「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

This image forming device having a plurality of recording heads discharging liquid droplets includes: a formation part making each of the plurality of recording heads form an image pattern; a sensing part sensing the density of each image pattern; and a correction part correcting the density of the liquid droplets discharged from the plurality of the recording heads based on the sensed density of the image patterns.例文帳に追加

液滴を吐出する複数の記録ヘッドを有する画像形成装置において、前記複数の記録ヘッドそれぞれに画像パターンを形成させる形成部と、前記それぞれの画像パターンの濃度を検知する検知部と、前記検知された画像パターンの濃度に基づいて、前記複数の記録ヘッドが吐出する液滴の濃度を補正する補正部と、を有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In formation of the metal projection, as for a pattern of a resist 71, the pattern is formed by removing a resist in a resist removal domain 72 including nine quadrangular pyramid tips, and a polyimide film is formed after removing the resist, to thereby obtain the contact terminal wherein the tip part in one terminal is divided into nine, and a part of the contact terminal is constituted of polyimide.例文帳に追加

この金属製突起の形成において、レジスト７１のパターンは、９つの四角錐先端を含むレジスト除去領域７２のレジストを除去することによりパターンを形成し、レジストを除去した後にポリイミド膜を形成することにより、１つの端子中に先端部が９つに分かれ、かつ接触端子の一部がポリイミドで構成される接触端子を得る。 - 特許庁

As a master information carrier 3 on which a shape pattern corresponding to the digital information signal to be magnetically transferred and recorded to a magnetic recording medium 9, a master information carrier 3 is used which has a plurality of ferromagnetic thin-film pattern formation areas 2, etc., corresponding to information signals of the same specification arranged on the surface of the same nonmagnetic base 1.例文帳に追加

磁気記録媒体９に対して磁気転写記録すべきディジタル情報信号に対応する形状パターンが強磁性薄膜をもって形成されているマスター情報担体３について、同一の非磁性基体１の表面に同一仕様の情報信号対応の強磁性薄膜パターン形成領域２‥が複数個配置されているマスター情報担体３を用いる。 - 特許庁

To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.例文帳に追加

水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive glass substrate obtained by forming a conductive film having excellent adhesion to a glass substrate and having optional conductivity, a method of forming the same and a method of forming a conductive pattern which is suitable for making out a material necessary for the formation of highly conductive and optional pattern formed using the conductive glass substrate or using a method same as that for the conductive glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板との密着性に優れ、任意の導電性を有する導電膜を形成してなる導電性ガラス基板、その形成方法、及び、該導電性ガラス基板を用いて、或いは、導電性ガラス基板と同様の方法にて形成された高い導電性と任意のパターン形成を必要とする材料の作製に好適な導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

In such a state that the scanning length due to the laser beam of the other semiconductor laser corresponding to the correction condition while changing the correction condition, a pattern image for confirmation is outputted and a correction condition used at the time of usual formation of image can be selected and set from the correction conditions corresponding to the respective outputted confirming pattern images.例文帳に追加

また、補正条件を変えながらその補正条件に応じて他の半導体レーザのレーザ光による走査長が補正された状態で、確認用パターン画像を出力し、出力された各確認用パターン画像にそれぞれ対応する補正条件の中から、通常の画像形成時に使用される補正条件を選択して設定することが可能である。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加

高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.例文帳に追加

基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁

To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.例文帳に追加

ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In the semiconductor device wherein an outside connection terminal 50 electrically connecting the electrode 12 of a semiconductor element through a wiring pattern 52 to the electrode formation face of the semiconductor element is formed, the outside connection terminal 50 is formed of a wire consisting of an electrically conductive material, and the bonding part side of the wire is provided to be buried in a metal layer forming the wiring pattern 52.例文帳に追加

半導体素子の電極形成面に、配線パターン５２を介して半導体素子の電極１２と電気的に接続する外部接続端子５０が形成された半導体装置において、前記外部接続端子５０が、導電材からなるワイヤにより形成され、該ワイヤのボンディング部側が前記配線パターン５０を形成する金属層に埋没して設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

An insulation resist membrane is formed on the substrate, the surface ionized array pattern is formed on the resist membrane by irradiating the resist membrane with an electron beam, the dipolar ionic liposome is coupled to the surface ionized array pattern by an electrostatic interaction, and the fellow individual liposomes are kept under an isolated condition by electrostatic repulsion to prevent membrane fusion, breakage and aggregate formation.例文帳に追加

