rotationally and vertically the spent nuclear fuel in the reaction part 100, and a discharge part 300 for collecting the spent nuclear fuel oxidized in the reaction part 100 to be guided to the following process.例文帳に追加

使用済み核燃料を酸化させる反応部１００と、反応部１００と連結し、反応部１００内の使用済み核燃料を上下および回転移動させる駆動部２００と、反応部１００で酸化された使用済み核燃料を集積して後続工程に案内する排出部３００と、を備える使用済み核燃料の酸化炉１０である。 - 特許庁

In an active layer formation process of the semiconductor device using a ZnO film 40 for an active layer, laser annealing L1 is executed to the ZnO film 40 by a pulse laser of ultraviolet light to reduce resistance thereof, and a specific resistance value of a channel part of the ZnO film 40 excessively reduced in resistance then is increased to a value ≥10^3 Ω cm by an oxidation treatment.例文帳に追加

ＺｎＯ膜４０を活性層に用いた半導体素子の活性層形成過程において、ＺｎＯ膜４０に対して紫外光のパルスレーザによってレーザアニールＬ１を行い低抵抗化し、このとき過度に低抵抗化したＺｎＯ膜４０のチャネル部の比抵抗値を酸化処理によって１０^３Ω・ｃｍ以上にまで上げる。 - 特許庁

An electrode cap and a resistor assembly element are integrated to form a resistor, after a resistance value is adjusted and an insulating protective film is formed, flaws and dirt sticking to the electrode cap surface made of Sn/Sn alloy plating during a manufacturing process and an oxidized layer formed on the surface are removed by hydrochloric acid to cleans them, and an oxidation preventing film is formed on the cleansed surface.例文帳に追加

電極キャップと抵抗体を一体化して抵抗器を形成し、抵抗値調整、絶縁保護膜を形成した後に、Ｓｎ／Ｓｎ合金メッキからなる電極キャップ表面に製造工程で付いた傷や汚れや表面に形成された酸化層を塩酸系溶液で除去して清浄にし、清浄にした表面に酸化防止膜を形成する。 - 特許庁

In the process of baking after of a coating solution containing an organometallic compound having metallic bond groups is applied on the surface of a steel sheet, oxidation treatment is performed in an atmosphere in which the temperature of the steel sheet is 200 to 800°C, and the partial pressure of oxygen satisfies P02≥2×10-5 atm.例文帳に追加

金属結合基を有する有機金属化合物を含有する塗液を鋼板上に塗布し焼付けを行う焼付け処理中に、鋼板温度が２００℃以上８００℃以下、酸素分圧Ｐ_O2≧２×１０^-5ａｔｍの雰囲気とする酸化処理を行うことを特徴とする歪取焼鈍後の磁気特性および被膜密着性に優れた電磁鋼板の製造方法。 - 特許庁

To provide a recycling method of copper scrap materials to produce high-quality copper by using waste copper containing 350 ppm or more of oxygen and using a conventional shaft furnace melting electrolytic copper without requiring a great amount of a dilution material consisting of electrolytic copper such as waste wires in a plant and high-grade scrap nor an oxidation treatment process for molten copper.例文帳に追加

工場内のくず線などの電気銅、高品位スクラップからなる希釈材料を多量に必要とせず、溶銅に対する酸化処理工程を必要とせず、酸素含有量３５０ｐｐｍ以上を有する廃材銅を用いることができ、従来の電気銅を溶解するシャフト炉を用いることができ、高い品位の銅を得ることができる銅スクラップ材のリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity, having low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

The method for producing a conductor includes the following process: A base material (A) having nitrogen-containing functional groups is immersed in a liquid containing at least one compound (B) selected from a sulfo- and/or carboxyl-containing compound and a metal salt, ammonium salt and substituted ammonium salt thereof, and the thus immersed base material (A) is then subjected to oxidation treatment with an oxidizing agent (C).例文帳に追加

