「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(127ページ目) - Weblio英語例文検索

A reticle 11 made of a glass substrate as a photomask is provided with a light shielding film pattern 12 relating to formation of elements and integrated circuits on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 which corrects degeneracy of lines due to influences of the optical proximity effect during exposure in an isolated pattern P1 in at least a sparse pattern region, as shown in Figures (a) and (b).例文帳に追加

図１（ａ），（ｂ）において、フォトマスクとして、ガラス基板であるレチクル１１に、半導体ウェハ上への素子及び集積回路形成に関する遮光膜パターン１２と共に、少なくとも疎パターン領域における孤立パターンＰ１に、露光時の光近接効果の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by tilting a light modulating means to image for exposure, by which a permanent pattern such as a wiring pattern is efficiently formed with high definition by forming a desired imaged pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A color correction table preparation part 20 that adjusts a specific color on the basis of a pattern sheet prepared from an image output device first uses a pattern sheet preparing section 20f provides an output of data for a pattern sheet with patches where the amount of each element color of the specific color is changed at each of gradations so as to allow the image output device to prepare the pattern sheet.例文帳に追加

画像出力装置から生成されるパターンシートに基づき特定色を調整する色補正テーブル生成装置２０によれば、まず、パターンシート生成部２０ｆによって、複数階調のそれぞれにおいて前記特定色の各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシートが前記画像出力装置で生成される。 - 特許庁

On the other hand, the Pachinko game machine determines that the specified pattern can not be stop-displayed in the pattern display area when the result of the variable display of the identification information becomes the specified display form and determines the patterns so as not to stop-display the specified pattern in the pattern display area even when the operation of the operation means is performed at the prescribed timing.例文帳に追加

一方、パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示の結果が特定の表示態様となる場合には、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示不可能に決定し、操作手段の操作が所定のタイミングで行われても、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示させないように図柄を決定する。 - 特許庁

When a partition material on a back face substrate 1 is sandblasted using a resist pattern 2 as a mask, a wider resist pattern 22 for an outer peripheral partition surrounding the outermost pattern of all the resist patterns 21 for the internal partition susceptible to the side etching is provided to improve the adhesion of the outermost peripheral resist pattern to the paste and to prevent the peeling-off of the resist at sandblasting.例文帳に追加

背面基板１上の隔壁材料をレジストパターン２をマスクとしてサンドブラストするときに、サイドエッチングを受けやすい内部隔壁用レジストパターン２１のうち最も外側のパターンを囲む幅の広い外周隔壁用レジストパターン２２を設け、最外周のレジストパターンとペーストとの密着性を向上させ、サンドブラスト時のレジスト剥離を防ぐ。 - 特許庁

Moreover, communication time among the CPU cores is calculated; the sum of the processing execution time of each CPU core and the communication time among the CPU cores is used as the estimated required time for each execution pattern; an execution pattern having a shortest estimated required time is selected as an optimum execution pattern; and each task is executed on the basis of each execution pattern.例文帳に追加

また、ＣＰＵコア間での通信時間を計算して、各ＣＰＵコアの処理の実行時間とＣＰＵコア間での通信時間との合計を、各々の実行パターンの推定所要時間し、推定所要時間の一番小さな実行パターンを最適な実行パターンとして選択して、各々の実行パターンに基づき、各タスクを実行する。 - 特許庁

A ground pattern connecting terminal 19 and a ground pattern non-connecting terminal 21 are modeled as different ones, and equivalent heat conductivity between an electronic component body model 26 and a substrate model 24 is determined based on a connection area between the ground pattern connecting terminal 19 and the substrate 13 and a connection area between the ground pattern non-connecting terminal 21 and the substrate 13.例文帳に追加

グランドパターン接続端子１９とグランドパターン非接続端子２１とを、異なるものとしてモデル化し、グランドパターン接続端子１９および基板１３間の接続面積と、グランドパターン非接続端子２１および基板１３間の接続面積とに基づいて、電子部品本体モデル２６と基板モデル２４との間の等価熱伝導率を求める。 - 特許庁

The resist pattern 1 of a rugged mold 21 is transferred onto a resist layer 12 formed on a board 11 through an imprint method, and then the side face of the protrudent pattern of the transferred resist pattern 1 is etched to form a resist pattern 2 equipped with projections 15 having a width w4 narrower than the width w6 of the corresponding recess 23 of the mold 21.例文帳に追加

