「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive colored composition for a color filter which achieves high throughput and high yield because heat treatment after colored pattern formation is not carried out, and which ensures good chemical resistance in spite of no heat treatment, and to provide a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

本発明の課題とするところは、着色パターン形成後の加熱処理を行わずに、高スループット・高収率で、耐薬品性の良好なカラーフィルタ用の感光性着色組成物およびこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having a wide defocus latitude when orbicular illumination is used and less liable to generate a side lobe in pattern formation using a halftone phase shifting mask and to provide a positive type photosensitive composition having the above characteristics and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

In a CMP of buried wiring formation, since the low dielectric film of the part B and the part D is divided into isolated regions, shearing stress of the CMP to the low dielectric film of a part A and a part C including the wiring pattern is relaxed.例文帳に追加

埋め込み配線形成のＣＭＰにおいて、部分Ｂおよび部分Ｄの低誘電率膜が孤立領域に仕切られていることにより、配線パターンを含む部分Ａおよび部分Ｃの低誘電率膜に対するＣＭＰのせん断応力が緩和される。 - 特許庁

A brightness and darkness boundary forming part 41C which cuts off a part of the reflection light from a reflector 34 for reflecting frontward the direct light from the light source 12a and forms a cut-off line CL of the light distribution pattern is formed at the front end part of the brightness and darkness boundary formation board 41.例文帳に追加

光源１２ａからの直接光を前方に反射するリフレクタ３４からの反射光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインＣＬを形成する明暗境界形成部４１Ｃが、明暗境界形成板４１の前端部に形成される。 - 特許庁

To enable sure formation of a lead pattern with a narrow pitch of 60 μm or less and enhancement of a long-term reliability such as temperature cycle of a semiconductor device by restricting the roughened face of a TAB tape which constitutes a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置を構成するＴＡＢテープの銅箔の粗化面を最大粗さにより規制して、６０μｍ以下といった狭ピッチのリードパターンを確実に形成することを可能とし、半導体装置の温度サイクル等の長期信頼性を高めることを可能とする。 - 特許庁

To provide a treatment apparatus capable of making the distribution of the dissolution amount and the etching amount of copper foils in an entire substrate and in the front and rear face seven and suppressing unevenness of the width of a conductor of wiring patterns in the wiring pattern directions by solving the formation of a liquid pool in the center part of the substrate at the time of etching treatment.例文帳に追加

エッチング処理時に基板中央部の液溜まりを解消し、基板全体及び表裏銅箔溶解量の分布とエッチング量の均一化と配線パターン方向による配線パターンの導体幅のバラツキを少なくする処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加

透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁

In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加

光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fine semiconductor integrated circuit having a thin film resistor in which a wiring pattern is formed by dry etching without an additional formation process for a protective film and without needing particular conditions for etching conditions for forming a contact hole.例文帳に追加

保護膜の形成工程を追加したり、コンタクト孔を形成するためのエッチング条件を特別な条件にすることなく、ドライエッチングにより配線パターンを形成しながら、薄膜抵抗体を有する微細な半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which leaves no undissolved matter in development, has no scumming, chipping and undercut of a pattern edge, and excels also in solvent re-solubility of a dry film and electrical properties of the film typified by voltage retention.例文帳に追加

現像時に未溶解物が残存せず、パターンエッジのスカム、欠けおよびアンダーカットがなく、また乾燥塗膜の溶剤再溶解性および電圧保持率に代表される電気特性にも優れた着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

This structure allows the circuit designer to recognize the area wherein pattern formation is restricted without referring to the specification drawing and artwork restriction drawing, resulting in lessening the circuit designer's burden at the time of changing the design of the circuit board.例文帳に追加

これにより、回路設計者はパターンの形成が制限される領域を回路基板の仕様図面やアートワーク制限図を参照することなく認識することが可能となり、回路設計者が回路基板の設計変更を行う際の負担を軽減することができる。 - 特許庁

To provide: a new photoacid generator, suitable as a photoacid generator of a resist material, that controls elution in water especially in ArF immersion exposure, suppresses formation of foreign matter characteristic of immersion exposure, satisfies problems of density dependency and exposure margin, is effectively used, etc.; a resist material using the generator; and a pattern forming method.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。 - 特許庁

This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.例文帳に追加

これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁

The metal pattern formation method comprises a process (a) of forming a graft polymer directly bonding with the surface of a base material on the base material, a process (b) of forming a metal film by adhering a conductive material to the graft polymer, and a process (c) of etching the metal film.例文帳に追加

