「substrate temperature effect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Though the laminated substrate is flat at normal temperature, when the laminated substrate is heated by the heat of radiation at the vapor deposition, a center portion thereof is deflected upwardly due to the bimorph effect of the laminated substrate 30C.例文帳に追加

常温ではフラットであるが、蒸着時の輻射熱により加熱されると、積層基板３０Ｃのバイモルフ効果により中央部分が上方に撓む。 - 特許庁

An electroconductive substrate for fixing the ion responsive film is provided on the field-effect transistor in a detachable manner and in a state with the electroconductive substrate being separated from the field-effect transistor, a responsive film material is applied to the electroconductive substrate and the whole is subjected to high-temperature baking treatment.例文帳に追加

イオン感応膜を固定する導電性基板を電界効果トランジスタと装脱着可能にし、電界効果トランジスタから切り離された状態で、導電性基板に感応膜材料を塗布し、高温焼付処理を行う。 - 特許庁

To provide a composite substrate which can be manufactured at a relatively low cost while exhibiting high improvement effect of temperature characteristics, and in which combination of a piezoelectric substrate and a support substrate is not limited to one set.例文帳に追加

温度特性の改善効果が高く、比較的低コストで製造可能であり、圧電基板と支持基板との組み合わせも１組に限定されない複合基板を提供する。 - 特許庁

To provide a heating apparatus, or the like, that uniformly heats the whole substrate by reducing the effect of an initial temperature distribution generated on a substrate surface, when the substrate is carried into a heating chamber.例文帳に追加

加熱室に搬入した際に基板表面に生じる初期温度分布の影響を低減して、基板全体を均一に加熱することの可能な加熱装置等を提供する。 - 特許庁

Thereby, the film-forming apparatus can form the film with little film-thickness dispersion within the face of the substrate 5 so that the discharge of the production gas 6 does not exert an effect on the temperature of substrate 5 held at a predetermined temperature.例文帳に追加

このことから、生成ガス６の吐出が所定の温度に保持された基板５の温度に影響を与えることなく、基板５面内の膜厚ばらつきの少ない成膜処理を可能とする。 - 特許庁

To provide a field-effect transistor having a structure that realizes sure and secure low-temperature operation without applying a substrate bias voltage.例文帳に追加

基板バイアス電圧を印加することなく、正確且つ確実な低温動作を実現する構成を有する電界効果トランジスタを提供する。 - 特許庁

To reduce the harmful effect of phosphorous atoms in an InP substrate being emitted from a grid site, and going into an epitaxial layer formed on the substrate when it is heated to a growth temperature.例文帳に追加

成長温度に加熱されたときに、ＩｎＰ基板中のＰ原子が格子サイトから放出され、基板上に形成されたエピタキシャル層に入る有害な効果を減少させる。 - 特許庁

The epitaxial wafer for the field effect transistor comprises an InGaN low-temperature deposit layer 5 provided on the sapphire substrate 6, and GaN field effect transistor structures 1 to 3 provided on the layer 5 via a GaN buffer layer 4.例文帳に追加

サファイア基板６上にＩｎＧａＮ低温堆積層５を設け、そのＩｎＧａＮ低温堆積層５上に、ＧａＮバッファ層４を介して、ＧａＮ系電界効果トランジスタ構造１〜３を設ける。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a circuit substrate, preventing an ion residue problem of the ion for the cleavage separation in a semiconductor circuit and eliminating an effect, such as shrinking, on the target substrate by a deionizing process under a high temperature, even if an insulating substrate such as a glass substrate, which can not withstand the high temperature, is used as a target substrate.例文帳に追加

半導体回路における、劈開分離のためのイオンのイオン残りを防止するとともに、ターゲット基板としてガラス基板等の、高温に耐えることができない絶縁基板を用いた場合でも、高温下での脱イオン処理によるシュリンク等のターゲット基板への影響を排除することができる回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite piezoelectric substrate which when it is changed in temperature, provides high temperature improvement effect and small variation in in-plane frequency temperature coefficient and which has excellently stable frequency temperature characteristic and warps little with heat.例文帳に追加

基板を温度変化させたときに、温度改善効果が高く、圧電基板において面内周波数温度係数のばらつきが小さく、周波数温度特性が優れた安定性を有するものであるとともに、熱により生じる反りが小さい複合圧電基板を提供する。 - 特許庁