基板１１上に形成されたレジスト層１２にインプリント法で凹凸形状を有するモールド２１のレジストパターン１を転写した後、転写されたレジストパターン１の凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールド２１の凹部２３の幅ｗ６よりも狭い幅ｗ４の凸形状１５を有するレジストパターン２を形成する。 - 特許庁

To provide a new detergent for lithography that can keep a low surface tension even when the concentration of a surfactant is decreased, can effectively suppress pattern collapse and defects, can improve uneven pattern width (line width roughness: LWR) and minute recesses and projections (line edge roughness: LER) on a pattern side wall, and prevents a dimensional fluctuation of a resist pattern.例文帳に追加

界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。 - 特許庁

Using a translucent mold structure having a mold pattern corresponding to a portion wherein a pattern is formed by nanoimprint and a pattern composed of a conductive film which corresponds to a portion wherein a pattern is formed by diabatic near-field exposure, ultraviolet light is irradiated on the rear face of the mold structure simultaneously in an imprint process to perform diabatic optical near-field exposure.例文帳に追加

ナノインプリントによりパターンを形成する部位に対応するモールドパターンと、非断熱近接場露光によりパターンを形成する部位に対応する導電膜によるパターンを有する透光性のモールド構造を使用し、インプリント工程時に同時にモールド構造背面より紫外光を照射し、非断熱近接場光露光を行う工程を行う。 - 特許庁

An imaging apparatus includes: a CCD 22; a noise pattern ROM 25 storing a plurality of pattern signals for noise cancellation for an image signal obtained by the CCD 22; and an OB clamp circuit 24 for superimposing on the image signal obtained by the CCD 22 in accordance with the pattern signal read out of the noise pattern ROM 25 correspondingly to an operating state of a color signal processing circuit 26.例文帳に追加

ＣＣＤ２２と、このＣＣＤ２２で得た画像信号に対する雑音打消しのためのパターン信号を複数記憶した雑音パターンＲＯＭ２５と、色信号処理回路２６の動作状態に対応して雑音パターンＲＯＭ２５から読出されるパターン信号によりＣＣＤ２２で得た画像信号に重畳するＯＢクランプ回路２４とを備える。 - 特許庁

The device for providing a pattern for calibration includes: a hologram 1 on which the pattern for calibration composed of a plurality of feature points arranged with a depth is recorded as a three-dimensional image and which is installed so that the recorded pattern for calibration is imaged by the imaging apparatus 3; and an illumination 2 irradiating the hologram 1 with predetermined illumination light, so that the pattern for calibration is reproduced.例文帳に追加

奥行きをもって配置された複数の特徴点からなる校正用パターンが三次元像として記録され、記録された校正用パターンを撮像装置３により撮像可能に設置されるホログラム１と、ホログラム１に対して、校正用パターンを再生可能に所定の照明光を照射する照明２とを備えた。 - 特許庁

Electrical conduction to the outside is accomplished by fitting a connector 6 onto the electrode pattern 3 part, and by forming an oxide film 4 on the electrode pattern 3, the good slidability is obtained, then the film shaving of the electrode pattern 3 itself is reduced even in the case the connection part 6a of the connector 6 is slid so that the electrical connection to the electrode pattern 3 is satisfactorily secured.例文帳に追加

電極パターン３部分に対してコネクタ６を挿入させて外部との電気的導通をとるが、電極パターン３上に酸化膜４を形成することにより、滑りがよく、コネクタ６のコネクト部６ａが摺動しても電極パターン３自体の膜削れは少なく、この電極パターン３との良好なる電気的接続を確保できる。 - 特許庁

The method for manufacturing the diffraction optical element comprises at least a step for forming a blaze diffraction pattern having a long period on a substrate and a step for processing the blaze diffraction pattern formed in the above step into a blaze diffraction pattern having a short period by photolithography while keeping the angle of the inclined faces of the original blaze diffraction pattern.例文帳に追加

回折光学素子の製造方法を、少なくとも、基板上に長周期のブレーズ型回折パターンを形成する工程と、前記工程で形成されたブレーズ型回折パターンの斜面部の角度を保持したまま、フォトリソグラフィを用いて該ブレーズ型回折パターンを短周期のブレーズ型回折パターンに加工する工程とで構成する。 - 特許庁

This noncontact IC card has an antenna pattern 15, a pattern 16, and an IC 13 formed on the top surface of an antenna sheet 11, a cut 17 which is provided to the sheet 11 and positioned nearby the other end of the pattern 15, and cuts 18 and 19 which are provided to the sheet 11 and positioned nearby the other end of the pattern 16.例文帳に追加

