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process averageの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 407件
The ceramic sphere having average sphericity of ≤1.05 and the sphericity standard deviation of ≤0.04 is obtained by a method including a process for mixing ceramic powder with a granulating agent to prepare slurry, a process spraying the slurry into a heating space to form a formed sphere having ≤2 wt.% granulating agent content and a process for sintering the formed sphere.例文帳に追加
真球度の平均値が1.05以下であり、かつ、真球度の標準偏差が0.04以下であるセラミックス球体を、セラミックス粉末と造粒剤とを混合してスラリーを調製する工程と、そのスラリーを加熱空間に噴霧して造粒剤の含有率が2重量%以下の成形球体を得る工程と、その成形球体を焼結する工程とを含む方法によって得る。 - 特許庁
This method of making cheese emulsified product composed of polyglycerol fatty acid ester, fresh cheese and water, includes: a first process of dispersing polyglycerol fatty acid in water and dispersing the water to form vesicle having the average particle size of 10-600 nm; and a second process of adding fresh cheese to the polyglycerol fatty acid ester dispersed aqueous solution prepared by the first process and emulsifying the same.例文帳に追加
ポリグリセリン脂肪酸エステル、フレッシュチーズ及び水から構成され、ポリグリセリン脂肪酸エステルを水に分散させ平均粒子径10〜600nmのベシクルを形成させるよう水に分散させる第一工程と前記第一工程によって調製されたポリグリセリン脂肪酸エステル分散水溶液にフレッシュチーズを添加し乳化する第二工程から調製することで上記課題を解決する。 - 特許庁
A manufacturing method of the grindstone comprises a preparing process of preparing a dispersion liquid in which abrasive grains and a binder containing resin particles having a mass average particle size of 0.4-3.0 μm are dispersed, a flocculating process of obtaining a grindstone precursor by flocculating the abrasive grains and the resin particles of the dispersion liquid, and a heating process of heating the grindstone precursor.例文帳に追加
本発明の砥石の製造方法は、砥粒と、質量平均粒子径0.4〜3.0μmの樹脂粒子を含む結合剤とを分散した分散液を調製する調製工程と、前記分散液の前記砥粒と前記樹脂粒子とを凝集させて砥石前駆体を得る凝集工程と、前記砥石前駆体を加熱する加熱工程と、を有することよりなる。 - 特許庁
A method for manufacturing the think steel plate, having an average grain size of 10 μm or less, for shadow masks or aperture grills adjusted to the final wall thickness in the cold rolling process and after introducing a combination of individual cold rolling whose mutual rolling directions are different more than 30 degrees in the cold rolling process, an annealing process follows.例文帳に追加
冷間圧延工程にて最終板厚に調整されるシャドウマスク用あるいはアパーチャグリル用薄板の製造方法であって、その冷間圧延工程の中には、お互いの圧延方向が30°以上の関係となる個々の冷間圧延の組合わせを導入し、その後に焼鈍を行なう、平均結晶粒径が10μm以下の薄板の製造方法である。 - 特許庁
The method includes a process of developing an electrostatic latent image on an image carrier 1 with a developer containing toner, and a process of cleaning the toner on the image carrier 1 by using a cleaning blade 80, wherein a toner having a smaller weight average particle size than that of the toner included in the initial developer is used as a replenishing toner in the developing process.例文帳に追加
少なくとも、像担持体1上の静電潜像をトナーを含む現像剤で現像する工程、 該像担持体1上のトナーをクリーニングブレード80を用いてクリーニングする工程を含む画像形成方法において、前記現像工程では、初期現像剤に含まれるトナーよりも重量平均粒径が小さいトナーを補給用トナーとして用いる画像形成方法である。 - 特許庁
The manufacturing method of epoxy resin tablets for semiconductor sealing includes a process of obtaining a molding 2 by making a tablet of an epoxy resin composition for semiconductor sealing, and a process of forming a surface coating 3 of 5 to 50 μm in average thickness on a surface of the molding using polyethylene wax.例文帳に追加
