「plane solution」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing the hot-melt adhesive plane fastener is characterized by coating of a chlorinated polyolefin resin solution on a polyurethane layer coated on the back face of the plane fastener, and subsequently by forming of a polyolefin resin layer thereon by solution coating or by melt adhesion.例文帳に追加

面ファスナーの裏面に設けられるポリウレタン系コート層に塩素化ポリオレフィン系樹脂溶液を塗布し、次いでポリオレフィン系樹脂層を塗布または融着により設けることを特徴とする融着可能面ファスナーの製造方法。 - 特許庁

A wash transferring mechanism part is provided with the washing part 3 at the position where the coating solution discharged from the nozzles 11-13 contacts the plane part during discharging the coating solution.例文帳に追加

洗浄移動機構部は、塗布液の吐出中においては、ノズル１１〜１３から吐出される塗布液が平面状の部分に当たる位置に洗浄部３を配置する。 - 特許庁

The plastic molding body 50 is immersed in an Sn-Pb plating solution to form a patterned Sn-Pb layer 52 on the stripped plane 51.例文帳に追加

そして、樹脂封止体５０をＳｎ−Ｐｂめっき溶液に浸漬し、剥離面５１にパターニングされたＳｎ−Ｐｂ層５２を形成する。 - 特許庁

The sheet molding machine supplies a solution to a secondary storage unit having an open upper part for supplying solution to a blade for molding the sheet at an angle of 20° or more downward with respect to a horizontal plane.例文帳に追加

シート成形用ブレードへ溶液を供給するための上部が開放された２次貯留部へ、水平面に対して２０°以上下向きの角度で溶液を供給するシート成形装置とする。 - 特許庁

Further, the valve opening of the return line of the concentrated methane fermentation solution is changed in accordance with the membrane-permeating solution amount of the pressure type membrane separation apparatus, so that in-plane membrane pressure difference in the pressure type membrane separation apparatus can be adjusted and a prescribed membrane-permeating solution amount can be maintained.例文帳に追加

さらに、加圧型膜分離装置の膜透過液量に応じて、濃縮メタン発酵液の返送ラインの弁開度を変更し、加圧型膜分離装置内の膜面差圧を調整することにより、所定の膜透過液量を維持することができる。 - 特許庁

In another embodiment, a floater having a permanent magnet makes the target cells array along a single imaging plane within the sample solution.例文帳に追加

別の実施態様では、永久磁石を有するフローターにより、サンプル溶液内の単一画像化平面に沿って、標的細胞を整列させる。 - 特許庁

Anisotropic etching of silicon is carried out by using the etching solution which contains a metal compound and has ≥18×10^3 Å/minute etching speed of a (110) plane at 80°C and a ≥1.7 etching speed ratio (110)/(100) of a (100) plane orientation to a (110) plane orientation at 80°C.例文帳に追加

シリコンの異方性エッチングに用いるエッチング液は、金属化合物を含有し、８０℃における（１１０）面のエッチング速度が１８×１０^３Å／分以上であり、かつ８０℃における（１１０）面面方位と（１００）面面方位のエッチング速度比（１１０）／（１００）が１．７以上であるエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁

The method of use thereof includes a process which makes the almost plane surface of polysilicon film contact with the solution which is highly aqueous and strongly basic for a sufficient time to make etching selectively the salient or the protrusion from the surface of the almost plane polysilicon film without etching significantly the almost plane polysilicon film.例文帳に追加

その使用方法は、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングすることなく、概ね平面であるポリシリコン膜の表面を、該水性の高い強塩基性の溶液と、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から隆起または突起を選択的にエッチングするのに十分な時間、接触させることを含む。 - 特許庁

The method of use thereof includes a process which contacts the almost plane surface of polysilicon film with the solution which is highly aqueous and strongly basic for a sufficient time to make etching selectively the upheaval or protrusion from the surface of the almost plane polysilicon film without etching significantly the almost plane polysilicon film.例文帳に追加

その使用方法は、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングすることなく、概ね平面であるポリシリコン膜の表面を、該水性の高い強塩基性の溶液と、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から隆起または突起を選択的にエッチングするのに十分な時間、接触させることを含む。 - 特許庁

A washing part 3 has a washing port to cause the washing solution for washing the nozzles 11-13 to bleed and a plane part to be extended in the moving direction of the nozzles.例文帳に追加