（ａ）基材上に、該基材表面に直接結合したグラフトポリマーを形成する工程と、（ｂ）該グラフトポリマーに導電性材料を付着させて金属膜を製膜する工程と、 （ｃ）該金属膜をエッチングする工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein foreign materials on the surface of the magnetic recording medium can be efficiently and surely removed, a mask layer left on the surface of the magnetic recording medium does not stay, and productivity of magnetic layer pattern formation is high.例文帳に追加

磁気記録媒体の表面の異物を効率良く確実に除去することができ、当該磁気記録媒体の表面に残存したマスク層が残留することがなく、磁性層のパターン形成の生産性が高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the formation of a mark in the vicinity of a corner part from being adversely influenced by preventing the overexposure of photosensitive agent on a wafer in an area corresponding to four corner parts of a chip area out of a scribed line area in the case of performing pattern exposure to the photosensitive agent on the wafer.例文帳に追加

ウエハー上の感光剤に対してパターン露光する際、スクライブライン領域のうちでチップ領域の四隅部に対応する領域におけるウエハー上の感光剤の露光オーバーを防止し、隅部の近傍でのマーク形成に悪影響を及ぼさない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device capable of reducing manufacturing cost, and improving accuracy of pattern formation of EL layers of respective colors, in the case where a full-color flat panel display using emission colors such as red, green and blue is manufactured, and to provide a substrate for vapor deposition.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、製造コストを削減し、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

The formation of the protrusions 3' changes the amount of reflected lights in the adjoining front/rear areas in the both sides of the ridge line 3'a during the rotation of the pattern display reels 3L, 3C and 3R to cause changes in shade of the ridge line 3'a and facilitate to take a timing of spot-depressing operation.例文帳に追加

前記隆起部(3')の形成により、図柄表示用リール(3L,3C,3R)の回転中に稜線(3'a) を挟んで隣接する前後の領域における反射光量が変化して、稜線(3'a) の前後に陰影の変化が生じるため、目押し操作のタイミングが取り易くなる。 - 特許庁

To provide a process for mounting a semiconductor chip in which the semiconductor chip and a bonding pattern can be connected with sufficient bonding strength without complicating the formation of a circuit board when the semiconductor chip is mounted using ultrasonic vibration.例文帳に追加

超音波振動を利用して半導体チップを実装する際に、回路基板の構成を複雑にすることなく、半導体チップと接合パターンとを十分な接合強度をもって接続することを可能にする半導体チップの実装方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure which has a high degree of freedom for designing a pattern shape in an electric circuit and an optical circuit, which enables the formation of an optical path having high dimensional accuracy by a simple method, and which includes an optical waveguide excellent in durability.例文帳に追加

電気回路と光回路のそれぞれにおいてパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a compound expressed by formula (C1) and an acid generator allows formation of a fine resist pattern.例文帳に追加

式（Ｃ１）で表される化合物及び酸発生剤を含むレジスト組成物は、微細なレジストパターンを形成できる［式（Ｃ１）中、ｍ３は４〜１０の整数を表し；Ｒ^c1は、ヒドロキシ基等を表し；ｎ３は１〜４の整数を表し；Ｒ^c2は、式（２−１）又は式（２−２）で表される基である。 - 特許庁

To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

To provide a developer for formation of a conductive pattern having a high rising property for electrification, a high electrification level and excellent image characteristics by improving the electrifying property of a metal toner and combining the toner with a carrier which can impart the electrifying property required for the metal toner.例文帳に追加

金属トナーの帯電性を向上させ、この金属トナーに必要な帯電性を付与できるキャリアと組み合わせることにより、帯電立ち上がり性がよく、帯電レベルが高く画像特性に優れた導体パターン形成用現像剤を提供する。 - 特許庁

To provide a film-based multilayer printed wiring board configured by laminating a plurality of extremely thin printed wiring boards or printed wiring board of fine wiring to enable maintenance of film handling, industrial production easiness and stable circuit pattern formation.例文帳に追加

フィルムを基材とする極薄プリント配線板であって、フィルムのハンドリング性の維持、工業的な生産の容易さ、安定した回路パターン形成が可能な微細配線の極薄プリント配線板やプリント配線板を複数枚積層してなる多層プリント配線板の提供。 - 特許庁

To provide an inkjet pattern formation device for manufacturing a color filter and an organic functional element of high quality, without having to change the drive voltages per nozzle, or without the degradation of quality, due to an uneven density caused by the variation in discharge amount of ink for each nozzle.例文帳に追加