本発明に係る非接触ＩＣカードは、アンテナシート１１の表面上に形成されたアンテナパターン１５、パターン１６及びＩＣ１３と、該シート１１に設けられた、該パターン１５の他端近傍に位置する切り込み１７と、該シート１１に設けられた、該パターン１６の他端近傍に位置する切り込み１８，１９と、を具備するものである。 - 特許庁

On the basis of data of defect inspection obtained in a process for forming a circuit pattern in a wafer 1 and of the shape of a circuit pattern wherein a poor conductive region 7a is found by a VC inspection, when performing DSA by using the data of VC inspection after forming the circuit pattern, a rectangular DSA region 8 is formed so as to surround the circuit pattern.例文帳に追加

ウェハ１に配線パターンを形成する過程で得られる欠陥検査のデータと、配線パターン形成後のＶＣ検査のデータを用いてＤＳＡを行う際、ＶＣ検査によって導通不良領域７ａが見つかった配線パターンの形状を基に、その配線パターンを囲むようにして矩形形状のＤＳＡ領域８を設定する。 - 特許庁

The member with a protective film for forming a resist pattern comprises: a member for forming a resist pattern having a surface containing an oxide and used by adhering to a resist film 2 for forming a resist pattern; and a protective film 4 formed on the member for forming the resist pattern which contains a straight-chain amphiphilic molecule containing a perfluoro polyether in a main chain and a hydroxyl group in a terminal group.例文帳に追加

保護膜付きレジストパターン形成用部材は、酸化物を含む表面を有し、レジストパターン形成のためレジスト膜に密着して用いられるレジストパターン形成用部材と、レジストパターン形成用部材上に形成され、直鎖状で主鎖がパーフルオロポリエーテルを含み末端基に水酸基を含む両親媒性分子を含む保護膜とを有する - 特許庁

The fine pattern 27 is suitably formed on a base 21 by forming a pattern transferred body 20 having a wall-shaped projection 26 (fine projection) using the mold 16 for imprint having a microtrench 18 at a corner part of a pattern 17, and etching the base 21 using the pattern transferred body 20 having the wall-shaped projection 26 as an etching mask.例文帳に追加

パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 - 特許庁

In this case, after forming the fine pattern, a substrate on which a fine pattern has been formed is immersed in water, hydrophobic molecules composing a fine pattern is made to hydrophobic bond together, and the hydrophobic molecules are made to aggregate together, then chemical modification by the hydrophilic molecule ink is given to the substrate surface around the fine pattern in water.例文帳に追加

その場合において、前記微細パターンの形成後に、基板上に微細パターンを形成したものを水中に浸漬し、微細パターンを構成する疎水性分子同士を疎水結合させて疎水性分子同士を集合せしめてから、水中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクによる化学修飾を施す。 - 特許庁

This semiconductor device has: a metal pattern 13 formed on an insulating film 12; a hole 11a which penetrates the insulating film 12 and the metal pattern 13; and a via 14 which is formed in the hole 11a, jointed to the metal pattern 13 in the hole 11a, and also has one end contiguous to an opposite face of the insulating film 12 of the metal pattern 13.例文帳に追加

絶縁膜１２上に形成される金属パターン１３と、絶縁膜１２と金属パターン１３を貫通するホール１１ａと、ホール１１ａ内に形成され、ホール１１ａ内で金属パターン１３に接合されるとともに、金属パターン１３のうち絶縁膜１２とは反対側の面に連続する一端面を有するビア１４とを有する。 - 特許庁

To provide a printer which can enhance the quality of a composite pattern by forming a printing pattern to be a preliminarily set predetermined positional relation to at least two reference marks on a working cloth, and forming an embroidery pattern and the printing pattern to be a preliminarily set predetermined positional relation to the working cloth.例文帳に追加

加工布において少なくとも２つの基準マークに対して予め設定された所定の位置関係となるように印刷模様を形成し、加工布に刺繍模様と印刷模様とを予め設定された所定の位置関係となるように形成し、これら複合模様の品質を高めることができる印刷装置を提供する。 - 特許庁

In this case, in the case that the predetermined starting condition is established during the game and large winning is judged based on propriety judgment before the fluctuation display of the special pattern is started, an optional pattern among stop patterns stopped and displayed in the past, the right pattern of a previous time and the time before that for instance, is utilized and the temporary established pattern is decided.例文帳に追加

