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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > under processの意味・解説 > under processに関連した英語例文

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under processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2441



例文

As for direct financing that is still under development, tangible outcomes have been gradually observed through both establishment by initiatives for Asian bond market development conducted under the process of ASEAN+3 finance ministries, and establishment of a credit insurance system30 by Nippon Export and Investment Insurance (NEXI) for Japanese companies that issue bonds in local currency.例文帳に追加

いまだ育成途上である直接金融については、ASEAN+3 財務大臣プロセスの下で行われているアジア債券市場育成イニシアティブに伴う制度整備や日本貿易保険(NEXI)による日系企業の現地通貨建て債券発行に係る信用補完制度30の創設等により徐々に具体的な成果が現れ始めている。 - 経済産業省

In accordance with at least one rail pressure value detected right before an injection process and/or during the injection process or other parameters, if necessary, a value for an injection time calculated before is corrected at least once before operation to form a corrected value ti_K for a time for injection into a cylinder n under way.例文帳に追加

噴射過程の直前および/または噴射過程中に検出された少なくとも1つのレール圧値および場合により他のパラメータに基づいて、前計算された噴射時間の値を動作前に少なくとも1回補正し、進行中の噴射に対するシリンダnの噴射時間の補正値ti_Kを形成する。 - 特許庁

To easily peel a thin semiconductor wafer from an adhesive tape by suppressing sticking of a glue when performing a wet process under the condition where the adhesive tape which can be peeled by thermal foaming is pasted over the entire main surface of the semiconductor wafer, and foaming the adhesive tape by heating after the wet process.例文帳に追加

半導体ウエハーの主面全体に加熱発泡により剥離可能な接着テープを貼り付けた状態でウエット処理を行った際の糊の貼りつきを抑制し、ウエット処理後に、接着テープを加熱して発泡させることにより、接着テープから薄型の半導体ウエハーを容易に剥離させること。 - 特許庁

To provide a discharge plasma processor and a processing method using the same which continuously and stably generates a uniform glow discharge plasma substantially under the atmospheric pressure to form a thin film, using not only a single process gas but a plurality of process gases, and can deal with complicated processes in etching, ashing steps, etc.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。 - 特許庁

例文

Concerning the method for producing the ceramic electronic component having electrode layers 6 and 8 containing base metals and a dielectric layer 4, this producing method for ceramic electronic component has a process for debinding a green chip to become the ceramic electronic component under atmospheric gas containing H2O, and a process for burning the debound green chip.例文帳に追加

卑金属を含む電極層6,8と誘電体層4とを有するセラミック電子部品を製造する方法であって、セラミック電子部品となるグリーンチップを、H_2 Oを含む雰囲気ガス下で脱バインダ処理する工程と、脱バインダ処理されたグリーンチップを焼成処理する工程とを有するセラミック電子部品の製造方法。 - 特許庁


例文

The manufacturing method of the water-solubilized product of the cellulosic material comprises an aqueous slurry preparation process wherein an aqueous slurry containing the cellulosic material is prepared and a solubilization process wherein the above aqueous slurry is heated under pressure, the above cellulosic material is solubilized and a solution containing the water-solubilized product of the material is prepared.例文帳に追加

セルロース系材料の水可溶化物の製造方法であって、セルロース系材料を含有する水性スラリーを準備する水性スラリー準備工程と、前記水性スラリーを加圧下で加熱して前記セルロース系材料を可溶化して該材料の水可溶化物を含有する溶液を調製する可溶化工程と、を備えるものとする。 - 特許庁

In the method for heat treating a semiconductor wafer in the horizontal heat treatment furnace using an SiC process tube having a CVD-SiC film formed on the inner wall face, heat treatment is performed under such a state as a wafer boat holding a semiconductor wafer is placed in the SiC process tube through a tray made of CVD-SiC.例文帳に追加

内壁面にCVD−SiC膜を形成したSiCプロセスチューブを使用した横型熱処理炉により半導体ウェーハを熱処理する方法であって、前記半導体ウェーハを保持したウェーハボートをCVD−SiC製のトレイを介して前記SiCプロセスチューブの内部に載置した状態で熱処理を行うようにした。 - 特許庁

