「under process」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a biscuit-like material as thinner as possible with which even in the case much air in an injection sleeve exists under some condition of molten metal pouring amount, after fully exhausting this air before filling process, and filling the molten metal.例文帳に追加

溶湯の注入量によっては、射出スリーブ内に空気が多くても、充填工程前に完全にその空気を排除した後、溶湯の充填を可能とし、可及的に薄いビスケットを形成する。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing a microprocessor adapted to process printing from being under a high-load condition in a printer that transmits or receives a logical packet to or from a client.例文帳に追加

クライアントとの間で論理パケットを送受信する印刷装置において、印刷処理に用いられるマイクロプロセッサが高負荷状態となることを抑制することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

In a process adjusting set pressure, a valve part is adjusted to set opening corresponding to a control condition and simulated suction pressure Ps is generated under the condition and is made act on a diaphragm 32.例文帳に追加

設定圧力調整工程においては、弁部を制御状態に対応する設定開度に調整する一方、その状態で吸入圧力Ｐｓを模擬的に生成してダイアフラム３２に作用させる。 - 特許庁

To provide a device for forming a highly concentrated gas hydrate which can be efficiently conveyed and stored under atmospheric pressure, contains low adherent water, and is excellent in handleability, and equipment and a process for producing it.例文帳に追加

大気圧下において輸送や貯蔵の効率が高く、ハンドリング性に優れた低付着水分である高濃度のガスハイドレートを生成する生成装置、製造装置、および製造方法を提供する。 - 特許庁

Under a state that a mask 15 is positioned on the formed alignment mark 7, an exposure process is applied to a back surface of the main substrate 1 through the mask 15 to form a pattern on the back surface of the main substrate 1.例文帳に追加

そして、形成されたアライメントマーク７とマスク１５とが位置決めされた状態で、マスク１５を介して本体基板１の裏面側に露光させ、本体基板１の裏面側にパターンを形成する。 - 特許庁

The method for producing a cosmetic comprises a process for mixing a blended raw material containing one or more kinds of oil-based components solid at 25°C under heating to give a fluid and cooling the obtained fluid.例文帳に追加

２５℃において固体の油性成分を１種以上含む配合原料を加熱下に混合させて流動体となし、得られた流動体を冷却する工程を有する化粧料の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method of evaluating lubrication performance of a lubricant for working capable of evaluating easily the lubrication performance of the lubricant under a condition near to a usual molding process, without measuring a load.例文帳に追加

潤滑剤の潤滑性能を、通常の成形工程に近い状態で、荷重を測定する必要無しに簡易に評価し得る加工用潤滑剤の潤滑性能の評価方法を提供する。 - 特許庁

The second etching process can be performed continuously, by only changing the flow rate ratio between etching gases and the etching can be performed stably under the condition that the silicon surface is not damaged.例文帳に追加

第２のエッチング処理工程は、エッチング用のガスの流量比を変えるだけで連続して行なえ、安定した条件で、シリコン面にダメージを与えない条件でエッチング処理を行なえるようになる。 - 特許庁

A storage processing section 62, a transfer processing section 63, and a print processing section 64 process files such as electronic mail and facsimile documents received by a communication processing section 61 under the control of a periodic execution section 65.例文帳に追加

通信処理部６１により受信した、電子メールやファクシミリの文書ファイルは、定期実行部６５の制御により蓄積処理部６２、転送処理部６３、印刷処理部６４で処理される。 - 特許庁

To provide an information recording device which records information to an appropriate record destination, depending on conditions under which a recording process is performed, without limiting the record destination to a designated default record destination.例文帳に追加

デフォルトで指定された記録先だけに固定されることなく、記録処理の実行条件に応じて適切な記録先へ情報を記録することが可能な情報記録装置を提供できる。 - 特許庁

The rotation rate of an inner cylinder is changed repeatedly under control to bring bubbles (a gas) and the material to be processed which is a liquid or a solid into a moderately agitated/mixed state, and the desired process efficiency can be improved.例文帳に追加

内筒回転レートを繰り返し変える制御にて、泡（気体）と他の液体または固体の被プロセス前材とが穏和な撹拌混合状態となり所望のプロセス効率が向上する。 - 特許庁

To provide a die-attach film which also functions as a dicing film and is bonded to a wafer at a normal temperature or under a mild condition in an assembling process for a semiconductor.例文帳に追加