半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形して成形体2を得る工程と、前記成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティング3を行う工程とを有する半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer having average layer thickness of not less than 7 nm and less than 45 nm on a base substrate; and a nitriding process for nitriding the chromium layer at not less than 1,000°C temperature for forming a chromium nitride film.例文帳に追加
本発明の第1側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を7nm以上45nm未満の平均層厚で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を1000℃以上の温度で窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The method for producing a resin composition comprises (a) a process for obtaining slurry that is obtained by mixing a filler with a solvent and has ≤0.4μm average particle diameter of the dispersed filler and (b) a process for mixing the slurry with a base resin substantially without volatilizing the solvent in the slurry.例文帳に追加
充填剤を溶媒とともに混合することにより分散された充填剤の平均粒子径が0.4μm以下のスラリーを得る工程(ア)と、前記スラリー中の溶媒を実質的に揮発することなく、前記スラリーをベース樹脂と混合する工程(イ)により製造することを特徴とする樹脂組成物の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing copper fine particles which are free from harmful alkali metal elements and halogen elements and have ≤50 nm average particle size, extremely high particle size uniformity and excellent dispersibility and oxidation resistance by applying a polyol process as a liquid phase process suitable for mass production and also to provide a dispersion liquid containing the copper fine particles.例文帳に追加
大量生産に適した液相法であるポリオール法を応用し、有害なアルカリ金属元素やハロゲン元素を含まず、平均粒径50nm以下で、粒径の均一性が極めて高く、分散性及び耐酸化性に優れた銅微粒子の製造方法、及びその銅微粒子を含む分散液を提供する。 - 特許庁
A particle image analyzing method comprises a process of calculating an average value Ip in the luminance of a pixel for indicating the particle image and an average value Ib in the luminance of a pixel for indicating a background image, by using image data comprising the particle image and the background image, and obtaining the extinction rate α in the particle image on the basis of the calculated Ip and Ib.例文帳に追加
粒子画像とその背景画像からなる画像データを用いて、粒子画像を表す画素の輝度の平均値Ipと、背景画像を表す画素の輝度の平均値Ibとを算出し、算出したIpとIbに基づいて粒子画像の減光率αを求める工程からなることを特徴とする粒子画像分析方法。 - 特許庁
In an output-current detection circuit, an A/D converter 3 converts a three-phase current detection signal containing a PWM ripple component to a digital signal, a converter 10 performs rotating coordinate conversion on the digital signal, and a moving average circuit 14 performes on the signal with a moving average process to detect a signal in which the PWM ripple component is suppressed.例文帳に追加
出力電流の検出回路は、PWMリプル成分を含む3相電流検出信号をA/D変換器3でディジタル信号に変換し、さらに、ディジタル信号を変換器10で回転座標変換した後に、移動平均回路14による移動平均処理によってPWMリプル成分を抑制した検出をする。 - 特許庁
Then, a second coating liquid essentially including an organic silicon compound where hollow silica fine particles having an average particle size not less than an average particle size of the tin oxide composite fine particles are dispersed, is applied onto the first high-refractive index layer by spin coating process, and a low-refractive index layer is formed on the high-refractive index layer by heat treatment.例文帳に追加
次いで第1の高屈折率層上に酸化スズ系複合微粒子の平均粒径よりも小さくない平均粒径の中空シリカ微粒子を分散させた有機ケイ素化合物を主成分とする第2の塗布液をスピンコ−ト法にて塗布し加熱処理をして前記高屈折率層の上層に低屈折率層を形成する。 - 特許庁
To produce a lopopolymer in which the dispersion degrees (Mw/Mn, Mw denotes the weight average molecular weight and Mn denotes the number average molecular weight) of a polymer therein lie in specified ranges without undergoing an complicated process, and further, to provide a structure similar to a biomembrane obtained by forming the lipopolymer on a metal substrate as a component molecular via an active group located at the terminal of the lipopolymer.例文帳に追加