To provide a treating fluid feeding device by which treating fluid can be fed to a substrate at prescribed temperature with its deterioration due to the effect of disturbance being prevented.例文帳に追加

外乱の影響による変質を防止して，所定の温度で処理流体を基板に供給できる処理流体供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide cleaning technique for cleaning a precision substrate stably with a large cleaning effect without enlargement of the apparatus or an excessive high temperature in a cleaning step for the precision substrate, such as a substrate, a mask blank, or a photo mask.例文帳に追加

サブストレート、マスクブランク、フォトマスク等の精密基板の洗浄において、装置の大型化や薬液の過度の高温化を必要とせず、洗浄効果を十分発揮して精密基板を安定して洗浄することができる洗浄技術を提供する。 - 特許庁

Thus, the cooling effect of the air current to the substrate between the time t2 and the time t5 can be reduced, and the flash irradiation can be applied in a state where the temperature gradient of the substrate surface is relieved.例文帳に追加

このため、時刻ｔ２から時刻ｔ５までの間の、基板に対する気流の冷却効果を低減させることができ、基板表面の温度勾配を緩和した状態で、閃光照射を行うことができる。 - 特許庁

To provide a difficult-to-sintering constraining green sheet having a high shrinkage suppressing effect obtained by volatilizing sufficiently a polymer binder from a constraining green sheet and a low-temperature sintered ceramic (LTCC) substrate, and provide a manufacturing method of a multilayer substrate using this green sheet.例文帳に追加

拘束用グリーンシートとＬＴＣＣ基板から、ポリマーバインダを十分に揮発させ収縮抑制効果の高い難焼結性拘束用グリーンシートとこれを用いた多層セラミック基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the stress added to the medium is balanced on both sides of the substrate 1 by a bi-metal effect and the warpage of the disk caused by changes in the environmental temperature is significantly decreased.例文帳に追加

これによりバイメタル効果によって媒体に加わる応力が基板１の両側でバランスされるので、環境温度が変化したときに発生するディスクの反りが著しく低減される。 - 特許庁

To provide a ceramic substrate for a semiconductor module excellent in a heat dissipation effect which alleviates a thermal stress to the ceramic substrate by joining at a low temperature comparatively when a metal plate is joined to the ceramic substrate and which enables to join the thick metal plate, and to provide a method of manufacturing it.例文帳に追加

セラミックス基板に金属板を接合するに際し、比較的低温で接合することでセラミックス基板への熱応力を緩和し、厚い金属板を接合できるようにして、放熱効果に優れた半導体モジュール用セラミックス回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To equalize heating temperature in the peripheral direction of a substrate to be processed, and effect uniform processing for the substrate to be processed by a method wherein, in a single wafer heater, a container housing to be processed is made to have the same degree of insertion port of the substrate as the inner peripheral face, excluding it in the degree of heat absorption.例文帳に追加

枚葉式の加熱装置において、被処理基板を収納する容器の、基板挿入口とそれを除く内周面との熱吸収度を同程度にすることによって、被処理基板の周方向での加熱温度を等しくし、被処理基板に対して均一な処理を行うこと。 - 特許庁

To provide a compound piezoelectric substrate in which warpage when temperature is changed is reduced, thermal resistance is excellent, frequency temperature characteristic improvement effect is high, which suppresses rear face reflection of bulk wave and easily combines a semiconductor device and a SAW device, at a low cost.例文帳に追加

温度変化させたときの反りが少なく、耐熱性が優れ、周波数温度特性改善効果が高く、バルク波の裏面反射を抑制でき、なおかつ半導体デバイスとＳＡＷデバイスの複合化が容易な複合圧電基板を安価に提供する。 - 特許庁

To provide a normal temperature setting hydrophilic polymer capable of keeping not only a stain prevention effect but also hydrophilicity and water resistance for a long period of time and easily forming a hydrophilic film at a normal temperature on the surface of a substrate, and its manufacturing method.例文帳に追加

長期にわたる防汚効果と同時に親水性・耐水性の維持が可能となり、基材表面に対する常温での親水性被膜の形成が容易に行える常温硬化親水性重合体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

With the starting operation, a refrigerant begins to flow into the housing of the motor driven compressor, and then a control substrate is cooled down to lower the temperature of the power transistor, and therefore, a synergistic effect is produced.例文帳に追加