ノズル毎の駆動電圧を変更することなく、ノズル毎のインク吐出量のバラツキによって発生する濃度ムラによる品質低下がなく、高品質なカラーフィルタ及び有機機能性素子を製造することができるインクジェットパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

A capacity pattern 25 for noise reduction is arranged in a formation region 4b of metallic wiring for connecting logic cells 2 mutually in accordance with logic connection information, between the ROW3 and another ROW3 adjacent to the ROW3.例文帳に追加

そして、そのＲＯＷ３と、そのＲＯＷ３に隣接する別のＲＯＷ３との間の、論理接続情報にしたがってロジックセル２の相互を接続するためのメタル配線の形成領域４ｂに、ノイズ低減用の容量パターン２５を配置する構成とされている。 - 特許庁

When a heat treatment, in which the peak temperature is equal to or lower than the glass transition point, carried out for a magnetic head chip to eliminate internal distortion during the formation of the magnetic head chip, the heat treatment is carried out by a temperature pattern having peaks twice or more (S103, S109).例文帳に追加

磁気ヘッドチップに対しガラス転移点以下の温度をピークとする熱処理を行って、その磁気ヘッドチップを成形した際の内部歪みを除去するのにあたり、ピークを２回（Ｓ１０３，Ｓ１０９）以上有する温度パターンで前記熱処理を行う。 - 特許庁

To improve the electrical characteristics of an electrophotographic photoreceptor set in an electrophotographic device in which image formation is carried out using coherent light, the image characteristics of the photoreceptor including moire pattern and the dispersion stability of a coating solution for an undercoat layer.例文帳に追加

可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に搭載される電子写真感光体において、その電気特性及び干渉模様を含めた画像特性及び下引き層塗布液の分散安定性のすべてを改善することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid composition for forming a coating layer for image protection in which an image exhibiting excellent gas resistance and rubbing resistance can be provided at a low running cost, its apparatus can be reduced in size easily, and an interference fringe pattern incident to formation of the coating layer can be reduced.例文帳に追加

耐ガス性、耐擦性に優れた画像を、低ランニングコストで提供でき、そのための装置の小型化も容易で、かつ被覆層の形成による干渉縞模様を低減できる画像保護のための被覆層形成用の液体組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and its method wherein various conditions in exposure, such as exposure power, stage speed, and the depth of focus can be set optimally, in response to resolution required for formation of photosensitive characteristics or a pattern of a photosensitive substrate.例文帳に追加

感光性基板の感光特性又はパターンを感光性基板に形成する上で必要とされる解像度に応じて、露光パワー、ステージ速度、及び焦点深度等の露光における諸条件を最適に設定することができる露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

It is desirable that the linear patterns are formed after the bulge-inducing patterns are formed, and therefore, the method may further involve the step for forming bulge-confirming patterns for confirming the bulge generation positions by previously applying droplets of the composition to regions other than the pattern formation regions.例文帳に追加

バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 - 特許庁

An optical system 1 is provided with a light source 2, a pattern formation means 3 arranged on an optical axis of the light source, for forming slit light by the light from the optical source, and a floodlighting lens 4 for condensing the slit light toward a measuring object.例文帳に追加

光源２と、光源の光軸上に配置され、上記光源からの光によりスリット光を形成するためのパターン形成手段３と、スリット光を測定対象物に対して集光するための投光レンズ４とを備える光学系１を設ける。 - 特許庁

To provide a mark cloth not requiring formation of a color image such as a reversed pattern, number and name slug, providing a large bonding area to various kinds of clothes, having sufficient strength, and enabling the heat-transferred color image to be used for a long period.例文帳に追加

反転した図柄、ゼッケン、ロゴなどのカラー画像を作成する必要がなく、また各種衣類との接着面積が大きくなり、接着強度が十分となり、熱転写したカラー画像が長期間の使用に耐えることができるマーク生地を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method with which the manufacturing man-hour can be reduced by reducing the numbers of ion implantation times and resist pattern formation times at manufacturing of a plurality of kinds (for example, two power supplying systems) of CMOS transistors additionally having ROM functions.例文帳に追加

ＲＯＭ機能を付加した複数種類（例えば２電源系）のＣＭＯＳトランジスタを製造するに際し、イオン注入の回数及びレジストパターン形成の回数を減らし、製造工数を削減することができる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation having high sensitivity, excellent in pattern profile and film retention even in low exposure energy, and providing pixels and a black matrix excellent in solvent resistance to various solvents and in adhesion to a substrate.例文帳に追加