リポポリマーのポリマーとして、分散度(Mw/Mn、Mwは重量平均分子量、Mnは数平均分子量を表す)が特定の範囲にあり、リポポリマーについて煩雑な工程を経ることなく製造することができ、又、リポポリマーの末端に位置する活性基を介して、このリポポリマーを構成分子として金基板上に構築する生体膜類似構造体の提供。 - 特許庁
The process cartridge is provided with the developing means in which the lubricating particles with weight average particle diameter that is ≤ 10μm and the average roundness is ≥ 0.9 is provided in a contact part in a state in which the developer does not exist in the contact part between the developer carrier and the developer restricting member before the initial use of a developing means.例文帳に追加
現像手段初期使用以前の現像剤担持体と現像剤規制部材との接触部に現像剤が存在しない状態において、接触部に、重量平均粒径が10μm以下であり、平均円形度が0.9以上である略球形の潤滑粒子が存在する現像手段を具備したプロセスカートリッジとする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing inorganic spheroidized particles by which an average particle diameter of raw material powder is less changeable in a process of granulation and spheroidized particles having a target particle size distribution are obtained by one burner.例文帳に追加
原料粉体の平均粒径が粒状化の過程において変動することが少なく、目的とする粒度分布を有する球状化粒子を1つのバーナにより得られる無機質球状化粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
A calculator for controlling a coke process receives the average value of particle sizes or the predetermined range of a particle size and operates the numbers of rotations of the respective crushers so as to allow the received value with a target value to apply the same to an indication adjustment controller.例文帳に追加
コークスプロセス制御用計算機は、この粒度の平均値、又は所定範囲の粒径の比率を受け取り、これを目標値に一致させるようにするための各クラッシャーの回転数を演算し、指示調節コントローラに与える。 - 特許庁
(process 3) to form repaired layer 11 by adding the mortar composition mixed with the glass waste to layer 9 at an average of 30 mm in thickness for leveling surface 3 and improving the durability of waterway 1.例文帳に追加
(工程3)インバート面3の平滑化、導水路1の耐久性の向上のために、接着増強層9の表面に、碍子屑等を混入したモルタル組成物を、平均30mmの厚さで塗布して、補修層11を形成する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which the application quantity of a lubricant on each latent image carrier can be made optimum so as to retain good cleaning performance even if a nearly spherical toner having high average circularity is used, and to provide a process cartridge.例文帳に追加
平均円形度の高い略球形状のトナーを用いても、良好なクリーニング性を保つために、潜像担持体への潤滑剤の塗布量を最適化することができる画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a method for preparing a particulate aluminum hydroxide with a low soda content, whereby the particulate aluminum hydroxide having a low total soda content (T-Na_2O) and a sufficiently small average particle size can be efficiently prepared by the Bayer process.例文帳に追加
バイヤー法により全ソーダ分(T-Na_2O)含有量が低くて平均粒子径が十分に小さい低ソーダ微粒水酸化アルミニウムを効率良く安価に製造することができる低ソーダ微粒水酸化アルミニウムの製造方法を提供する。 - 特許庁
The composition comprises (A) 100 parts by weight of a thermoplastic resin and (B) at least 1 part by weight of an interactive diorganopolysiloxane process aid, wherein the diorganopolysiloxane has a number average molecular weight of at least 10,000.例文帳に追加
次の(A)及び(B)を含む組成物: (A)100重量部の熱可塑性樹脂;及び (B)少なくとも1重量部の相互作用性ジオルガノポリシロキサン加工助剤であって、数平均分子量が少なくとも10,000であるもの。 - 特許庁
An image forming layer containing a photothermal conversion agent is formed on a metal support which is subjected to at least, an electrolytic surface roughening process and also is anodized at 10 A/dm2-60 A/dm2 average current density.例文帳に追加