洗浄部３は、ノズル１１〜１３を洗浄するための洗浄液を湧出する洗浄口とノズルの移動方向に延びる平面状の部分とを有する。 - 特許庁

The stirring blade 7 has an upper face inclined relative to a horizontal plane to drop a raw material of the resin composition solution charged from above.例文帳に追加

攪拌翼７は、上方より投入された樹脂組成物溶液の原料が下方に落下するように水平面に対して傾斜構造とされている上面を有する。 - 特許庁

Namely, a mask material 81 not substantially having a tacky adhesive component while having plating solution resistance is arranged to cover a first principal plane side copper terminal 23.例文帳に追加

即ち、めっき液耐性を有する一方で粘着成分を実質的に有しないマスク材８１を、第１主面側銅端子２３を覆うようにして配置する。 - 特許庁

To compute an optimal placement solution satisfying both symmetrical placement constraints and relative positional relationship constraints (sequence-pair constraints) when a plurality of rectangular elements are placed on a plane.例文帳に追加

平面上に複数の矩形要素を配置する際の対称配置制約及び相対位置関係に係る制約（sequence-pair制約）を共に満たす最適配置解を求める。 - 特許庁

Since the solution L passes through the gap formed between the surface Ws and the upper surface of the filter 27 and having a low flow passage resistance, the solution L smoothly flows from the central part to the peripheral section of the substrate W through the gap and the in- plane uniformity of the thickness of the plated film is improved.例文帳に追加

流路抵抗が小さい三次元フィルタ２７の上面との隙間を通ることになるので、メッキ液Ｌはその隙間を通って基板Ｗの中央部から周辺部に円滑に流れ、膜厚の面内均一性を高められる。 - 特許庁

To provide an electroplating solution by which, the upper face of a via hole and the upper face of a conductor circuit in the same layer can be formed on almost the same plane in producing a multiplayer printed circuit board.例文帳に追加

多層プリント配線板を製造する際に、同一層におけるビアホールの上面と導体回路の上面とを略同一平面に形成できる電解めっき液を提供する。 - 特許庁

To provide a plating apparatus and a plating method for enhancing the in-plane uniformity of the film thickness of a plating film by employing a dip system with excellent bubble removal and adjusting the flow of plating solution in a plating tank.例文帳に追加

気泡の抜けが良いディップ方式を採用し、しかもめっき槽内のめっき液の流れを調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高めることができるようにする。 - 特許庁

The ITO film strongly oriented in the (400) plane can be manufactured, by forming the film using a spray pyrolysis method by using a starting material solution having a concentration of 0.3-1 mol/l.例文帳に追加

濃度が０．３ｍｏｌ／ｌ〜１ｍｏｌ／ｌの出発原料液を用いてスプレー熱分解法により成膜することにより、（４００）面に強配向したＩＴＯ膜を製造することができる。 - 特許庁

The processing composition container for the photographic solution is formed by providing the peripheral edge at the basal plane on the inner side of a plastic container with a groove-like recess encircling the basal plane along the peripheral edge and disposing the mouth of the container in the upper part of the container on the perpendicular line erected perpendicularly from the arbitrary position of the container.例文帳に追加

プラスチック容器の内側底面部の辺縁に沿って底面部を取り巻く溝状の窪みを設け、容器の口部が該溝状の窪みの任意の位置から垂直に立てた垂線上の容器上部に配されている写真用液体処理組成物容器。 - 特許庁

The material for promoting the recalcification is composed of a liquid A which is previously applied to the tooth plane and contains 1-30 wt.% of a calcium salt and a residual part is a volatile solvent, and a liquid B which is subsequently applied to the tooth plane applied the liquid A and is an aqueous solution containing 1-30 wt.% of a phosphate.例文帳に追加

再石灰化促進材を、歯面に先に塗布するカルシウム塩を１〜３０重量％含有し残部が揮発性溶媒であるＡ液と、Ａ液を塗布した歯面に次に塗布するリン酸塩を１〜３０重量％含有する水溶液であるＢ液とで構成する。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which is used for chemical mechanical polishing in manufacture of a semiconductor device, can realize low dishing of a workpiece to be polished, and can execute polishing excellent in in-plane uniformity of a surface to be polished; and to provide a chemical mechanical polishing method employing this metal polishing solution.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いられ、被研磨体の低ディッシングを達成し、且つ、被研磨面の面内均一性に優れた研磨が可能な金属用研磨液、及び、該金属用研磨液を用いた化学的機械的研磨方法を提供すること。 - 特許庁