この場合、特別図柄の変動表示が開始される以前に、遊技中に予め定められた始動条件が成立して当否判定に基づいて大当り判定となっていた場合には、その過去において停止表示されていた停止図柄のうちの任意の図柄、例えば前回と前々回の右図柄を利用して仮確定図柄を決定する。 - 特許庁

The likelihood of a pre-correction voice standard pattern for feature vector time series before correction and that of a post-correction voice standard pattern for feature vector time series after correction are obtained respectively, and voice recognition processing based on the likelihood obtained by synthesizing the likelihood of the pre-correction voice standard pattern and that of the post-correction voice standard pattern.例文帳に追加

補正前の特徴ベクトル時系列に対する補正前音声標準パターンの尤度と補正後の特徴ベクトル時系列に対する補正後音声標準パターンの尤度とをそれぞれ求め、これら補正前音声標準パターンの尤度と補正後音声標準パターンの尤度とを合成した尤度に基づく音声認識処理を行う。 - 特許庁

Concerning traces X, Y and Z of movements from positions where display begins on a pattern display device to positions where determined patterns are displayed, since the trace Y of patterns of a second pattern group is longer than the trace X of the patterns of a first pattern group, a player can follow the variation and stop of patterns of the second pattern group due to the movement.例文帳に追加

図柄表示装置での表示が開始される位置から確定図柄として表示される位置までの移動の軌跡Ｘ，Ｙ，Ｚについて、第１図柄群の図柄の軌跡Ｘよりも第２図柄群の図柄の軌跡Ｙのほうが長く、遊技者は、より多くの第２図柄群の図柄について、その移動による変動や停止を追うことができる。 - 特許庁

In the color filter 1 obtained by successively forming a plurality of color pixel patterns 3 with color materials on a transparent substrate, a frame like dummy pattern 4 surrounding the color pixel pattern area is formed of the color material for one color pixel pattern 3 at the same time as the formation of one color pixel pattern 3 in the color pixel patterns 3.例文帳に追加

透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターン３を形成したカラーフィルター１において、前記カラー画素パターン３のうちの一色分のカラー画素パターン３を形成する際、前記一色分のカラー画素パターン３の色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターン４を同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁

In the light guide plate having light incident from an end face and emitted from an emission face of one surface and having a uniform-brightness fine pattern formed on a reflecting face opposed to the emission face, the uniform-brightness fine pattern is formed of a screen-printed convex pattern and a laser-punched concave pattern.例文帳に追加

光を端面から入射し、一方の表面の射出面から射出し、射出面に対面する反射面には、輝度均斉化微細パターンが形成されている導光板において、前記輝度均斉化微細パターンが、スクリーン印刷された凸パターンと、レーザー穿設された凹パターンとから形成されていることを特徴とする導光板。 - 特許庁

The pattern drawing system has a pattern drawing device 40 which draws pattern on an object 2 by using an optical modulator 5 including several light modulation devices whose modulation state can be selectively set respectively, and a data output device 30 which outputs data for setting the modulation state of the light modulation devices to the pattern drawing device 40.例文帳に追加

パターン描画システムは、それぞれ変調状態を選択的に設定可能な複数の光変調素子を含む光変調器５を用いて対象物２にパターンを描画するパターン描画装置４０と、該パターン描画装置に対して、光変調素子の変調状態を設定するためのデータを出力するデータ出力装置３０とを有する。 - 特許庁

When the pattern printed film 3 is thermally bonded to the resin substrate sheet 1 under pressure, the pattern 2 of the pattern printed film 3 is partitioned and a positioning line 1 drawn on the surface of the pattern printed film 3 in a vertical direction from the end part thereof in a shape recognizable easily and certainly at a glance is added to be used.例文帳に追加

絵柄印刷フィルム３を樹脂基材シート上に熱圧着する際に、少なくとも１ヶ所以上の一定間隔毎に上記絵柄印刷フィルム３の絵柄２を区切り、容易、かつ、確実に一目で認識できる形状で、同絵柄印刷フィルム３の表面上にその端部から垂直方向に描かれる位置決め線１を付加して使用する。 - 特許庁

A shading pattern, produced by an optical pattern 110 of a rotary scale 104, is formed by a first shading pattern group where plural light parts are formed at each angle on the circumference, having difference distances from the center 108 of a circle, and light parts are formed at different angles in the circumferential direction, and a second shading pattern group.例文帳に追加