半導体組立工程に際して、ダイアタッチフィルムとダイシングフィルムの機能を併せ持つフィルムをウエハーに常温もしくは温和な条件で貼付けを行うことの出来るダイアタッチフィルムを提供すること。 - 特許庁

A pulling up process wherein a crystal driving part is operated to dip a seed crystal in a silicon melt 3 and pull up the seed crystal in controlling the crystal driving part and a crucible driving part under specific conditions is carried out.例文帳に追加

結晶駆動部を作動させて種結晶をシリコン融液３に浸し、結晶駆動部及び坩堝駆動部を所定の条件で制御して、種結晶を引上げる引上げ工程を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming an soilproof coating film which can curtail a process by forming no intermediate coat film and improve the adhesion between an under coat film and a top coat film.例文帳に追加

中塗り塗膜を形成しないことにより、工程短縮することができ、かつ、下塗り塗膜と上塗り塗膜との密着性を向上することができる防汚塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid fuel not requiring high-temperature heat treatment in a production process, causing very little amount of smoke under burning, and efficiently radiating far infrared rays effective for the cooking of a food material.例文帳に追加

製造工程における高温加熱処理が不要であり、燃焼中の発煙が極めて少なく、食材の加熱調理に有効な遠赤外線を効率的に放射する固形燃料を提供する。 - 特許庁

To peel a semiconductor wafer from a supporting substrate easily and surely after performing working process for a backside of a wafer under a condition where the semiconductor wafer is bonded to the supporting substrate with an adhesive sheet between.例文帳に追加

支持基板に接着シートを介して半導体ウエハーを貼り付けた状態でウエハー裏面の加工処理を行った後、簡便かつ確実に支持基板から半導体ウエハーを剥離させること。 - 特許庁

The upper-layer film 114 is formed by denaturalizing the amorphous film of phosphorus-dope silicon in a thermal process, comprising a rough 116 formed under the effect of crystallinity of the rough 110 (figure 1 (b)).例文帳に追加

上層膜１１４は，熱処理によりリンドープシリコンの非晶質膜から変化したものであり，凹凸１１０（図１（ｂ））の結晶性の影響を受けて形成される凹凸１１６を有する。 - 特許庁

The work under execution at the present time in the process concerned is determined in response to an operation designated by the management bar, and an information input and output screen 12 corresponding to the determined work is displayed.例文帳に追加

このマネジメント・バーが指示される操作に応答してその工程において現在時刻で実行中の作業を決定し、決定された作業に対応する情報入出力画面１２を表示する。 - 特許庁

To obtain a method capable of decomposing dioxins under mild conditions excellent as industrial process without needs of any special reacting conditions or chemical agents.例文帳に追加

特別な反応条件あるいは特別な薬品類を使用することなくダイオキシン類を温和な条件で工業的に優れた方法で分解することが可能なダイオキシン類の分解方法の提供。 - 特許庁

On the other hand, since the feeding of the cover is performed at the same normal speed as that during bookbinding under the condition that the cover is closed even for preparatory paper feeding, in this case, the paper feeding process can be performed quickly.例文帳に追加

一方、予備給紙であってもカバーが閉じられていれば、製本時と同じ通常速度で表紙の給紙が行われるため、その場合には給紙処理を迅速に行うことができる。 - 特許庁

To develop a method for producing a group II-VI compound semiconductor having twin crystal structure under milder reaction conditions rather than a hydrothermal synthesis process which is conducted at high temperatures and high pressures.例文帳に追加

高温・高圧条件下で実施される水熱合成法ではなく、より穏和な反応条件の下で、双晶構造を有するII-VI族化合物半導体を製造する方法を開発すること。 - 特許庁

To obtain the subject compound through a simplified process under mild conditions with slight impurities and in high yield by reaction between an epoxy compound and carbon disulfide in the presence of an alkali metal salt and/or alkaline earth metal salt and in the absence of solvent.例文帳に追加

溶剤を使用せず工程を簡略化し、穏和な条件下で反応させて、不純物が少なく、且つ収率の良い、１，３−オキサチオラン−２−チオン誘導体を得る製造法を提供する。 - 特許庁

To provide film deposition process and equipment for depositing a desired film on a sample substrate in which a film can be deposited under various conditions at a low cost in a short time.例文帳に追加

成膜装置によりサンプル基板に所望の膜の成膜する方法において、低コストかつ短時間で多くの条件の成膜を実施可能にした成膜方法及びその成膜装置を提供する。 - 特許庁

In a next punching process, a through hole 20 is formed at the first inspection section C1, and a non-through hole 21 is formed at the second inspection section C2, thus also punching a machining section B under the same conditions.例文帳に追加