少なくとも電解粗面化処理され、且つ平均電流密度10A/dm^^2〜60A/dm^2で陽極酸化処理された金属支持体上に、光熱変換剤を含有する画像形成層を有することを特徴とする。 - 特許庁
Also in the process the counter value of the NVRAM 17 is incremented every predetermined period (five minutes) and the previous operation time Tb is calculated on the basis of the counter value during the next start; the average operation time is updated accordingly.例文帳に追加
また、当該処理では、所定時間(5分)毎に、NVRAM17におけるカウンタ値をカウントアップし、このカウンタ値に基づいて、次回の起動時に、前回稼動時間Tbを算出し、これに基づいて平均稼動時間を更新する。 - 特許庁
However, in a first detection process, the bending of the terminal T in the thickness direction is detected based on the average variable density value of the terminal T after correction, thereby detecting the bending of the terminal T without being affected by the shadow N.例文帳に追加
しかして、第1検出過程では、補正後の端子Tの平均濃淡値に基づいて端子Tの厚み方向の曲がりを検出することにより、影Nの影響を受けることなく端子Tの曲がりを検出することができる。 - 特許庁
In a prescribed area of the inorganic layer, the average change rate of the contact angle to water for 90 minutes immediately after the surface-treatment process is 0.04 degree or less per minute, and the first solution is applied on the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加
無機層の所定の領域は、表面処理工程直後90分間における水に対する接触角の平均変化率が1分当たり0.04°以下であり、第1溶液は無機層の所定の領域上に付与される。 - 特許庁
To provide a hexagonal ferrite particle powder, which has an average plate surface diameter of above 20.5 nm and at most 30 nm and is obtained by using hydrothermal synthesis process with excellent productivity in industry.例文帳に追加
本発明は、六方晶フェライト粒子粉末に関するものであり、平均板面径が20.5nmを超えて30nm以下である六方晶フェライト粒子粉末を工業的な生産性に優れた水熱合成法によって得るものである。 - 特許庁
A thermosensitive coating material produced by a multilayer simultaneous coating process, is characterized in that the average diameter of moisture evaporation pores of its outermost coating surface the moisture evaporation pores is 1.5 μm or less.例文帳に追加
多層同時塗布法により製造される感熱塗膜材料であって、その最上層塗膜表面の水分蒸発孔の平均直径が1.5μm以下であることを特徴とする塗膜材料であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an agitation method capable of securing the agitation conditions in a preliminary polymerization process for obtaining the required average rubber particle size in final high impact resistance polystyrene resin and suppressing the occurrence of gelatinous material formed by polymerization of monomer components.例文帳に追加
最終的な耐衝撃性ポリスチレン系樹脂中における所望の平均ゴム粒子径を得るために、予備重合工程における撹拌条件を確保するとともにモノマー成分が重合したゲル状物の発生を抑制する。 - 特許庁
To provide a method, which includes a process for subjecting an organic fine particle dispersion liquid containing a high molecular compound to heating treatment when the dispersion liquid flows through a flow passage, for producing an organic fine particle dispersion with a volume average particle size Mv of 10-100 nm.例文帳に追加
高分子化合物を含む有機微粒子分散液を、流路内流通時に加熱処理する工程を含む、体積平均粒径(Mv)が10nm以上100nm以下の有機微粒子の分散物の製造方法。 - 特許庁
A dry etching step of a phase shifter film in a phase shift mask essentially comprises predicting an etching rate in the next process substrate by using a correlation between an average phase difference in a plasma current-voltage and the etching rate of the phase shifter film observed during the etching process and using changes in the phase difference output with time, and then setting an optimum etching time to carry out the etching process.例文帳に追加
位相シフトマスクに於ける位相シフター膜のドライエッチング工程に於いて、エッチング処理中に観測されるプラズマ電流−電圧間の位相差の平均値と位相シフター膜のエッチング速度の相関関係と位相差出力の経時変化とを用いて次回処理基板に於けるエッチング速度を予測し、然る後、最適エッチング時間を設定してエッチング処理を行なう過程が含まれてなることを基本とする。 - 特許庁