スルホン酸基及び／又はカルボキシル基を有する化合物、該化合物の金属塩、アンモニウム塩、及び置換アンモニウム塩から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）を含有する液に、含窒素官能基を有する基材（Ａ）を浸漬した後、該基材（Ａ）を、酸化剤（Ｃ）により酸化処理する、導電体の製造方法。 - 特許庁

The oxidizing process electrochemically oxidizes the porous polycrystalline silicon layer 4 by making a constant current to flow with a platinum electrode (unillustated) as a negative electrode and a lower electrode composed of the n type silicon substrate 1 and an ohmic electrode 2 as a positive electrode by using an oxidation treatment tank for containing the electrolyte of dissolving a solute composed of potassium nitrate of 0.04 M in an organic solvent composed of, for example, ethylene glycol.例文帳に追加

酸化工程では、例えばエチレングリコールからなる有機溶媒中に０．０４Ｍの硝酸カリウムからなる溶質を溶かした電解液の入った酸化処理槽を利用し、白金電極（図示せず）を負極、ｎ形シリコン基板１とオーミック電極２とからなる下部電極を正極として、定電流を流し多孔質多結晶シリコン層４を電気化学的に酸化する。 - 特許庁

To provide a process and an apparatus for producing a synthesis gas for Fischer-Tropsch synthesis (FT synthesis) that can produce the synthesis gas for FT synthesis having a molar ratio of hydrogen/carbon monoxide suitable for FT synthesis without inclusion of soot, can suppress the occurrence of a side reaction in a hydrodesulfurizer and the deterioration in catalytic activity due to oxidation of a reforming catalyst and is applicable to large-scale production equipment.例文帳に追加

フィッシャートロプシュ合成（ＦＴ合成）に適した水素／一酸化炭素モル比を有し、かつ煤の混入のないＦＴ合成用合成ガスを得ることができ、水添脱硫器における副反応および改質触媒の酸化による活性低下が抑えられ、大規模生産設備に適用できるＦＴ合成用合成ガスの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

Because the oxidation preventing film 5 is formed between the lower-layer electrode 3a and the upper layer electrode 6a together with the interlayer dielectric film 4, the interlayer dielectric film 4 is prevented from oxidizing in an overlapped portion between the upper electrode 6a and the lower-layer electrode 3a, in the process which oxidizes the upper-layer electrode 6a to form the interlayer dielectric film 7.例文帳に追加

下層電極３ａと上層電極６ａとの間に層間絶縁膜４と共に酸化防止膜５が形成されるため、上層電極６ａを酸化して層間絶縁膜７を形成する工程において、上層電極６ａと下層電極３ａとの間のオーバーラップ部で層間絶縁膜４が酸化されることを防止することができる。 - 特許庁

To solve problems such that quality deterioration and oxidation in a joint area due to excessive heating or a lowered operation efficiency due to insufficient heating arise unless an optimum heating rate for each process is achieved in a conventional press joining method, where a rotating pipe joint is placed between pipes facing end to end each other so as to melt and join the pipes by frictional heat.例文帳に追加

樹脂管の端面同士を対向し、その間に管状継手を配置して、これを回転させ、その際の摩擦熱により相互に融着接合される従来の圧接方式において、工程毎に最適の発熱速度を実現しないと、発熱過多による接合部の品質低下や酸化あるいは発熱過小による作業効率低下が起こる。 - 特許庁

In a compression ignition type internal combustion engine, first fuel of an amount of 30% or less of the maximum injection is injected in an injection timing region II from approximately 20° to approximately 90° before the top dead center so that the injected fuel is not thermally cracked and burnt until almost reaching the top dead center of the compression stroke but an oxidation reaction is in process thereduring.例文帳に追加