基板上に絶縁性レジスト膜を形成し、このレジスト膜に電子ビーム照射により表面イオン化した配列パターンを形成し、この表面イオン化した配列パターンに両性イオン性リポソームを静電相互作用により結合させ、かつ、個々のリポソーム同士は静電反発により、孤立状態に保たれ、膜融合、破壊、凝集体形成が防止されている。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the antenna for reader, 15 with an antenna pattern 23 formed on the antenna forming object member 5, such as the shelf board of the bookstand, or the like, a conductive and porous sheet-like member 51 is provided on the antenna formation object member 5, and the outer periphery of the porous sheet-like member 51 extends substantially along the outer periphery of the antenna pattern 23 in planar view.例文帳に追加

書架などの棚板などのアンテナ形成対象部材５に形成されているアンテナパターン２３を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材５１が、上記アンテナ形成対象部材５に設けられ、上記多孔性シート状部材５１の外周囲が、平面的に見て、上記アンテナパターン２３の外周囲にほぼ沿って延在している。 - 特許庁

To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.例文帳に追加

細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing method for photoresist film which can not only shorten the process time but also can improve the wavelength area selection ratio to enable the formation of a photoresist pattern of a sharp shape, a manufacturing method for a semiconductor device using the developing method, and a developer suitable for excuting the developing method.例文帳に追加

処理時間を短縮できるのはもちろん選択比を向上してシャープな形状のレジストパターンの形成を可能にしたレジスト膜の現像方法、及びこの現像方法を用いた半導体装置の製造方法、さらに現像方法の実施に好適な現像装置を提供する。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an improved polymer and photoresist composition in which the formation of a fine pattern in an electronic device production is enabled, and at least one of problems (separately described) relating to a newest technology can be avoided or remarkably improved, and to develop a photolithographic method for negative tone development.例文帳に追加

電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。 - 特許庁

To provide an organic acid soluble type polyamide resin composition with excellent injection molding property, adhesiveness, resistance to a plating processing liquid, solubility to an organic acid and formation property of a circuit pattern, and a method for manufacturing a three-dimensional injection molding circuit component using the resin composition.例文帳に追加

射出成形性、接着性、めっき処理液に対する耐性、有機酸に対する溶解性、回路パターンの形成性に優れた有機酸可溶型ポリアミド樹脂樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いた三次元射出成形回路部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist material characterized by having high sensitivity and high resolution equivalent to or higher than those of a conventional positive type resist material, alleviating the formation of standing waves because of the good pattern shape on especially a high-reflecting substrate, and therefore causing reduced edge roughness.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料と同等か若しくはこれを上回るほど高感度、高解像度であるとともに、特に高反射基板上でのパターン形状が良好で、定在波の発生が軽減され、エッジラフネスが少ない特性を示すポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

As a result, exposure can be performed suitably since the atmosphere of the interface 12 is controlled to have prescribed humidity or oxygen concentration when a wafer W travels on the interface 12 in processes before and after exposure by an aligner 13, so that accurate pattern formation is enabled.例文帳に追加

これにより、露光装置１３による露光前及び露光後の工程において、ウエハＷがインターフェース部１２を行き来する際、当該インターフェース部１２の雰囲気が所定の湿度又は酸素濃度に制御されているので、好適に露光を行うことができ、正確なパターン形成を行うことができる。 - 特許庁

A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.例文帳に追加

（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁

Because of formation of the both face, connection wiring pattern 223, a break can be prevented in the vicinity of the through-hole bottom part 1131, and the wire 221 can be easily led out of the circumference of the through-hole bottom part 1131, consequently, a resistance value of the wire can be lowered.例文帳に追加

この両面接続用配線パターン２２３の形成により、貫通孔底部１１３１近辺においての断線を抑制することができ、かつ貫通孔底部１３１周囲からの配線２２１の引き出しが容易となり、配線の抵抗値を低減することが可能となる。 - 特許庁

Removal of a mask in a region to form the semiconductor element and removal of a sacrifice layer and the mask in the region to form the micro structure are carried out in the same process by forming the sacrifice layer by using a mask material to carry out pattern formation of a film in manufacturing the micro machine.例文帳に追加

マイクロマシンの作製に際して、膜のパターン形成を行うためのマスク材料を用いて犠牲層を形成し、半導体素子を形成する領域におけるマスクの除去と、微小構造体を形成する領域における犠牲層とマスクの除去を同一の工程にて行う。 - 特許庁