This forming method of the fluorescent face includes a process of forming the filming coat by spraying a water soluble polymer having a weight average molecule weight of 500 to 100,000 and a water containing filming composition on the surface of a phosphor layer, a process of forming the metal back film on the surface of the filming coat, and a process of decomposing and removing the filming coat by the heat treatment.例文帳に追加
500〜100,000の重量平均分子量を有する水溶性ポリマー及び水を含むフィルミング組成物を蛍光体層の表面に噴霧することによってフィルミング膜を形成する工程と、前記フィルミング膜の表面にメタルバック膜を形成する工程と、熱処理によって前記フィルミング膜を分解除去する工程とを含むことを特徴とする蛍光面の形成方法。 - 特許庁
To provide a device allowing technical personnel having gone through average training and having average ability to prepare a defect-free specimen by remarkably enlarging specimen preparing speed to improve the quality of an instantaneous immobilized structure specimen to be tested, improving the reliability and reproducibility of specimen preparation, and facilitating operational technical process during specimen preparation.例文帳に追加
試料調製速度を著しく大きくして被検対象の瞬間構造固定試料の質を改善することを可能にし、試料調製の確実性と再現性を改善し、かつ試料調製の際の操作技術的経過を容易にして平均的な訓練を受けかつ平均的な才能を有する技術員でも欠陥のない試料を調製する装置を提供する。 - 特許庁
This catalyst layer for the fuel cell is provided with a composite catalyst particle obtained by at least compounding platinum and a gold fine particle having an average particle diameter of 10 nm or less, and the manufacturing method of the catalyst layer for the fuel cell is provided with a process to apply a potential cycle to the gold fine particle having the average particle diameter of 10 nm or less while immersing it in an platinum containing solution.例文帳に追加
白金と、平均粒径10nm以下の金微粒子と、を少なくとも複合化した複合触媒粒子を備える、燃料電池用触媒層、並びに、平均粒径10nm以下の金微粒子を白金イオン含有溶液に浸漬した状態で、前記金微粒子に電位サイクルを施す工程を備える、燃料電池用触媒層の製造方法。 - 特許庁
To provide a method which can surely and stably obtain an Al alloy sheet for molding superior in deep drawability by an industrial scale manufacture, as a process of enhancing deep drawability, and enhancing the average r value of the Al-Mg-Si-based alloy, by controlling a texture by applying a differential speed rolling in a rolling process.例文帳に追加
異周速圧延を適用して集合組織制御を行なって、Al−Mg−Si系合金の平均r値を向上させ、深絞り性を向上させるプロセスとして、工業的な量産規模での製造により確実かつ安定して深絞り性が優れた成形加工用Al合金板を得ることができる方法を提供する。 - 特許庁
The cleaning liquid for a semiconductor device substrate is provided which is used after a chemical mechanical polishing process in a semiconductor device manufacturing process and contains a nonionic surfactant represented by general formula (I), an organic acid and polyethylene glycol with a number average molecular weight of 5,000 or less, and has a pH of 5 or lower, and a cleaning method using the cleaning liquid.例文帳に追加
半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式(I)で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量5000以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、pHが5以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。 - 特許庁
A cellulose acylate film is produced by a method involving a casting process by which a cellulose acylate composition comprising a cellulose acylate, a monofunctional polyester macromonomer (M) having a functional group at either end of the principle polymer chain and a weight average molecular weight of ≤2×10^4, a polymerizable monomer (A) and a photopolymerization initiator (L) is cast, and a photoirradiation process.例文帳に追加
セルロースアシレート、重合体主鎖の片末端に重合性基を有し、かつ重量平均分子量2×10^4以下の一官能性ポリエステルマクロモノマー(M)、重合性モノマー(A)、及び光重合開始剤(L)を含有するセルロースアシレート組成物を流延する流延工程と光照射の工程と含む工程により、セルロースアシレートフィルムを製造する。 - 特許庁