起動にともなって電動圧縮機のハウジング内を冷媒が流動しはじめると、制御基板が冷却されてパワートランジスタの温度も低下するので、その効果は相乗的なものとなる。 - 特許庁

To provide an ethylenic resin for heat-sealing material of a powder packaging material having improved stability of antistatic effect with time, adhesivity to a substrate, heat-sealing strength and low-temperature sealability.例文帳に追加

粉末包装材料のヒートシール材として用いられるエチレン系樹脂において、帯電防止効果の経時安定性、基材との接着性、ヒートシール強度、低温シール性を改善した材料を提供する。 - 特許庁

To prepare an inexpensive culture substrate for algae that can feed prescribed amounts of nutrients almost without adverse effect from external conditions, for example, outside air temperature and can save the labor for nutrient feeding.例文帳に追加

外気温度等の外部条件の影響をほとんど受けることなく一定量の栄養素を供給することができ、かつ、その供給の手間がかからない安価な藻類用の培養基材を提供する。 - 特許庁

To inhibit the effect caused by the stress produced in the interface between an LOCOS oxide film and a silicon substrate during oxidization, without making oxidization temperature higher than needed during LOCOS oxide film formation.例文帳に追加

ＬＯＣＯＳ酸化膜形成時に必要以上に酸化温度を高くしなくても、酸化時にＬＯＣＯＳ酸化膜とシリコン基板との界面に生じる応力による影響を抑制できるようにする。 - 特許庁

The microcomponent, for example a microbattery, comprising a stack with at least two superposed layers on a substrate, is made using the single steel mask 6 that is able to expand under effect of a temperature.例文帳に追加

例えばマイクロバッテリであるマイクロコンポーネントは、基板上に少なくとも２つの重ねられた層を持つ積層体を有し、温度の影響下で拡張可能な単一のスチールマスク６を用いて形成される。 - 特許庁

A phase shift element 1B formed on an internal surface of the glass substrate 2 is an SnN layer, and a substance between the phase shift elements is a flattening film 3 of ≥600°C in heatproof temperature which has a low refractive index and flattening effect.例文帳に追加

ガラス基板２の内面に形成する位相シフト素子１ＢはＳｉＮ層であり、位相シフト素子間の物質としては耐熱温度が６００℃以上で、屈折率が低く、平坦化効果のある平坦化膜３とする。 - 特許庁

The thermo-element 22 is an element for performing heating or cooling by heat transfer utilizing the Peltier effect and is formed as a thin film so as to surround the periphery of the temperature measurement element 21 on the main surface of the substrate 20.例文帳に追加

また熱電素子２２は、ペルチェ効果を利用した熱移動により加熱または冷却を行う素子であり、基板２０の主面上において測温素子２１の周囲を取り囲むように薄膜形成される。 - 特許庁

To provide a glass composition which, in a field of substrate glass especially used for display, exhibits a small alkali elution amount and has a melting temperature, meltable by FL method, of 1,520°C or lower and especially low brick corrosion effect, thus being suitable for a substrate for electronic display, e.g., LCD, etc.例文帳に追加

特にディスプレイに使用されるガラス基板の分野において、アルカリ溶出量が小さく、かつＦＬ法で溶融可能な１５２０℃以下の溶融温度を持ち、レンガ浸食性が特に低いガラス組成物、すなわち例えばＬＣＤ等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物を提供する。 - 特許庁

When the temperature of the rod 21R and springs 211-214 reaches a shape restoration point, the rod 21R and springs 211-214 restore the shape before deformation through shape memory effect and thereby replacement of the substrate carrying arm AM is not required.例文帳に追加

ロッド２１Ｒとバネ２１１〜２１４との温度が形状回復温度に達すると、形状記憶効果によってロッド２１Ｒとバネ２１１〜２１４とは変形前の形状に戻るので、基板搬送アームＡＭの交換は不要になる。 - 特許庁

To provide substrate washing technique that does not require any circulation of washing liquid, improves washing effect even with a small amount of chemical and achieves treatment at a room temperature, and hence can miniaturize a device, save energy, and reduce costs.例文帳に追加

洗浄液の循環を必要とせず、少量の薬液でも洗浄効果を高めしかも室温での処理を可能ならしめ、その結果、装置の小型化と、省エネルギ化、省コスト化を可能とする基板洗浄技術を提供する。 - 特許庁