To realize a light emitting diode element having a high luminance in the wavelength band of yellow-green, in which the drop in the output strength used to be marked conventionally, by forming a window layer in a process in which the temperature is higher than before in order to improve the electric conductivity of the window layer and by changing the structure thereof to prevent the changes due to the process under high temperatures.例文帳に追加

窓層を従来よりも高温のプロセスで形成し、電気伝導度の改善された窓層とするが、高温プロセスによる変化がないようにその構造を変える事により、従来は出力強度の低下が著しかった黄緑色の波長帯域で、輝度の大きい発光ダイオード素子を実現する。 - 特許庁

Data in a block are erased under the control of an erasing process by a write state machine 3 to erase the data in this block and erasure protection 7 erases EC data written to the storage location, corresponding to the erased block and omits a next erasing process for the block whose EC data have been erased.例文帳に追加

ライトステートマシン3の消去処理の制御に基づいて、ブロック内のデータを消去し、このブロック内のデータを消去するとともに、イレーズプロテクト7は、消去されたブロックに対応する記憶場所に書き込まれたECデータを消去し、次の消去処理では、このECデータが消去されたブロックに対する消去処理を省く。 - 特許庁

例文

This method for controlling the exhaust quantity of nitrogen oxide from the internal combustion engine (ICE) 102 includes: a process of determining the timing in which the engine speed is under a first predetermined level; and a process of controlling an oxygen substitution valve (ODV)so that at least part of exhaust gas generated by an ICE 102 is guided to an intake flow of the internal combustion engine.例文帳に追加

内燃機関(ICE)102からの窒素酸化物の排出量を制御する方法は、エンジン速度が第1所定レベル未満である時期を判定する工程、及び、ICE102が発生する排気の少なくとも一部が内燃機関の吸気流に導かれるように、酸素置換バルブ(ODV)130を制御する工程、を含む。 - 特許庁

例文

Regarding a film deposition process by dc-magnetron sputtering of a zinc oxide based transparent conductive film, in the starting (initial) stage of the film deposition, by starting the film deposition under the conditions different from those in film deposition process by an ordinary dc-magnetron sputtering which continues after that, the fact that the lowest resistivity characteristics of the film are remarkably improved has been found.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスにおいて、成膜の開始(初期)段階は、その後に続く通常の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスとは異なる条件下で成膜を開始することにより、膜の最低抵抗率特性が大幅に改善できることを見出した。 - 特許庁

A management system searches for a logical volume that conforms to a migration policy, which is a condition under which the reallocation process is considered ineffective, from a reallocation group, which is a group of one or more logical volumes subjected to a target of a reallocation process, and causes the storage system to transfer data in the logical volume that is discovered to outside of the reallocation group.例文帳に追加

管理システムが、再配置処理の効果が無いとみなされる条件であるマイグレーションポリシに適合する論理ボリュームを、再配置処理の対象となる一以上の論理ボリュームのグループである再配置グループから探し、見つけた論理ボリューム内のデータを再配置グループ外に出すことストレージシステムに実行させる。 - 特許庁

The method for producing fermented soy milk comprises the following processes: a process where soy milk is inoculated with basidiomycete derived from at least one selected from the group comprising Flammulina veluptipes, Coriolus versicolor and Schizophyllum commune Fr., and having protease activity; and a process where the soy milk inoculated with the basidiomycete is fermented under an aerobic condition.例文帳に追加

そして、上記発酵豆乳を、豆乳に、エノキタケ、カワラタケおよびスエヒロタケからなる群から選ばれた少なくとも一方に由来しプロテアーゼ活性を有する担子菌を接種する工程と、上記担子菌を接種した豆乳を好気条件下で発酵させる工程とを備えた製法により製造する。 - 特許庁

When an accepting part 24 accepts an instruction to update the device program, the stopping program 27c stops a predetermined process that is under way and communication with an air-conditioner 4 by the first communication part 21, and the information writing part 27d stores process information and device information the storage part 26.例文帳に追加