The process A is a process for depositing the salt containing chloride ions on the metal material surface, while bringing an average particle size of a saline containing the chloride ions deposited onto the metal material into 1-500 μm, while bringing a salt deposition amount into 0.1-10,000 mg/m^2, and while making a time for depositing the salt containing the chloride ions within 10 minutes.例文帳に追加
工程(A):金属材料に付着した、塩化物イオンを含む塩水の平均粒径が1〜500μm、且つ塩分付着量が0.1〜10000mg/m^2であり、塩化物イオンを含む塩分を付着させる時間を10分間以内として金属材料の表面に塩化物イオンを含む塩分を付着させる工程。 - 特許庁
The method for transferring the brand of the propylene block copolymer in the polymerization process is characterized by calculating the incomes and expenses of materials by using the average value of the operation data of the polymerization process, obtaining the polymer composition value of the propylene block copolymer as the calculation result, and determining the brand transfer completion time by using the polymer composition value on the transfer of the brand.例文帳に追加
プロピレンブロック共重合体の銘柄移行方法であって、重合プロセスの運転データの平均値を用いて物質収支の計算を行い、該計算結果としてプロピレンブロック共重合体のポリマー組成値を得、銘柄移行時に該ポリマー組成値をもって、銘柄移行完了時点を判断する重合プロセスの銘柄移行方法。 - 特許庁
The substantially spherical nickel-cobalt compound hydroxide having an average particle size of 15-50 μm is obtained by the manufacturing method including a reaction process of obtaining nickel-cobalt hydroxide primary reaction particles in a reaction tank, and a growth process of obtaining nickel-cobalt composite hydroxide particles by further reacting the primary reaction particles in a growth tank.例文帳に追加
反応槽中でニッケル−コバルト水酸化物一次反応粒子を得る反応工程、成長槽中で該一次反応粒子を更に反応させることにより、ニッケル−コバルト複合水酸化物粒子を得る成長工程を含む製造方法により、略球状で平均粒径15〜50μmであるニッケル−コバルト複合水酸化物を得る。 - 特許庁
To provide a method for producing a BaTiO3 dielectric substance having a high dielectric constant and a low dielectric loss by decreasing the average particle size of BaTiO3 through a pretreatment in a reducing atmosphere before a sintering process in a dielectric substance production process in this method for producing the BaTiO3 dielectric substance having the high dielectric constant and a low dielectric loss.例文帳に追加
高い誘電常数と低い誘電損失を有するBaTiO_3誘電体の製造方法に関するものであり、誘電体製造工程中に焼結工程前に還元性雰囲気で前熱処理を通じてBaTiO_3の平均粒子大きさを小さくすることで高い誘電常数と低い誘電損失を有するBaTiO_3誘電体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
This production process comprises: mixing powdery SiC having a ≤2 μm average grain size with a sintering aid to obtain a mixture; forming the mixture into a green body; and heating and sintering the green body in an inert atmosphere containing 30-90 vol.% gaseous nitrogeg at 2,100-2,300°C.例文帳に追加
平均粒径2μm以下のSiC粉末と焼結助剤との混合物を成形して成形体とし、該成形体を、30〜90体積%の窒素ガスを含む不活性雰囲気中で2100〜2300℃の温度に加熱、焼結する。 - 特許庁
This method for producing the ice cream comprises a step of performing the homogenization treatment of an ice cream mix at a homogeneous pressure of 500 to 800 kg/cm2 to obtain an average fat particle diameter of 0.3 to 0.6 μm and a process for extruding the ice cream mix from a freezer at -3.0 to -5.0°C.例文帳に追加
アイスクリームミックスの均質処理を均質圧力500〜800kg/cm^2 で行って平均脂肪粒子径を0.3〜0.6μmとなるようにし、フリーザーからアイスクリームミックスを−3.0〜−5.0℃で排出することにより得る。 - 特許庁
A frequency analysis process 32 outputs single sound maximum value spectrum data 12, and outputs a plurality of music average value spectrum data 13 calculated based upon some music frames of a music frame group 11 positioned nearby for each frame.例文帳に追加