The Mach-Zehnder type modulator includes a substrate 1 having electrooptical effect, a Mach-Zehnder type light guide 2 having two interference arm light guides 23 and 23' formed on the substrate, and temperature control bodies 14, 14, 16 and 16' making temperatures of the two interference arm light guides 23 and 23' constant.例文帳に追加

電気光学効果を有する基板１と、該基板１に形成された二つの干渉腕光導波路２３、２３’をもつマッハツェンダ型光導波路２と、該二つの干渉腕光導波路２３、２３’の温度を一定にする温度制御体１４、１４、１６、１６’と、を有することを特徴とするマッハツェンダ型光変調器。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

To provide a revolution disk whetstone whose external diameter is comparatively large and its thickness is thin, and whose process accuracy is improved by minimizing a deformation of a substrate or an abrasive layer by an effect of a difference of thermal expansion by a temperature difference between the time of shipping and using.例文帳に追加

外径が比較的大きく厚さの薄い基板の回転円盤砥石において、製品出荷時と使用時の温度差による熱膨張差の影響による基板または砥粒層の変形を最小限にして加工精度の向上をはかる。 - 特許庁

To provide a small-sized piezoelectric vibration chip of a high frequency type formed by cutting a piezoelectric substrate wherein adverse effect on the performance due to a temperature characteristic dip is prevented, and to provide a manufacturing method thereof, and a piezoelectric device utilizing the piezoelectric vibration chip.例文帳に追加

圧電基板をカットして形成される小型の高周波タイプの圧電振動片であって、温度特性ディップによる性能への悪影響を防止した圧電振動片とその製造方法ならびに、これを利用した圧電デバイスを提供すること。 - 特許庁

Since the thermal influence on the component 20 having the large temperature characteristic change can be reduced by the adiabatic effect of the cavity layer 11 and the cavity layer 11 is formed by the same thickness as a frame-like wiring pattern 10, the module substrate 1 can be thinned.例文帳に追加

空洞層１１の断熱効果により温度特性変化の大きな部品２０に対する熱影響を低くできると同時に、空洞層１１は枠状の配線パターン１０と同一厚みで形成されるので、モジュール基板１を薄型化できる。 - 特許庁

The total thickness of the epitaxially grown layers is controlled to 0.3-1.0 μm by providing the low-temperature-deposited InGaN layer 5 on a sapphire substrate 6 and GaN-based field effect transistor structures 1-3 on the layer 5 through a GaN buffer layer 4.例文帳に追加

サファイア基板６上にＩｎＧａＮ低温堆積層５を設け、そのＩｎＧａＮ低温堆積層５上に、ＧａＮバッファ層４を介して、ＧａＮ系電界効果トランジスタ構造１〜３を設け、成長層の総膜厚を０．３μｍ以上１μｍ以下とする。 - 特許庁

In an element substrate 10, a conductive film 11 for detecting temperature, in which impurity is doped in a semiconductor layer formed at the same time with a semiconductor layer of field effect transistors 30, is provided, and the data conversion part 113 performs correction corresponding to resistance change of the conductive film 11 for detecting temperature, when the digital driving signal is created.例文帳に追加

素子基板１０には、電界効果型トランジスター３０の半導体層と同時に形成された半導体層に不純物をドープしてなる温度検出用導電膜１１が設けられており、データ変換部１１３は、デジタル駆動信号を生成する際に温度検出用導電膜１１の抵抗変化に対応する補正を行なう。 - 特許庁

In this method, an element exhibiting the photorefractive effect is manufactured by growing a III-V compound semiconductor thin film containing As and a group V element on a (411) A-face GaAs substrate, under such a condition where the temperature of the substrate is maintained between 300°C and 700°C, and the V/III ratio is maintained between 5 and 10 and implanting ions into the thin film.例文帳に追加

（４１１）Ａ面のＧａＡｓ基板を用い、基板温度が３００〜７００℃、Ｖ／ＩＩＩ比が５以上且つ１０以下の条件下で、Ｖ族元素がＡｓであるＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体薄膜を成長させ、そのＩＩＩ／Ｖ族化合物半導体薄膜にイオン注入を行ってフォトリフラクティブ効果を有する素子を製造する。 - 特許庁