The fluid lens 2 has a water solution layer 24 and an oil layer 23, and changes a refractive index by varying the interface shape between the water solution layer 24 and the oil layer 23 by applying voltage on an electrode 21, and controls the light distribution of the plane light-emitting light source 1.例文帳に追加

液体レンズ２は、水溶液層２４及びオイル層２３を有し、電極２１に電圧を印加して水溶液層２４とオイル層２３の界面形状を変化させることによって屈折率を変化させ、面発光光源１からの光の配光を制御している。 - 特許庁

As the processing solution is fed into the processing tank 1, the movable nozzle 7 moves and comes in close contact with an inclined plane 2a of the inlet of a passage in the rack 2 disposed in the tank 1.例文帳に追加

可動ノズル７が処理液の処理槽１への送給により移動して、処理槽１内に配置されたラック２内の流路入口の傾斜面２ａと密着可能になる処理液循環装置。 - 特許庁

An ink jet head is used to discharge a gel solution having a first gel concentration onto a plate, form a large number of droplets 20a on the plate, and form a first gel 200a of a plane liquid film.例文帳に追加

インクジェットヘッドを用いて、第１のゲル濃度を有するゲル溶液をプレート上に吐出し、同プレート上に液滴２０ａを多数形成し、平面状の液膜となった第１のゲル２００ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for electrolytic treatment that enable a uniform electrolytic treatment in a substrate plane without changing the thickness and the film type of a conductive layer, the electrolyte of a plating solution, and the like.例文帳に追加

導電層の厚みや膜種、めっき液の電解質等を変更することなく、基板面内における均一な電解処理を行えるようにした電解処理装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

The image processing means 16 obtains an intersection between patterns from recorded images and calculates a first solution containing freedom by means of restriction conditions of a first temporary plane and a second temporary plane containing the intersection and restriction conditions obtained from positional relation between the projector 12 and the camera 14.例文帳に追加

そして、画像処理手段１６では、撮影された画像からパターン同士の交点を獲得し、この交点を含む第１暫定平面および第２暫定平面の制約条件と、プロジェクタ１２とカメラ１４との位置関係から得られる制約条件を用いて自由度を含む第１解を算出している。 - 特許庁

This fishing bucket has the following means for solution: having a bucket body provided with an opening on the side of the top and a rectangular shape when viewed in a plane; and having handles on at least two respective sides adjacent to each other among four sides of the bucket body.例文帳に追加

上面に開口部を有する平面視方形状のバケツ本体を備え、該バケツ本体の四つの側面のうち、少なくとも隣り合う二つの側面に各々把手を有していることを解決手段とする。 - 特許庁

To obtain a solid matter for preparing a cellulose ester solution especially having excellent plane qualities, a cellulose ester solution, to provide a process for manufacturing a cellulose ester film, the cellulose ester film, and a polarizing plate and a display device using the film for remarkably reducing the defects deriving from the agglomeration of fine particles or of the cellulose ester itself.例文帳に追加

微粒子あるいはセルロースエステル自身の凝集に由来する欠陥を著しく低減することを目的としており、特に面品質に優れたセルロースエステル溶液の調製用固形物、セルロースエステル溶液、セルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、それを用いた偏光板及び表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a plating apparatus and a plating method for enhancing the in-plane uniformity of the film thickness of a plating film by employing a dip system with excellent bubble removal and adjusting the flow of plating solution in a plating tank.例文帳に追加

気泡の抜けが良いディップ方式を採用し、しかもめっき液槽内のめっき液の流れを調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高めることができるめっき装置及びめっき方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plating apparatus which has a relatively simple structure, enhances the in-plane uniformity of the film thickness of a plated film by more uniformly adjusting the flow of a plating solution in a plating tank, and surely embeds the plated film for a shorter period of time.例文帳に追加

比較的簡単な構成で、めっき槽内のめっき液の流れをより均一に調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高め、めっき膜の埋込み等をより短時間で確実に行うことができるようにする。 - 特許庁

To reduce the size of the nozzle 6, the nozzle is preferably moved so that, in the plane view, the linear cleaning area 8 for the cleaning solution 7 passes the center of rotation and the outer edge part of the article.例文帳に追加