圧縮着火式内燃機関において、圧縮上死点前のほぼ９０度からほぼ２０度の間の噴射時期領域IIにおいて最大噴射量の３０パーセント以下の第１回目の燃料を噴射することによりほぼ圧縮上死点に達するまでにこの噴射燃料が熱分解せずかつ燃焼していないが酸化反応が進んでいる状態となるようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an exoergic compact capable of easily controlling an electrolyte volume to be contained in it and its degree of moisture, and at the same time, restraining oxidation of oxidizable metal in a manufacturing process as much as possible, as well as obtaining the exoergic compact with excellent exoergic characteristics.例文帳に追加

発熱成形体に含有させる電解質量及び発熱成形体の含水率を容易に制御することができるとともに製造工程中における被酸化性金属の酸化を極力抑えることができ、良好な発熱特性を有する発熱成形体を得ることができる発熱成形体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This cutting method of the pure titanium material 1 is furnished with a process to cut off at least a part of the oxidation-influenced layer 3 while relatively moving a cutting tool 11 against the pure titanium material 1 in a direction orthogonal with its axial direction in a state of holding a rotation axis of the cutting tool 11 vertical against a surface of the pure titanium material 1.例文帳に追加

純チタン材１の切削加工方法は、切削工具１１の回転軸を純チタン材１の表面に対して垂直に保持した状態で、切削工具１１をその軸方向に直交する方向に純チタン材１に対して相対移動させながら酸化影響層３の少なくとも一部を削り取る切削工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method of producing an epitaxial wafer, in which a particular device such as a oxidation furnace directly connected to an epitaxially growing reactor is not used and a particular treatment for cleaning or oxidizing the surface after epitaxially growing is not needed, thereby the production process is made simple, and by which an epitaxial wafer good in surface smoothness is produced.例文帳に追加

エピタキシャル成長反応炉に直結した酸化炉などの特別の装置を用いることなく、また、エピ成長後洗浄または表面酸化のための特別な処理が必要でなく、従来の製造工程を簡略化でき、かつ表面の平坦性が良好であるエピタキシャルウェーハの製造方法の提供。 - 特許庁

The invention also discloses a process for the manufacture of flexible activated biregional fiber(s) by heating oxidation stabilized biregional fibers or carbonaceous biregional fibers in an activating atmosphere for a period of time and at a temperature sufficient to form an activated carbonaceous outer region in the fiber while the inner core of the fiber remain as a thermoplastic polymeric composition.例文帳に追加

また、ファイバーにおける活性化された炭素質外側領域を形成する一方、該ファイバーの内側コアが熱可塑性ポリマー組成物であるままであるような十分な時間及び温度で活性化性雰囲気下において酸化安定化されたバイリージョナルファイバー又は炭素質バイリージョナルファイバーを加熱することにより、可とう性の活性化されたバイリージョナルファイバーを製造する方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a synthetic gas by ATR(auto thermal reforming) process, in which a raw material gas is favorably mixed with oxidizing gas in a partially oxidizing area in a reactor and uniform partial oxidation reaction proceeds and occurrence of hot spot by production of soot or hyperoxidation is suppressed to enable long-time stable operation, and an apparatus therefor.例文帳に追加

ＡＴＲ法による合成ガスの製造に際して、反応器内の部分酸化領域で原料ガスと酸化ガスとが良好に混合され、均一な部分酸化反応が進行して煤の生成や過酸化によるホットスポットの発生が抑えられ、長時間の安定運転が可能であるような方法、およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

In the planographic printing plate which has at least one layer of silver halide emulsion layer on an aluminum supporting body subjected to roughening treatment and anodic oxidation and which employs the silver complex diffusion transfer process, a layer containing a polymer having a functional group expressed by formula (1) or (2) is formed as an upper layer on the silver halide emulsion layer.例文帳に追加

粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版に於いて、該ハロゲン化銀乳剤層の上層に、化１あるいは化２で示される官能基を有するポリマーを含有する層を設けることによって達成された。 - 特許庁