受付部24が機器プログラムの更新指示を受け付けた場合、停止部27cは、処理実行部27bが実行中である所定処理、及び第1通信部21による空調機器4との通信を停止させ、情報書き込み部27dは、処理情報及び機器情報を記憶部26に記憶させる。 - 特許庁

To provide: an inspection method capable of specifying the portion where junction leak defect is occurred, by irradiating a semiconductor device with an electron beam at a predetermined interval a plurality of times, and optimizing conditions of junction forming process by carrying out the inspection using wafer under a semiconductor manufacturing process; a device; and the method of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体装置に電子線を所定の間隔で複数回照射して、接合リーク不良発生箇所を特定でき、半導体製造工程途中のウエハで本検査を実行することにより接合形成プロセス条件の最適化を行うことができる検査方法及び装置、半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Likewise, no charge shall be permitted under the terms of the preceding Paragraph in the event that, during the period prior to the entry into force of this Law, significant investments have been made toward the exploitation of product or process referred to in this Article, even if protected by a product or process patent in another country. 例文帳に追加

同様に,本法施行前に,本条に規定した製品又は方法を実施するために多額の投資が行われている場合は,他国において製品特許又は方法特許による保護が行われている場合であっても,前項に規定したとおり,如何なる金銭的請求も認めないものとする。 - 特許庁

The mixed signal processing circuit is integrated with the test interface, especially the mixed signal processing circuit is integrated with the test interface of a probe card or a device under test, moreover the mixed signal processing circuit is integrated with the pin electric channel of the testing device, and the motion process of the mixed signal process circuit is integrated with the system software of the test device.例文帳に追加

混合信号処理回路をテストインターフェースに統合し、特に混合信号処理回路をプローブカードまたは被試験素子カードのテストインターフェースに統合し、かつ混合信号処理回路と試験機のピン電気チャンネルを統合し、混合信号処理回路の動作プロセスを試験機のシステムソフトウェアに統合する。 - 特許庁

This method for producing the trialkylgallium includes a first process for heating magnesium under a vacuum and a second process for reacting the magnesium subjected to vacuum heat treatment with at least one kind of the gallium halide and at least one kind of alkyl halide in at least one kind of solvent so as to synthesize the trialkylgallium.例文帳に追加

マグネシウムを真空下で加熱する第1の工程と、少なくとも1種の溶媒中で、真空加熱処理されたマグネシウムと、少なくとも1種のハロゲン化ガリウムと、少なくとも1種のハロゲン化アルキルとを反応させることによりトリアルキルガリウムを合成する第2の工程とを含むトリアルキルガリウムの製造方法。 - 特許庁

(1) In an action under Section 29 for the infringement of a patent, where the subject matter of the patent is a process for obtaining a product, the onus of establishing that a product was not made by the process shall be on the alleged infringer where the Court is satisfied that -例文帳に追加

(1) 第29条に基づく特許侵害訴訟において,特許の対象が製品を得るための方法である場合において,製品が当該方法によって生産されたのではないことを証明する責任は,侵害者として申し立てられている者が負う。ただし,裁判所が次のことを認めることを条件とする。 - 特許庁

The organic acid decomposition method has an oxalic acid decomposing process for decomposing oxalic acid in a decontamination waste liquid containing formic acid and oxalic acid in the presence of hydrogen peroxide and divalent iron ions and a formic acid decomposing process for decomposing formic acid in the decontamination waste liquid, wherein oxalic acid is decomposed, under a contact condition with a stainless steel catalyst by hydrogen peroxide.例文帳に追加

ギ酸及びシュウ酸を含む除染廃液中のシュウ酸を、過酸化水素及び2価の鉄イオンの存在下で分解するシュウ酸分解工程と、前記シュウ酸が分解された前記除染廃液中のギ酸を、ステンレス鋼触媒との接触下で過酸化水素によって分解するギ酸分解工程と、を有する。 - 特許庁

On the ground of the instructions of a user, an access information control unit 10 refers to a request issued by a Web browser 3 and a response of a Web server 5 for the request, associates the referred request with the response to prepare a piece of process list data under a predetermined condition, and accumulates it in a process list database 7.例文帳に追加