またノズル６を小さくする観点などから、平面視において、洗浄液７による線状の洗浄領域８が被洗浄物３の回転中心Ｏと外縁部とを通るようにノズル６を移動させるのが好ましい。 - 特許庁

The drive force control device 20 selects an operation point from a solution plane 150 as a portion of superposition between a front wheel torque rectangle 31 indicating a torque range of front wheels and a rear wheel reflecting rectangle 30a indicating a torque range of rear wheels.例文帳に追加

駆動力制御装置２０は、前輪のトルク範囲を示す前輪トルク四角形３１と、後輪のトルク範囲を示す後輪反映四角形３０ａとの重畳部である解平面１５０から動作点を選択する。 - 特許庁

In arranging an absorption body of the electrolyte solution around a protrusion 13 consisting of a positive electrode protruded at a bottom face of the battery, a cutting plane is formed on the absorption sheet 51 with a plurality of notches or punchings to increase a surface area.例文帳に追加

電池２の底面に突出している正極から成る突起１３の周囲に電解液の吸収体を配置する際、吸収シート５１に複数の切れ込みや打ち抜きによって切断面を形成し、表面積を増加させておく。 - 特許庁

A relative height position value between a focal point of a microscope and the sample solution is successively varied, and plane images are photographed through the microscope at respective relative height positions, and areas of specific polymer crystals are computed from their plane images at the relative height positions respectively, and the relative height position value is calculated in such a condition that its corresponding area represents the minimum value.例文帳に追加

顕微鏡の焦点と試料溶液との間の相対高さ位置を逐次変更し、各相対高さ位置において顕微鏡をとおして得られる平面画像を撮像するとともに、各高さ位置における特定高分子結晶の平面画像からそれぞれの面積を算出し、この面積が最小となるときの前記相対高さ位置を算出する。 - 特許庁

This method for preparing the alkali cellulose is provided by comprising a contact-filtration process of performing a vacuum filtration while bringing pulp in contact with an alkali metal hydroxide solution on a moving filtering plane and collecting a contact product remaining on the filtering plane, and a draining step of draining the obtained contact product, and the method for preparing cellulose ether by using the alkali cellulose is provided.例文帳に追加

移動する濾過面上でパルプとアルカリ金属水酸化物溶液を接触させながら真空濾過を行い、濾過面上に残った接触物を取り出す接触濾過工程と、得られた接触物を脱液する脱液工程とを含むアルカリセルロースの製造方法、及びこのアルカリセルロースを用いるセルロースエーテルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The porous silica film is formed by drying a solution after forming a silica precursor by adding a surfactant to a composition obtained by making tetramethyl alt silicate and methyl triethoxysilane melt and react to a solvent made of water and alcohol and applying the solution wherein the silica precursor is melted into the solvent to the other primary plane of the transparent substrate.例文帳に追加

多孔質シリカ膜３は、テトラメチルオルトシリケートとメチルトリエトキシシランとを水とアルコールとからなる溶媒に溶かして反応させることにより得られる組成物に界面活性剤を加えてシリカ前駆体を形成し、このシリカ前駆体を溶媒に溶かした溶液を透明基板の他方の主面に塗布した後、この溶液を乾燥させることにより形成する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus for supplying process solution on a substrate surface by conveying the substrate in the horizontal direction, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit for attaching the substrate to the bottom plane, a shower unit for supplying the process solution, being located downward being spaced with the substrate at a predetermined interval, and a conveyer unit conveying the substrate support unit in the horizontal direction.例文帳に追加

基板を水平方向に搬送して基板の表面に処理液を供給する基板処理装置において、基板を底面に付着する基板支持ユニット、基板と所定の間隔で離隔して下部に位置し、処理液を供給するシャワーユニット、基板支持ユニットを水平方向に搬送する搬送ユニットを含む基板処理装置。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metal and a polishing method using the same, capable of controlling the generation of a localized corrosion on the surface of a conductive film and rapidly polishing the conductive film, and further improving the flatness of the polished plane with low dishing.例文帳に追加

導体膜表面の局所的な腐食の発生を抑制し、かつ、迅速な導体膜の研磨速度が得られ、さらにディッシングが少なく、被研磨面の平坦性を向上させることが可能な金属用研磨液、及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