周波数解析処理32は、単一の音声最大値スペクトルデータ12を出力し、フレームごとに、近傍に位置する音楽フレーム群11の一部の音楽フレームに基づいて算出される複数の音楽平均値スペクトルデータ13を出力する。 - 特許庁
To provide a method for producing electrostatic charge image developing toners by a suspension polymerization process where toners in which the by-production of particulates with small particle size is suppressed, and having a high mean average circularity, a narrow particle size distribution and excellent printing performance can be obtained at high productive efficiency.例文帳に追加
懸濁重合法によりトナーを製造する際に、小粒径微粒子の副生を抑制し、生産効率が良く、且つ平均円形度が高く、粒径分布が狭い印字性能に優れた静電荷像現像用トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁
The controller 72 controls the power fed to the drive motor 68 by the inverter circuit 720 so as to provide the rotary drum with the motor torque same as the sum of the added torque according to the estimating position and the target average torque during executing a dewatering process.例文帳に追加
制御装置72は、脱水工程の実施中に、推定位置に応じた追加トルクと目標平均トルクとの和に等しいモータトルクを回転ドラムに与えるように、インバータ回路720が駆動モータ68に供給する電力を制御する。 - 特許庁
This printed wiring board boring method having a process for boring a hole on a printed wiring board by a drill through a surface of the aluminum or an aluminum alloy having the average surface roughness of 0.01 to 0.07 μm.例文帳に追加
また、平均表面粗さ(Ra)が0.01〜0.07μmであるアルミニウムまたはアルミニウム合金の表面を介して、ドリルによりプリント配線板に穴をあける工程を有することを特徴とするプリント配線板の穴あけ加工方法である。 - 特許庁
The permeability of the elastic film 11 to the side of an inner surface 12b from the side of the outer surface 12a each of the knitted glove is adjusted to 20-95 % in average based on the thickness T_12 of the knitted glove 12 in a process of forming the film 11.例文帳に追加
当該被膜11の形成時において、編手袋の外表面12a側から内表面12b側への弾性体皮膜11の浸透率が、編手袋12の厚みT_12に対して平均で20〜95%となるように調節する。 - 特許庁
Then it is determined whether a counter of frame No. shows an upper limit value (step S15), if the counter does not show the upper limit value, the process is returned to a step S8, and the average value of vehicle speed is calculated, if the counter of frame No. shows the upper limit value (step S16).例文帳に追加
次に、フレーム番号のカウンタが上限値であるか否かを判定し(ステップS15)、カウンタが上限値でない場合には、ステップS8に戻り、カウンタが上限値である場合には、車両の速度の平均値を計算する(ステップS16)。 - 特許庁
In the electrostatic charge image developing toner comprising at least a bonding resin and a colorant, the colorant consists of colored particles having 10-100 nm average particle diameter obtained by physically bonding a pigment to the surfaces of silica particles by a mechanochemical process.例文帳に追加
少なくとも結着樹脂、着色剤を含有する静電荷像現像用トナーにおいて、着色剤がシリカ粒子表面にメカノケミカル法により顔料を物理的に結合させた平均粒径10〜100nmの着色粒子である。 - 特許庁
A process for producing the catalyst for nitrogen oxide removal comprises: drying a mixture slurry that contains a metal source, a zeolite, and metal oxide particles having an average particle diameter of 0.1-10 μm and/or an inorganic binder; and burning the obtained dry powder.例文帳に追加
金属源、ゼオライト、並びに平均粒子径0.1〜10μmの金属酸化物粒子及び/又は無機バインダーを含む混合スラリーを乾燥させ、得られた乾燥粉体を焼成することによりこの窒素酸化物浄化用触媒を製造する方法。 - 特許庁
To provide a process for producing methyl methacrylate based resin foams which can expect reduction in industrial equipment cost and operation cost and, simultaneously, can obtain methyl methacrylate based resin foams having fine foamed cells with an average cell diameter of not greater than 1 μm.例文帳に追加
工業的に設備コスト、操業コストの低減が望め、かつセルサイズが平均径1μm以下の微細な発泡セルを有するメタクリル酸メチル系樹脂発泡体を得ることのできるメタクリル酸メチル系樹脂発泡体の製造方法を提供する。 - 特許庁
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