次の穿孔工程で、第一検査部Ｃ１には貫通孔２０が形成され、第二検査部Ｃ２には非貫通孔２１が形成されるようにして、同じ条件で加工部Ｂも穿孔する。 - 特許庁

To provide a semi-melting state forging method, by which the heating temp. is low and the working process is shortened by improving a thixo-forging method for filling raw metallic material into a metallic mold under state of the semi-melting state.例文帳に追加

金属素材を半溶融状態で金型内へ充填するチクソフォージング法において、これを改良して、加熱温度が低く、且つ加工工程が短縮された半溶融鍛造法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which hardly causes an image density change and image defects such as image unevenness under a charger for a long period of time and having high stability, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus each using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

長期間、帯電器下の画像濃度変化や画像ムラ等の画像欠陥が発生しにくく、高安定な電子写真感光体、それを用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In a punch-out process in a hot-forging, a portion to be finally punched out in the forged member is made to be under half-punched state and thereafter, a half-punched core part is pressed and returned back to the shape of the original intermediate member.例文帳に追加

熱間鍛造の打ち抜き工程で、鍛造部材の最終的に抜き落としたい部分をハーフ抜き状態にして、その後ハーフ抜き芯部を押圧してほぼ元の中間部材の形状まで戻す。 - 特許庁

To provide a wooden barricade, by which the production of a component and an assembly process are facilitated, in which a supporting leg is opened easily in an inverted V shape in the case of use and which can be controlled and fixed under the state the leg is opened.例文帳に追加

構成部品の制作や組立工程が容易であり、使用する際、容易に支持脚を逆Ｖ字状に開脚し、かつ開脚状態で制御、固定化できる木製バリケードを提供する。 - 特許庁

A guarantee system process 180 receives repair request information through the Internet 184 including an intranet system 182 and the (i) mode and judges whether an object component requested to be repaired is under warranty.例文帳に追加

保証システム処理１８０は、イントラシステム１８２やｉモードを含むインターネット１８４を介して修理依頼情報を受け付け、修理依頼対象の部品が保証期限内か否かを判断する。 - 特許庁

To provide a modifier for a cellulose ester resin, which imparts excellent moisture permeation resistance, exhibits excellent bleeding resistance under the condition of a high temperature and a high humidity and is less prone to volatilization during the process of forming a film.例文帳に追加

本発明は、優れた耐透湿性を付与でき、高温多湿下での耐ブリード性に優れ、フィルム製造工程で揮発しにくいセルロースエステル樹脂用の改質剤を提供することである。 - 特許庁

Regarding the stage for sintering the compact, it is desirable that the compact is subjected to the heat treatment under the atmospheric gas containing H_2O and H_2 in the process where its temperature is raised to a prescribed sintering temperature.例文帳に追加

成形体を焼結する工程において、成形体を所定の焼結温度まで昇温する過程で成形体をＨ_2Ｏ及びＨ_2を含む雰囲気ガスの下で加熱処理することが望ましい。 - 特許庁

To provide a two-component developer capable of suppressing density variation of images under duration, image quality degradation in intermittent printing at a high process speed, carrier deposition and toner scattering, and having high developing ability.例文帳に追加

耐久時の画像の濃度変動及び高いプロセススピードで間欠印字の画質劣化の低減、キャリア付着やトナー飛散の抑制が可能であり、高い現像性を有する二成分系現像剤の提供。 - 特許庁

Then resist is subjected to an etch-back process on the entire surface under conditions of reducing a gap between adjacent lenses so as to transfer the resist pattern to the base lens material to form a lens array 22A having reduced gaps.例文帳に追加

この後、隣接するレンズの間隔を縮小させる条件で全面エッチバック処理を行い、レジストパターンを下地のレンズ材に転写し、ギャップを縮小したレンズアレイ２２Ａを形成する。 - 特許庁

In the hydrogenation process, comprises reducing the pressure of a treatment tank containing metal pellet is reduced and hydrogen gas is introduced into the treatment tank up to 1 atmospheric pressure under a temperature condition of 800-1,000°C stepwise.例文帳に追加

前記水素化工程は、金属ペレットが収容されている処理槽を減圧後、８００〜１０００℃の温度条件下にて、該処理槽内へ水素ガスを１気圧まで段階的に導入するものとした。 - 特許庁