A phosphoric anion surface active agent 4 is adsorbed on the surface of solder powder 1, by which, in the process of reflowing, the surface active agent prevents the oxidation of Zn through flux, so that its solderability is improved and maintained.例文帳に追加

はんだ粉末１の表面に有機物であるリン酸系アニオン界面活性剤を４を吸着させることにより、リフロー中、有機物がはんだ粉末表面をカバーしＺｎの酸化を防止し、室温放置状態ではフラックスからのＺｎの酸化を防止することにより、はんだ付け性の向上および経時変化を少なくする。 - 特許庁

To reduce a discharge amount of carbon dioxide gas by recycling the carbon dioxide gas generated in the step of purifying a nickel leachate with an oxidation neutralization method by using chlorine gas and nickel carbonate, in a wet refining process for nickel, and reduce the consumption of sodium carbonate necessary for producing nickel carbonate used as an alkaline agent in the leachate-purifying step.例文帳に追加

ニッケルの湿式精錬法において、塩素ガスと炭酸ニッケルを用いた酸化中和法によるニッケル浸出液の浄液工程で発生する炭酸ガスを再利用することにより、炭酸ガスの排出量を低減すると共に、浄液工程でアルカリ剤として用いる炭酸ニッケルの製造に必要な炭酸ソーダの使用量を削減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can prevent the deterioration of electric property between a storage electrode and a lower electrode connected to the electrode or the like in the process of annealing for crystallization and oxidation treatment of a capacitor dielectric film and its manufacturing method, in a semiconductor device having a DRAM storage element and its manufacturing method.例文帳に追加

ＤＲＡＭ型の記憶素子を有する半導体装置及びその製造方法に関し、キャパシタ誘電体膜の結晶化アニールや酸化処理の工程における蓄積電極とこれに接続される下部電極等との間の電気特性の劣化を防止しうる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the sputtering method in an oxidation mode for depositing an optical multilayer film on a substrate face within a vacuum tank, the total pressure in the vacuum tank is controlled in the process of depositing the optical multilayer film, thus at least either the sputtering voltage or sputtering current is held to prescribed value or prescribed width.例文帳に追加

真空槽内で基板面上に光学多層膜の成膜をする為の酸化モードでのスパッタ方法であって、前記光学多層膜の成膜中に前記真空槽内の全圧を調節することによってスパッタ電圧又はスパッタ電流の少なくとも一方を所定値又は所定幅に保つスパッタ方法。 - 特許庁

The fermented alcoholic beverage improved in the taste together with foods when taking the fermented alcoholic beverage is produced by installing the process for reducing free transition metal ions in producing the fermented alcoholic beverage to reduce the free transition metal ion concentration in the fermented alcoholic beverage to be ≤1 ppm and suppress oxidation action of the free transition metal ions.例文帳に追加

発酵アルコール飲料の製造に際して、遊離遷移金属イオンを低減させる工程を設けることにより、発酵アルコール飲料中の遊離遷移金属イオン濃度を１ｐｐｍ以下に低減させ、遊離遷移金属イオンによる酸化作用を抑制し、発酵アルコール飲料と一緒に食する食品との味覚の改善を図った発酵アルコール飲料を製造する。 - 特許庁

The method of thermally treating a silicon wafer, wherein the method is of thermally treating silicon wafer of low oxygen concentration obtained from silicon of single crystal manufactured by CZ process, high temperature oxidation thermal treatment is performed to form a region of high oxygen concentration inside the surface of the wafer, and oxygen deposit aging treatment is then performed.例文帳に追加

ＣＺ法により製造されたシリコン単結晶から得られた低酸素濃度シリコンウェーハを用いて熱処理する方法であって、前記ウェーハの表面内部に高酸素濃度領域を形成する高温酸化熱処理を行い、その後、酸素析出物形成熱処理を施すことを特徴とするシリコンウェーハの熱処理方法である。 - 特許庁