ロータリスケール１０４の光学パターン１１０によって生じた明暗パターンは、円の中心１０８からの距離が異なる円周上に明部が同じ角度おきに形成されるように複数形成されると共に、円周方向に異なる角度に明部が形成された第１の明暗パターン群と第２の明暗パターン群とからなる。 - 特許庁

The arithmetic processing part 6 of the control processing part 4 generates a brain wave pattern based on the brain wave signal of a driver, compares this brain wave pattern with the stored brain wave patterns, specifies, when a matched brain wave pattern is present, the operation content corresponding to the matched brain wave pattern, and reads and transmits the control signal for executing this operation content.例文帳に追加

制御処理部４の演算処理部６は、運転者の脳波信号に基づいて脳波パターンを生成し、その脳波パターンを記憶されている脳波パターンと比較して、一致する脳波パターンがある場合には、その一致する脳波パターンに対応する操作内容を特定し、その操作内容を実行する制御信号を読み出して送出する。 - 特許庁

A shrinkable 1st yarn is sewn into a cloth 1 to form a pattern the 1st yarn is allowed to shrink with heat to form a creased pattern the pattern is fixed by hot press, a soluble 2nd yarn is dissolved and the 1st yarn is removed to form a creased pattern 3 corresponding to a design on the circumference of the hole formed by the removal of the yarn.例文帳に追加

収縮性を有する第１糸を生地１に縫い取り、模様を形成し、前記第１糸を熱により収縮させ、前記模様に皺を寄らせ、この皺を熱プレスによって固定し、溶解性を有する第２糸を溶解させ、前記第１糸を取り除くことによって、取り除き糸孔の周りにデザインに応じた皺模様３を設ける。 - 特許庁

The light emitting element mounting substrate comprises a printed board 1, a metallic wiring pattern 2 formed on the printed board 1, a light emitting element 3 which is positioned in the wiring pattern 2 and emits light by being supplied with power from the wiring pattern 2, and a sealing resin 4 which is formed over the wiring pattern 2 to cover the light emitting element 3.例文帳に追加

本発明の発光素子実装基板は、プリント基板１と、プリント基板１上に形成される金属の配線パターン２と、配線パターン２内に設置され、当該配線パターン２から電力が供給されて発光する発光素子３と、配線パターン２上に形成され、発光素子３を被覆する封止樹脂４とを備える。 - 特許庁

The original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display includes a substrate having on its surface a first pattern portion where a fine concavo-convex shape is formed in a given direction and a second pattern portion where the fine concavo-convex shape is formed in a direction different from that of the first pattern portion.例文帳に追加

本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第１パターン部および上記微細凹凸形状が上記第１パターン部とは異なる方向に形成された第２パターン部を表面に備える基材を有することを特徴とする３次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

It also includes a step for etching the work with the resist pattern as a mask, a step for radiating the light of photosensitizing wavelength band for the photosensitizer to the resist pattern through the photomask, a step for etching the work with the resist pattern as the mask, and a step for removing the resist pattern on the work.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The variation pattern setting means is configured to refer to a variation pattern determining table and to determine the variation pattern corresponding to a random number value obtained in connection with the establishment of the prescribed conditions and changes the variation pattern determining table to be referred to on the basis of the small benefit imparted to the player by the small benefit imparting means.例文帳に追加

変動パターン設定手段は、変動パターン決定用テーブルを参照し、所定条件の成立に関連して取得した乱数値に対応する変動パターンを決定するように構成され、小利益付与手段により小利益が遊技者に付与されることに基づいて、参照する変動パターン決定用テーブルを変更可能である。 - 特許庁

A subject to be exposed is exposed by lightning a mask having a pattern of contact holes and an auxiliary pattern smaller than the pattern of contact holes with a light that forms an effective light source having an empty center of non circular shape, and projecting the pattern of contact holes on the subject to be exposed using a projecting optical system.例文帳に追加

コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを、中央が非円形形状に抜けた有効光源を形成する光で照明し、前記コンタクトホールパターンを投影光学系で被露光体に投影することにより、当該被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

The superconducting device includes a first dielectric substrate (11), a two-dimensional circuit type resonator pattern (12) formed of super-conducting materials on the first dielectric substrate, and a conductor pattern (17) which is located above the resonator pattern across, preferably, a dielectric substance (16) and generates coupling of desired bandwidth in the resonator pattern.例文帳に追加