Subsequently, second heat treatment is applied in the reducing gas atmosphere at a temperature higher than that in the preheat treatment and that does not cause an adverse effect to the impurity concentration distribution of the other element on the semiconductor substrate 1, and an oxide film on the hetero epitaxial growth surface is removed by a reduction reaction.例文帳に追加

続いて、還元性ガス雰囲気中において上記プレ加熱処理よりも高温で、かつ、半導体基板１の他の素子の不純物濃度分布に悪影響を与えない温度で第２加熱処理を施して、上記異種結晶成長面上の酸化膜を還元反応によって除去する。 - 特許庁

To prevent generation of a detection error due to an effect of temperature difference on an optical axis of an optical beam in a treatment liquid application apparatus equipped with an optical detection means for detecting an abnormal state by radiating an optical beam along the top face of a target substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板の上面に沿って光ビームを投射することで、異常状態を検出する光学的な検出手段を具備した処理液塗布装置において、光ビームの光軸上における温度差の影響を受けて検出誤差が発生するのを防止させること。 - 特許庁

To provide a light-emitting element lamp in which a temperature rise of a substrate arranged with a light-emitting element is suppressed effectively by utilizing heat radiation by a reflector and a case, and a mutual thermal effect between a lighting circuit and the light-emitting element can be reduced, and a lighting fixture.例文帳に追加

発光素子が配設された基板の温度上昇を反射体及びケースによる放熱を利用して効果的に抑制するとともに、点灯回路及び発光素子間の相互の熱的影響を軽減できる発光素子ランプ及び照明器具を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus that successively performs plasma processing on substrates while transporting many setters carrying the substrates by arranging the setters in a row, can relieve the effect of another gas flow exerted upon the blown-off flow of a process gas and, at the same time, can prevent the temperature drop of a substrate caused by intruded outside air.例文帳に追加

多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、処理ガスの吹出し流が、他のガス流の影響を受けるのを緩和するとともに外気進入により基材温度が低下するのを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

In the transmission power amplifier circuit with a temperature compensation function, power amplifier 151, 152 employing gallium arsenide field effect transistors and a preamplifier provided with a thermister temperature compensation circuit are integrated into one integrated circuit, and the power amplifiers 151, 152 and the preamplifier including the thermister temperature compensation circuit are formed on a substrate 150 of the integrated circuit in the state that ground circuits 155, 156 are independent of each other.例文帳に追加

温度補償機能付きの送信電力増幅回路１５ｂにおいて、ガリウム砒素電界効果型トランジスタを使用した電力増幅器１５１，１５２と、サーミスタ温度補償回路１５４を備えた前置増幅器１５３とを１個の集積回路に収容し、かつその際に電力増幅器１５１，１５２と、温度補償回路１５４を含む前置増幅器１５３とを、集積回路の基板１５０上においてその接地回路１５５，１５６が独立した状態で形成するようにしたものである。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition for sealing which is less in warpage at room temperature and in a soldering process by adding an effect of suppressing the warpage caused by thermal expansion difference between a semiconductor device and a substrate in the opposite direction of the warpage, and to provide an electronic component device which is sealed with the liquid resin composition, and is excellent in electric bonding reliability.例文帳に追加

封止樹脂組成物に半導体素子と基板の熱膨張差に起因する反りを反対方向に抑制する効果を付加させた、室温及び半田付け工程での反りが少ない封止用液状樹脂組成物、及びこれにより封止された電気的接合信頼性に優れた電子部品装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition exhibiting high light-blocking effect in the infrared region and high light transparency in the visible region, and being capable of forming a pattern with desired profile and excellent durability (for example, durability to high temperature/high humidity, and adherence to substrate) by alkali development.例文帳に追加

本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに、耐久性（高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など）に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To suppress the change with time of device characteristics without impairing device characteristics even when the length of a heater is made short and heating operation is performed at a temperature higher than a conventional temperature and to obtain stable performance for a long time, in an optical waveguide device wherein guided wave characteristics of optical waveguides formed on a glass substrate by an ion exchange method are reversibly and variably operated by a thermooptical effect.例文帳に追加

ガラス基板にイオン交換法で形成された光導波路の導波特性を熱光学効果により可逆的に可変操作させるようにした光導波路デバイスにおいて、ヒータ長を短くして従来よりも高温で加熱操作が行われるようになった場合でも、デバイス特性を損なうことなく、その特性の経時変化を抑え、長期にわたって安定した性能が得られるようにする。 - 特許庁