The cellulose based molding with controlled absorptivity is obtained by subjecting cellulose filaments to an oxidation process by using an N-oxyl compound and a metal salt of an alkali halide as catalyst, then the oxycellulose filaments are washed and then fibrillated to obtain water dispersion of the oxycellulose microfiber, adding a cationic aqueous resin to the dispersion and then drying.例文帳に追加

セルロース長繊維を触媒としてＮ−オキシル化合物とハロゲン化アルカリ金属塩を用いて酸化し、得られた酸化セルロース繊維を洗浄後に解繊処理して得られた酸化セルロース微小繊維の水分散液に対し、カチオン性水性樹脂を添加し、次いで乾燥することによって得られる、吸水性が抑制及び制御されたセルロース系成形体。 - 特許庁

To provide a charging member which has excellent surface mechanical durability and oxidation resistance, and with which image defects due to deposition of toner components are suppressed, also, has excellent charging characteristics, further, which can easily keep these characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the charging member.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、トナー成分の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に帯電特性にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な帯電部材、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of preparing an organic peroxide comprising an oxidation process of oxidizing an organic material by an oxygen-containing gas in the presence of an aqueous alkali solution to obtain oxidized oil comprising an organic peroxide and neutralized salts of byproduct organic acids, which method has excellent effect of being able to reduce the amount of alkali effluent and, in addition, to suppress the alkali decomposition of the intended peroxide.例文帳に追加

アルカリ水溶液の存在下、有機物を酸素含有ガスで酸化して有機過酸化物と中和された副生有機酸塩類を含む酸化反応油を得る酸化反応工程を含む有機過酸化物の製造方法であって、アルカリ排水量を少なくでき、さらに目的の過酸化物のアルカリ分解を抑制できるという優れた効果を有する有機過酸化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The two or more types of process chambers are used to deposit the one or more silicon-containing layers and the one or more metal-containing layers in the same substrate processing system without breaking the vacuum, taking the substrate out of the substrate processing system to prevent surface contamination, oxidation, etc., such that additional cleaning or surface treatment steps can be eliminated.例文帳に追加

２つ以上のタイプの処理チャンバは、真空を破ることなく、基板処理システムから基板を取り出して、同一の基板処理システムで１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を蒸着するために使用され、表面汚染、酸化などを防ぎ、別の洗浄や表面処理ステップを排除することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and an apparatus for manufacturing the semiconductor device where the surface of a copper film is etched precisely, in a short time with few steps, while the surface roughness of the copper film is not progressed in the etching process of the surface of the copper film that includes oxidation of the copper film and removing the oxide thereof, with an acid or alkali.例文帳に追加

銅膜を酸化させその酸化物を酸もしくはアルカリなどで除去することにより銅膜の表面をエッチングする方法において、エッチング処理を行った後の銅膜表面が荒れてしまうことが少なく、少ない工程で短時間に精度良く行うことができる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an intermediate molded body for heating molded body, capable of easily controlling the quantity of electrolyte to be included in a heating molded body and the water content rate of the heating molded body, suppressing oxidation of an oxidizing metal in the process of manufacture as much as possible and providing a heating molded body having satisfactory heating characteristic.例文帳に追加

発熱成形体に含有させる電解質の量及び発熱成形体の含水率を容易に制御することができるとともに、製造工程中における被酸化性金属の酸化を極力抑えることができ、良好な発熱特性を有する発熱成形体を得ることができる、発熱成形体用の中間成形体を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a resistive element consisting of a resistive element electrode 9 and a resistor 10 and incorporated in a printed wiring board in which the resistance and various characteristics of the resistive element incorporated in the board 11 are equalized and the resistor 10 is hardened inexpensively using a conventional facility without causing oxidation of wiring, and to provide a tool for heating the printed wiring board.例文帳に追加