Further, in the process for growing the group III nitride crystal 20, the ground substrate 10 is arranged so that the inclination angle ϕ of the main plane 10m of the ground substrate 10 to the surface 17m of the solution 17 satisfies following relation: θ≤ϕ≤θ+26.5°.例文帳に追加

また、ＩＩＩ族窒化物結晶２０を成長させる工程において、溶液１７の表面１７ｍに対する下地基板１０の主面１０ｍの傾斜角φがθ≦φ≦θ＋２６．５°の範囲となるように下地基板１０が配置されている。 - 特許庁

The method of manufacturing has a process to form a foregoing hole by diagonally radiating a laser beam on a crystalline substrate composed of a silicon substrate whose plane direction is a (100) surface; and process to form a through-hole by performing anisotropic etching by a KOH solution of water or an organic alkali etching liquid to expand the foregoing hole.例文帳に追加

面方位が（１００）面のシリコン基板からなる結晶性基板にレーザ光を斜めに照射して先行穴を形成する工程と、ＫＯＨ水溶液又は有機アルカリエッチング液による異方性エッチングを行って前記先行穴を拡大してスルーホールを形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide small plane stack structure capable of suppressing internal pressure variation and internal pressure increase by exhausting CO_2 gas 14 in the methanol aqueous solution fuel 15 generating in proportion to the power generation current of an active direct methanol polymer electrolyte fuel cell (DMFC).例文帳に追加

能動型ダイレクトメタノール固体高分子電解質型燃料電池（ＤＭＦＣ）の発電電流に比例して発生するメタノール水溶液燃料１５中のＣＯ_2ガス１４を排出することで、内圧変動おおび内圧上昇を抑制できる小型の平面スタック構造を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method includes: a step for forming a piezoelectric precursor film by using a precursor solution containing a metal compound containing Bi, Fe, Mn, Ba and Ti; and a step for obtaining the piezoelectric film preferentially oriented with a (110) plane by heating the piezoelectric precursor film to crystallize it.例文帳に追加

Ｂｉ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｂａ及びＴｉを含有する金属化合物を含む前駆体溶液により圧電体前駆体膜を形成する工程と、前記圧電体前駆体膜を加熱して結晶化することにより（１１０）面に優先配向した圧電体膜を得る工程とを有する。 - 特許庁

The method of producing group 13 metal nitride crystal comprises a process of growing the group 13 metal nitride crystal on a seed in a solution including nitrogen element and the group 13 metal element in a molten salt, wherein a principal plane of the seed is a semipolar surface.例文帳に追加

溶融塩中に窒素元素と第１３族金属元素とを含む溶液において、シード上に第１３族金属窒化物結晶を成長させる第１３族金属窒化物結晶の製造方法であって、該シードの主面が半極性面である第１３族金属窒化物結晶の製造方法。 - 特許庁

As another solution, a projecting part 8 is provided on the supporting member 6 to prevent the engagement of the disk 1 inclined at a play position with a driving gear 4, and thereby the peripheral part of the disk 1 moving along the inclined plane 8a of the projecting part 8 can smoothly enter in the pulley groove 3a.例文帳に追加

また、他の解決手段として、前記支持部材６にプレイ位置で傾いたディスク１と駆動歯車４との係合が阻止できる突起部８を設け、この突起部８の傾斜面８ａに沿って移動する該ディスク１の周縁部が円滑にプーリ溝３ａ内へ入り込めるようにした。 - 特許庁

To provide a color developing solution for a silver halide color sensitive material whose resistance to the variation of the concentration in the plane caused by unevenness in development is suppressed in development treatment for a large-sized silver halide color sensitive material, and also to provide a method for processing a silver halide color sensitive material.例文帳に追加

本発明の目的は、大判サイズのハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理において、現像ムラに起因する面内濃度ばらつき耐性が改良されたハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液とハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To more increase the plane uniformity in the film thickness of a plated film by more uniformly controlling the flow of a plating solution in a plating tank, and to securely perform the embedding or the like of the plated film in a shorter time by optimizing the plating speed and/or plating condition.例文帳に追加

めっき槽内のめっき液の流れをより均一に調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高め、しかも、めっき速度及び／またはめっき状態を最適化して、めっき膜の埋込み等をより短時間で確実に行うことができるようにする。 - 特許庁