高感度で、低露光量でもパターン形状および残膜率が優れ、かつ各種溶剤に対する耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

This three-dimensional model formation device receives a processing range by a command of an operator, calculates a height difference between an object point and an adjoining point from distance information obtained from the range data, and calculates a feature quantity related to an edge having such a shape that the height difference is formed into a certain specific pattern.例文帳に追加

オペレータの指示により処理対象領域を受け付け、レンジデータから得られる距離情報から対象点と隣接する点の高低差を算出し、その高低差が或る特定のパターンとなる形状のエッジに関する特徴量を算出する。 - 特許庁

After adhesion, inner stress is generated in the stencil mask 12, however, the inner stress concentrates on the slits 28, which results in about ≤4 MPa inner stress, at most ≤10 MPa, in the membranes 26 in the mask pattern formation region.例文帳に追加

接着後にはステンシルマスク１２に内部応力が発生するが、この内部応力はスリット２８、２８に集中するため、マスクパターン形成領域２３のメンブレン２６、２６…における内部応力は概ね４ＭＰａ以下、最大でも１０ＭＰａ以下に維持される。 - 特許庁

The image forming apparatus capable of continuously forming a toner image on a memory material by using toner has a toner consuming mode, by forming a toner consumption pattern between memory materials during continuous image formation.例文帳に追加

本発明は、トナーを用いて記憶材上にトナー像を作像する行程を連続して行うことが可能な画像形成装置において、連続作像時に記憶材と記憶材の間にトナー消費パターンを作像してトナーを消費するモードを持つことを特徴とする。 - 特許庁

The toner forced consumption controller forms a toner forced consumption pattern 86 in a non-image area a of each image carrier to control the toner to be forcedly consumed, when forming the image on each image carrier of each image formation station in the image forming device.例文帳に追加

トナー強制消費制御装置は、画像形成装置の各作像ステーションの像担持体にそれぞれ作像するとき、各像担持体の非画像領域ａにトナー強制消費パターン８６を形成してトナーを強制的に消費するように制御する。 - 特許庁

The problem is solved by the operation device having a chassis with a built-in electronics device requiring input/output, a spinner so arranged that a part projects out of the chassis, and a pattern formation layer laid on a curved surface for the whole or the part on the curved plane of the spinner.例文帳に追加

入出力を必要とする電子機器を内蔵した筐体と、その筐体から一部突出するように配置された回転体と、該回転体曲面上の全体又は一部に敷設されたパターン形成層とを有する操作装置により解決された。 - 特許庁

The repetitive optical structure is illuminated by the light source for formation of a fringe pattern (similar to Laser Doppler Anemometry), and/or, an object is illuminated by the light source and the repetitive optical structure diverts light from the illuminated object onto light sensors.例文帳に追加

反復式光学構造は光源によって照明され、フリンジパターン（レーザドプラー風力測定法に似た）を形成し、そして／又は対象物が光源により照明され、反復式光学構造は、照明された対象物からの光を光センサの上へ導く。 - 特許庁

This authenticity determining device for determining the authenticity of the image formation body receives the light of the concealed pattern by a visual observation device and a sensor, calculates the secret image by the operation, and checks the secret image with the prescribed secret image recorded in advance.例文帳に追加

また、画像形成体の真贋を判定する真贋判定装置で、目視で観察する装置、およびセンサで隠しパターンを受光して演算で秘密画像を算出し、予め記録された所定の秘密画像とを照合する真贋判定装置を特徴とする。 - 特許庁

To provide an image formation control method capable of appropriately maintaining the image density of a toner pattern image by easily and accurately calibrating an image density sensor, and then, capable of obtaining a stable image of high quality, and to provide an image forming apparatus used for the performance of the aforesaid method.例文帳に追加

容易かつ正確に画像濃度センサを較正して、トナーパターン画像の画像濃度を適正に保持することができ、安定した高品質の画像を得ることができる画像形成制御方法及びその実施に用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for precisely carrying out formation by recognizing an alignment mark for aligning a pattern to be formed in the upper layer even if a CMP(chemical mechanical polishing) method is used for forming buried wiring.例文帳に追加

ＣＭＰ（化学機械的研磨）法を用いて埋め込み配線を形成する場合であっても、その上層に形成するパターンを位置合わせするためのアライメントマークを認識できるかたちで的確に形成することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