ユーザの指示により、アクセス情報制御部10は、Webブラウザ3が発行したリクエストおよびこのリクエストに対するWebサーバ5のレスポンスを参照し、所定の条件下において、これら参照したリクエストおよびレスポンスを関連付けしてプロセスリストデータを作成し、プロセスリストデータベース7に蓄積する。 - 特許庁

Surface treatment is done to the semiconductor substrate 1 with a process of introducing reaction gas which contains the surfactant to a chamber 3 as shown in (a), and a process of interrupting the introduction of the reaction gas and exposing the semiconductor substrate 1 to the atmosphere which contains the surfactant under the condition that the chamber 3 is enclosed as shown in (b).例文帳に追加

(a)のように界面活性剤を含有する反応ガスをチャンバ3に導入する工程と、(b)のように反応ガスの導入を遮断しチャンバ3内を密閉した状態で半導体基板1を界面活性剤を含む雰囲気下にさらす工程とを行って半導体基板1に表面処理を施す。 - 特許庁

The method for manufacturing the Faraday rotator using the bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal film indicating substantially square magnetic hysteresis is provided with: a single crystal film growing process for growing the single crystal film; and an under-magnetic-field thermal treatment process for conducting thermal treatment to the single crystal film while applying an external magnetic field.例文帳に追加

実質的に角型の磁気ヒステリシスを示すビスマス置換型希土類鉄ガーネット単結晶膜を用いたファラデー回転子の製造方法において、単結晶膜を育成する単結晶膜育成工程と、単結晶膜に対し、外部磁場をかけながら熱処理を施す磁場中熱処理工程とを備えるようにした。 - 特許庁

To improve the control of the rotating velocity of a rotary drum (OPC drum) under such a situation where various loads such as the manufacturing tolerance and the abrasion, etc., of mechanical components are not fixed and also a process is fluctuated, in order to improve the stability of an electrophotographic process, and also, in order to reduce the occurrence of a banding artifact.例文帳に追加

電子写真プロセスの安定性を改善し、かつ、バンディング・アーティファクトの出現を減少させるために、例えば機械部品の製造公差や摩耗などの様々な負荷が一定ではなくしかもプロセス変動がある状況下での回転ドラム(OPCドラム)の回転速度の調整の改善を図る。 - 特許庁

The method for gelatinizing organic raw material comprises stirring the organic raw material under 5-13 atmospheric pressure at 130-210°C for 60-360 s, kneading the raw material, and pressurizing the kneaded raw material to be ground so as to continuously process the raw material into rice-cake state (gel state) in a single process without adding any additives.例文帳に追加

有機性原料を温度130℃以上210℃以下、圧力5気圧以上13気圧以下の条件で60秒以上360秒以下撹拌、混練、圧縮磨り潰しを行うことで添加物を加えず一工程で連続的に餅状(ゲル状)に加工する加工方法および装置による。 - 特許庁

To provide a real time OS for performing a general OS(GPOS) as one task, and to prevent a process irrelevant to communication from being performed with high priority by increasing the priority of a GP task to the priority of the real time task at the time of performing communication between a process under the control of the GPOS and the real time task(RT task).例文帳に追加

汎用OS(GPOS)を一つのタスクとして実行するリアルタイムOSでGPOS制御下のプロセスとリアルタイムタスク(RTタスク)との間で通信を行う場合に、GPタスクの優先度をリアルタイムタスクの優先度に上げることによって通信と関係ないプロセスも高い優先度で実行されることを防ぐこと。 - 特許庁

To enhance the efficiency and accuracy of a polishing process to be performed using the electrophoretic polishing method whereby it is made practicable to adjust the degree of binding of super-abrasive grains coagulating under the polishing process and allowing the same working machine to perform a series of processes from grinding to final surface finishing.例文帳に追加

電気泳動研磨法を利用した研磨加工において、凝集する超微粒砥粒の結合度を調節可能とするとともに、研削から最終表面仕上げにいたる一連の加工を同一加工機械のもとで行うことを可能として、加工能率、加工精度のさらなる向上をはかる。 - 特許庁