To enable to reduce a stress effect undergoing from an element isolation film by an element formation region by a dummy pattern provided to flatten the front surface of a substrate in which the element isolation film is formed, and to enable to improve the operating characteristic of the element by controlling positively the stress effect.例文帳に追加

素子分離膜が形成された基板表面の平坦化を図るために設けるダミーパターンによって、素子形成領域が素子分離膜から受ける応力効果を低減できるようにし、また、応力効果を積極的に制御して素子の動作特性を向上できるようにする。 - 特許庁

To provide a surface treating method of a substrate having irregularities on the surface (e.g. a semiconductor substrate having protruding insulating parts and recessed electrode parts formed on the surface being used in the formation of a metal film pattern) in which only the protrusions can be reformed selectively in the fabrication of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイス製造において、表面に凹凸形状を有する基板（たとえば、金属膜パターンの形成に用いられる、凸部絶縁部と凹部電極部が表面に形成された半導体基板等）の、凸部のみを選択的に改質しうる基板の表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

Output image data wherein formation of pixels is suppressed in the vicinity of a center of a dot matrix is obtained by this suppression pattern, and an exposure part irradiates the photoreceptor drum by an exposure determined on the basis of the image data and an exposure energy profile, to form an electrostatic latent image.例文帳に追加

この抑制パターンにより、網点内の中央部近傍に画素の形成が抑制された出力画像データが得られることになり、露光部では、この画像データに基づき決定された露光量で且つ、露光エネルギープロファイルにより、感光ドラム上を照射して静電潜像を形成する。 - 特許庁

On the surfaces of a mother ceramic substrate 10, break grooves 11 are formed in a grid pattern by a laser scribing method, and the mother substrate is primarily divided along the break grooves which extend in one direction, then dross which is produced in the break groove formation process is removed by barrel polishing or the like.例文帳に追加

セラミック製マザー基板１０の表面にレーザスクライビング法によってブレーク溝１１を格子状に形成し、該マザー基板を一方向に延在するブレーク溝に沿って１次分割し、ブレーク溝形成時に発生した溶融再凝固物（ドロス）をバレル研磨等で除去する。 - 特許庁

An illumination optical system 20A of this pattern inspection device guides incoherent light emitted from an emission face F of an optical fiber array 21 toward a long and narrow illumination region R formed on the surface of a printed circuit board 7 by using nonaxisymmetric image formation elements such as a cylindrical lens 22 or the like.例文帳に追加

パターン検査装置の照明光学系２０Ａは、オプティカルファイバーアレイ２１の出射面Ｆから出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレンズ２２などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板７の表面に形成される細長形状の照明領域Ｒに対して導く。 - 特許庁

To solve problems due to a difference in reflectance during formation of a nanohole pattern and problems due to a decrease in wiring reliability resulting from etching at the same time, while eliminating an increase in effective dielectric constant between wiring lines in the same wiring layer and an increase in variation in wiring width.例文帳に追加

同一配線層の配線間における実効誘電率の増大及び配線幅のばらつきの増加を解消しつつ、ナノホールパターンの形成時における反射率差に起因する課題と、エッチングによる配線信頼性低下の課題とを同時に解決できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for forming a barrier rib for a flat display, wherein the light exposure margin where problems such as meandering and/or peeling, pattern thickening and/or residual film formation do not occur can be enlarged when forming the barrier rib for the flat display with high definition and high aspect ratio, and wherein the increase of a required light exposure is small.例文帳に追加

高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、蛇行や剥がれ、パターン太りや残膜形成といった問題が発生しない露光量マージンを拡大でき、かつ必要露光量の増大が少ない平面ディスプレイ用隔壁の形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a top contact type field effect transistor 10 of this embodiment, after a protection layer 22 is formed on an active layer 18 formed in a semiconductor layer formation step, a photoresist film is formed on the protection layer 22 and it is exposed to a pattern shape in an exposure step.例文帳に追加

本実施の形態のトップコンタクト型の電界効果型トランジスタ１０の製造方法によれば、半導体層形成工程で形成した活性層１８上に、防護層２２を形成した後に、該防護層２２上にフォトレジスト膜を形成して露光工程においてパターン状に露光する。 - 特許庁