抵抗素子電極９と抵抗体１０からなる、プリント配線基板に内蔵される抵抗素子の製造方法であって、基板１１に内蔵する抵抗素子の抵抗値ならびに緒特性を均一化するとともに、従来の設備を用いて安価に配線の酸化を起こすことなく抵抗体１０の硬化を行う抵抗素子の製造方法及びそのためのプンリト配線基板加熱用治具を提供する。 - 特許庁

To produce a methanol reforming catalyst having improved heat resistance and improved methanol conversion when a steam reforming reaction of methanol is performed at a high temperature of ≥300°C and the methanol steam reforming reaction and a methanol oxidation reaction are performed at a high temperature of ≥300°C, so as to be low in the concentration of Co in the produced hydrogen-containing gas and further unnecessary for activation process.例文帳に追加

耐熱性が改善され、３００℃以上の高温でメタノールの水蒸気改質反応を行った際と、３００℃以上の高温でメタノール水蒸気改質反応並びにメタノール酸化反応を行った際のメタノール転化率が向上されると共に、生成した水素含有ガス中のＣＯ濃度が低く、さらに活性化処理工程が不要なメタノール改質触媒を提供することを目的とする。 - 特許庁

The process for manufacturing chlorine by reacting the gas containing hydrogen chloride with the gas containing oxygen by using catalytic gas-phase oxidation method using a catalyst containing ruthenium tetroxide, is characterised in that, after unreacted hydrogen chloride gas is absorbed in water or a diluted hydrochloric acid to be recovered, hydrogen chloride gas is added to the absorption liquid to manufacture the hydrochloric acid at the same time.例文帳に追加

酸化ルテニウムを含む触媒を用い、接触気相酸化法により塩化水素を含むガスと酸素を含むガスとを反応させて塩素を製造するプロセスにおいて、未反応の塩化水素ガスを水または希塩酸に吸収して回収後、吸収液に塩化水素ガスを添加することによって塩酸を同時に製造することを特徴とする塩素および塩酸の製造方法。 - 特許庁

To develop a producing method of synthetic gas by using partial oxidation reaction of natural gas which is a low-energy-consumption-type process, and to produce a nickel carrying catalyst having a low coking property to prevent the catalyst activity in the above method from deteriorating, its preparing method, a producing method of synthetic gas by using the obtained catalyst, and the like.例文帳に追加

エネルギー低消費型のプロセスである天然ガスの部分酸化反応を用いて合成ガスを製造する方法の開発および該方法における触媒活性の劣化を防ぐために低コーキング性を有するニッケル担持触媒とその製造方法及び得られた触媒を用いて合成ガスを製造する方法などを提供すること。 - 特許庁

To provide an anticorrosive using a biaryl compound which prevents corrosion caused by the oxidation or the like of corrosive metals such as copper, aluminum and the alloys thereof in the production process for a semiconductor integrated circuit, a printed circuit board, a liquid crystal or the like, and to provide a composition having both of corrosion inhibition performance and peeling performance, which is composed of the biaryl compound and a compound having peeling performance.例文帳に追加

本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするビアリール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the antireflection film manufacturing mold includes a fine hole forming process of forming the fine holes on the surface of the metal base body by anode oxidation, using the metal base body containing aluminum, and having an uneven layer with the uneven crystal state or surface shape, and in the fine hole forming process, a part of alumina film is etched.例文帳に追加

アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The semiconductor device is fabricated by a process of selectively introducing halogen element or argon to an element region 14 of a silicon substrate 10 and a process of forming a silicon oxide film 24 over an element region 16 and a silicon oxide film 22, which is thicker than film 24, over the element region 14 by wet oxidation of the substrate 10 under the reduced pressure or the diluted atmosphere by nitrogen or rare gas.例文帳に追加