The manufacturing method of the natural fiber board contains a process for ageing a board containing a natural fiber under an atmosphere adjusted to 30-80°C in temperature and adjusted to 40-80% in relative humidity.例文帳に追加

天然繊維を含むボードを、温度３０〜８０℃、相対湿度４０〜８０％に調整された雰囲気下でエージングする工程を含むことを特徴とする天然繊維ボードの製造方法とする。 - 特許庁

This wafer holding ring 1 can be manufactured by molding a base material 9 consisting of ceramics of silicon carbide substance into the shape of ring, and by forming a silicon carbide film 5 at the surface through oxidation process under the oxidation atmosphere.例文帳に追加

このウェハ保持リング１は、炭化珪素質セラミックスからなる基材９をリング状に成形し、酸化雰囲気下で酸化処理して表面に酸化珪素膜５を形成することによって製造される。 - 特許庁

Since a resist pattern under the light-shielding film is not developed but remains at a wafer periphery, a copper wiring layer in the damascene process is prevented from being exposed without reducing the number of chips to be obtained by dummy shot.例文帳に追加

遮光膜下のレジストパターンは現像されずに、ウェハ周辺部に残ることから、ダミーショットによる取れ数を減少することなくダマシンプロセスにおける銅配線層の露出を防止することができる。 - 特許庁

A reliability indication assignment process is executed to assign a reliability indication Q to binding amount data G3 that may have been measured under insufficient dissociation in Step S24.例文帳に追加

そして、ステップＳ２４で、前述の解離が不十分なままで測定の行われた可能性のある結合量データＧ３に信頼性表示Ｑを付与するための、信頼性表示付与処理を実行する。 - 特許庁

To provide an SiC semiconductor device performing electrical isolation of a base region from a layer of the same conductive type as the base region under a trench without making the trench deep and contriving the simplification of a manufacturing process.例文帳に追加

トレンチを深くしなくても、ベース領域とトレンチ下のベース領域と同導電型の層との電気的分離を行え、かつ、製造工程の簡略化が図れるＳｉＣ半導体装置を提供する。 - 特許庁

The selenic acid-containing waste water treatment method has a process for anaerobically bringing microorganisms into contact with selenic acid-containing waste water under such a condition that sulfur-containing amino acid or an yeast extract containing the same is present.例文帳に追加

含硫アミノ酸、又はそれを含有する酵母エキスが存在する条件下で、セレン酸を含有する排水に微生物を嫌気的に接触させる工程を具備するセレン酸含有排水処理方法。 - 特許庁

Color processing architecture and algorithms (CPAA) for color laser printers effectively process and handle input RGB image data to achieve advanced, high quality image printing under the condition of low capacity memory.例文帳に追加

本カラーレーザプリンタ用のカラー処理アーキテクチャ及びアルゴリズム（ＣＰＡＡ）は、入力ＲＧＢ画像データを効果的に処理及び操作して、低容量メモリ要件で高性能、高品質の画像印刷を達成する。 - 特許庁

To achieve scale inhibition under such conditions that calcium oxalate scale may be formed in a lower pH condition, just as the step D at which chlorine dioxide is used as a bleaching agent in the process for producing paper or pulp.例文帳に追加

紙・パルプ製造工程の漂白行程の二酸化塩素を用いたＤ段のように、低いｐＨでシュウ酸カルシウムのスケール化が生じる条件下において、スケールを防止できるようにする。 - 特許庁

To prevent troubles where an insulating layer under an electrode is charged with electricity at dry etching in a manufacturing process or a voltage applied to a gate electrode varies depending on devices.例文帳に追加

製造プロセスにおけるドライエッチング時に電極下の絶縁層が帯電する不具合や、各ゲート電極に印加される電圧値が素子ごとにばらつく不具合を防止する固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

In this method for delay adjustment, a delay value and skew prior to delay adjustment are calculated under each of the plurality of process conditions of a semiconductor integrated circuit on the basis of layout information ( a step ST1).例文帳に追加

本発明の遅延調整方法は、まず、レイアウト情報にもとづいて、半導体集積回路の複数のプロセス条件ごとに、遅延調整前の遅延値およびスキューを求める（ステップＳＴ１）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a concrete wherein short kneading time under various process condition and good applicability is achieved without deterioration of flowability of a cement dispersant.例文帳に追加

セメント分散剤の流動保持性能を損ねることなく、多様なコンクリート製造条件に対して、短時間の撹拌で練り上がり、且つ作業性のよいコンクリートを得ることができる手段を提供する。 - 特許庁