The multi-layered printed wiring board (1) is formed by laminating an internal layer circuit board (4) between two outermost layer copper foils across prepregs in one body, the multi-layered printed wiring board having a closed circuit as a test pattern (6) outside a circuit formation region (5) of the inner circuit board (4).例文帳に追加

二枚の最外層銅箔の間に、プリプレグを介して内層回路基板（4）が積層一体化されてなる多層プリント配線板（1）であって、内層回路基板（4）の回路形成領域（5）外に、テストパターン（6）としての閉回路を有することを特徴とする多層プリント配線板とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus independently including a black image forming section and color image forming sections, the image forming apparatus extending the life of a color photoreceptor by application of a lubricant thereto, allowing black toner to be recyclable, and preventing defects in image formation such as a void in an image detection pattern and deterioration in transfer ratio.例文帳に追加

黒の作像部がカラーの作像部と独立している画像形成装置において、潤滑剤塗布によるカラー感光体の長寿命化と、黒トナーのリサイクルを図り、また画像検知パターンの中抜け、転写率低下などの作像の不具合を防止する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a black curable composition for a wafer-level lens that forms a cured film with excellent light shielding properties and exhibiting excellent sensitiveness necessary for curing in pattern formation, and an easy-to-produce wafer-level lens with light quantity properly adjusted by the presence of a light shielding film.例文帳に追加

遮光性に優れた硬化膜を形成することができ、パターン形成時の硬化に必要な感度に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供し、遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of totally confirming misalignment between via holes and wiring patterns immediately after wiring pattern formation of the printed wiring board, and taking corrective action by discovering failures in the early stage to feed back the failures to a process in the case of continuous defects; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

プリント配線板の配線パターン形成直後に、バイアホールと配線パターン間の位置ズレを全数確認することが可能で、異常を早期発見して連続不良の場合には工程にフィードバックし、是正処置を取ることができるプリント配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, when the target threshold is stored in one blank storage element, a dot shape to be actually formed is assumed on the basis of a dot formation pattern expressed by the arrangement of storage elements in which the threshold has been already stored, and a coverage C is calculated for each of the blank storage elements.例文帳に追加

次に、空白格納要素の１つに対して着目閾値を格納したとした場合に、閾値が既に格納された格納要素の配置が表すドットの形成パターンに基づいて、実際に形成されるドット形状を想定し、空白格納要素の各々について、被覆率Ｃを算出する。 - 特許庁

To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.例文帳に追加

基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control and management program for a caisson excavator capable of easily varying and setting image formation and display for management of excavation, functions to prevent contact during operation of plural machines, and the pattern of excavator speeds, in addition to setting caisson shapes, cutting-edge ceiling corner shapes, shaft position and rail shapes.例文帳に追加

ケーソン形状、刃口天井コーナ形状、シャフト位置、レール形状の他、掘削管理用画像製作および表示、複数台稼働時の接触防止機能、掘削機速度パターンの設定などを容易に変更、設定できるケーソン掘削機の制御、管理プログラムを提供すること。 - 特許庁

A testing circuit to determine whether the mask that has been used to from the source/drain and gate electrode of a transistor, contact and wiring of each layer thereof is correct or not is formed within a chip or in the scribe region, and this circuit is then coupled with formation of the pattern of mask used.例文帳に追加

トランジスタのソース・ドレイン、ゲート電極とその上各層のコンタクトと配線を形成する際に使用したマスクが正しい物か否かを判定する為の試験回路をチップ内又はスクライブ領域に形成しておき、この回路を使用マスクのパターン形成により連結される。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide that is excellent in durability and allows high integration.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れるとともに高集積化が可能な光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To extend the possibility of local formation or modification of a pattern of specific magnetization direction in a planar magnetic surface or in a magnetic film and to obtain an improved magnetic storage and recording device having one or more surfaces in which such patterns are formed.例文帳に追加

プレーナ磁気面または磁気膜内において、局所的に特定の磁化方向のパターンを生成または変異する可能性を拡張すること、及びこうしたパターンを設けられる１つ以上の表面を有する、改善された磁気記憶及び記録装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor( polyamic acid ) to be used for producing a specific polyimide, high in convenience and enabling finer and more accurate pattern formation, to provide a composition containing the precursor, and to provide a method for producing a product intermediate using the precursor or the composition.例文帳に追加

特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得るポリイミド前駆体（ポリアミック酸）および当該前駆体を含む組成物、並びにこれらを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