シリコン基板１０の素子領域１４に、ハロゲン元素又はアルゴンを選択的に導入する工程と、シリコン基板１０を、減圧下又は窒素若しくは希ガスにより希釈された雰囲気でウェット酸化することにより、素子領域１６にシリコン酸化膜２４を、領域１４にシリコン酸化膜２４より厚いシリコン酸化膜２２を、それぞれ形成する工程とを有する製造方法により半導体装置を製造する。 - 特許庁

This nanocomposite material of conductive polymer is obtain in a preparative method comprising (a) a process forming a reaction mixture comprising water, aniline monomer, a proton acid, an oxidizing agent and an acid treated lamella silicate or a lamella silicate inserted with polyethylene glycol and (b) a polymerization process to carry out an oxidation polymerization of the reaction mixture to form the nanocomposite material of a conductive polymer having lamella silicate dispersed in polyaniline polymer matrix.例文帳に追加

（ａ）水、アニリンモノマー、プロトン酸および酸化剤、さらに酸処理された層状ケイ酸塩またはポリエチレングリコールを挿入した層状ケイ酸塩からなる反応混合物を形成する工程、（ｂ）ポリアリニン高分子マトリクッス中に分散させた該層状ケイ酸塩を有する該導電性高分子のナノ複合材料を形成するために該反応混合物を酸化重合させる工程からなる製造方法によって、導電性高分子のナノ複合材料を製造する。 - 特許庁

The method for producing ammonium metavanadate includes the oxidation process for preparing slurry containing ammonium metavanadate by supplying an oxidizing gas to slurry containing vanadium and ammonium sulfate to oxidize vanadium, and the crystallization process for depositing ammonium metavanadate, the oxidizing gas is supplied by introducing pressurized slurry, in which the oxidizing gas is dissolved under pressure, to the slurry kept at 20-60°C under atmospheric pressure.例文帳に追加

バナジウムを含有するスラリーに酸化性ガスを供給してバナジウムを酸化してメタバナジン酸アンモニウム含有スラリーを調製する酸化工程と、メタバナジン酸アンモニウムを析出させる晶析工程とを包含するメタバナジン酸アンモニウムの製造方法であって、大気圧下に置かれ且つ２０〜６０℃に維持された前記スラリーに酸化性ガスが加圧溶解された加圧スラリーを導入することにより酸化性ガスの供給を行うことを特徴とするメタバナジン酸アンモニウムの製造方法。 - 特許庁

The firing process comprises a step wherein the silicon carbide heating element is subjected to a stabilization-promoting treatment so that the concentration of carbon monoxide generated at initial oxidation of the heating element does not exceed a concentration determined depending on the ceramic device to be fired and a step wherein the ceramic device is fired using the silicon carbide heating element subjected to the stabilization-promoting treatment.例文帳に追加

炭化珪素発熱体を用いたセラミックデバイスの焼成方法において、炭化珪素発熱体の初期酸化の際、発生する一酸化炭素の濃度が焼成すべきセラミックデバイスに応じて定まる所定濃度を越えないように、炭化珪素発熱体を予め安定化促進処理する段階と、安定化促進処理した炭化珪素発熱体を用いて、セラミックデバイスを焼成する段階と、を有することを特徴とする焼成方法。 - 特許庁

More specifically, the optoelectrochemical device 11 comprises a semiconductor electrode 5, including a semiconductor layer 2, an organic compound layer 1 producing a radical compound at least in one process of electrochemical oxidation reaction or deoxidation reaction making contact with the semiconductor electrode 5, counter electrode 4 facing to the semiconductor electrode 5 and an electrolyte layer 6 provided between the organic compound layer 1 and the counter electrode 4.例文帳に追加

より具体的には、半導体層２を有する半導体電極５と、その半導体電極５に接して電気化学的酸化反応または還元反応の少なくとも一方の過程でラジカル化合物を生成する有機化合物層１と、その半導体電極５に対峙する対向電極４と、その有機化合物層１と対向電極４との間に設けられた電解質層６とから構成される光電気化学デバイス１１とする。 - 特許庁