超伝導デバイスは、第１の誘電体基板（１１）と、前記第１の誘電体基板上に超伝導材料で形成された２次元回路型の共振器パターン（１２）と、前記共振器パターンの上方に、好ましくは誘電体（１６）を介して位置し、前記共振器パターンに所望の帯域幅のカップリングを生じさせる導体パターン（１７）とを有する。 - 特許庁

This exposure mask 100 has an alignment mark pattern 12 to form an alignment mark on a substrate, first and second mask alignment patterns 14, 16 formed in the point symmetric positions each other around the alignment mark pattern as the center, and a common pattern 18 to be commonly used to pattern the first, second and third layers.例文帳に追加

露光用マスク１００は、基板上にアライメントマークを形成するためのアライメントマークパターン１２と、アライメントマークパターンを中心に互いに点対称な位置に形成された第１および第２マスクアライメントパターン１４および１６と、第１層、第２層および第３層をパターニングするために共通に用いられる共通パターン１８とを有する。 - 特許庁

Also, when the control section generates the screen data, it enlarges or reduces the test pattern to change the size so that the size of the test pattern to be displayed on each the changeover screen has a ratio of 10% to the size of the display screen and sets the driving level of a background region to make the background region of the test pattern have the intensity level corresponding to the test pattern.例文帳に追加

また、画面データを生成する際には、各切替画面において表示するテストパターンのサイズが表示画面のサイズに対して１０％の比率となるように、テストパターンを拡大又は縮小してサイズ変更するとともに、テストパターンの背景領域がそのテストパターンに対応する輝度レベルとなるように背景領域の駆動レベルを設定する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which satisfies both of excellent storage stability and high sensitivity and is capable of efficiently forming a permanent pattern such as a protective film or an insulating film with high definition, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a permanent pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた保存安定性と高感度とを両立し、保護膜、絶縁膜などの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

The light diffraction structure transfer sheet 1 comprises a transfer layer 12 in which a light diffraction structure 12a with a first pattern is formed, laminated on a substrate sheet 10 and a pattern region 12b in which a second pattern different from the first pattern is formed, is built in the light diffraction structure 12a at a size as not visible with naked eyes.例文帳に追加

基材シート１０上に第１のパターンを有する光回折構造１２ａが形成された転写層１２が積層された光回折構造転写シート１であって、光回折構造１２ａには、前記第１のパターンと異なる第２のパターンが形成されたパターン領域１２ｂが肉眼では視認できない大きさで組込まれている。 - 特許庁

The spaces which are formed between the ends of the first conductive pattern 1a and the second conductive pattern 2a and have a prescribed width or below are removed from the original patterns consisting of the plural conductive patterns, by which the first patterns connected with the ends of the first conductive pattern 1a and the second conductive pattern 2a are drawn on the first photomask A.例文帳に追加

第１のフォトマスクＡには、複数の導電パターンよりなる元パターンから、第１の導電パターン１ａと第２の導電パターン２ａの端部との間に形成され且つ所定値以下の幅を持つスペースが除去されることにより、第１の導電パターン１ａと第２の導電パターン２ａの端部とが接続された第１のパターンが描かれている。 - 特許庁

Also, the method includes a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask, or a step of irradiating the resist pattern with light in a photosensitive wavelength range of the photosensitizer via a photomask, a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask, and a step of removing the resist pattern on the workpiece.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

An area boundary line which is a boundary between a first area and a second area in a grating provided on the optical pickup, overlaps some y-axis parallel boundary lines among pattern boundary line groups constituted by y-axis parallel boundary lines parallel to the y-direction among pattern boundary lines which are boundaries between a pattern A and a pattern B.例文帳に追加

本発明の光ピックアップに備えられたグレーティングの、第１領域と第２領域との境界である領域境界線は、パターンＡとパターンＢとの境界であるパターン境界線のうち、ｙ方向に平行なｙ軸平行境界線からなるパターン境界線群のうちの、一部のｙ軸平行境界線と重なっている。 - 特許庁

This instrument has a grid pattern projection device 6 formed as a unit and equipped with a grid pattern 609 arranged on the optical path of light from a light source device 14 and having slit-shaped light transmission parts formed at fixed-interval pitches, and with a projection optical system 611 for projecting a grid pattern image formed by the grid pattern 609 to a specimen 3 at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置１４からの光の光路に配置される、スリット状の光透過部を一定間隔のピッチで形成した格子パターン６０９、この格子パターン６０９より形成される格子パターン像を標本３に対し所定角度傾けて投影する投影光学系６１１を具備したユニット化された格子パターン投影装置６を有する。 - 特許庁