This method for preparing the differentiated cells comprises (A) a process of mixing (a) the adipose-originated precursor cell with (b) a differentiated cells corresponding to the desired site to obtain a mixture and (B) a process of culturing the mixture under a sufficient condition for allowing the differentiation of the adipose-originated precursor cells.例文帳に追加

分化細胞を調製するための方法であって、A)a)脂肪由来前駆細胞と、b)所望の部位に対応する分化細胞と、を混合して混合物を得る工程;およびB)該脂肪由来前駆細胞の分化が生じるに十分な条件で該混合物を培養する工程、を包含する、方法が提供される。 - 特許庁

To supply a material gas used in a process for creating the crystal nuclei of a multielement metal oxide thin film and a material gas used in a process for creating the crystal of the multielement metal oxide thin film on the crystal nuclei under conditions suitable for respective processes.例文帳に追加

本発明は多元系金属酸化物薄膜の結晶核を生成するための工程に使用される原料ガスと、結晶核上に多元系金属酸化物薄膜の結晶を生成するための工程に使用される原料ガスとをそれぞれの工程に適した条件で供給することを課題とする。 - 特許庁

This invented method for manufacturing the sliding part 1 includes a first process obtaining a resin sliding part main body 10 having a groove formed on an outer surface by injection-molding first resin and a second process injection-molding a second resin outside the sliding part main body 10 under existence thereof.例文帳に追加

本発明の摺動部品1の製造方法は、第1の樹脂を射出成形して、外表面に溝が形成された樹脂製の摺動部品本体10を得る第1の工程と、その摺動部品本体10の存在下、その外側に第2の樹脂を射出成形する第2の工程とを有する。 - 特許庁

To provide a transparent solid soap composition which can be produced at a high production efficiency without need of an aging process such as in the conventional production process, and which is excellent in transparency, storage stability and hardness, and free from the perspiration of water even under a high temperature and high humidity, and free from a trouble of becoming cloudy in use.例文帳に追加

従来の製造方法におけるような熟成工程を必要とせず高い生産効率で製造できる、透明性、保存安定性、硬度に優れ、高温多湿の条件下でも発汗が生じるようなことなく、しかも使用途中に白濁化することのない透明固形石鹸組成物を提供する。 - 特許庁

Since heat treatment at a temperature of glass transition point or above of a substrate is performed after forming resist in a process following a process for forming a circuit pattern, solder resist can be formed under a state of good dimensional stability of the substrate and thereby the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加

回路パターン形成工程の以降の工程に行う基材のガラス転移温度以上の温度による加熱処理を、ソルダレジスト形成の後に行うことにより、基材の寸法安定性の良い状態でソルダレジスト形成を行うので、回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成することが可能となる。 - 特許庁

The method of manufacturing for manufacturing the fine fibrous cellulose having a width of 1 μm or less and a length of 5,000 μm or less from lignocellulose includes: an ozone treatment process for embrittling the lignocellulose under an ozone atmosphere; and a grinding process for grinding the lignocellulose mechanically.例文帳に追加

本発明は、リグノセルロースから幅が1μm以下、長さが5000μm以下の微細繊維状セルロースを製造する微細繊維状セルロースの製造方法であって、リグノセルロースをオゾン雰囲気下で脆弱化させるオゾン処理工程と、リグノセルロースを機械的に粉砕する粉砕工程と、を備える微細繊維状セルロースの製造方法である。 - 特許庁

A drying treatment process which dries waste to the degree of determined water content by heating waste in a treatment tank 12 under vacuum atmosphere, and a carbonization treatment process which supplies superheated steam into the treatment tank 12, decreases the water content of waste further, and thereafter carbonize pyrolyzes waste, are carried out.例文帳に追加

廃棄物を減圧雰囲気の処理槽12内で攪拌しながら加熱して、所定の含水率となるまで廃棄物を乾燥させる乾燥処理工程と、前記処理槽12内に過熱水蒸気を供給して、廃棄物の含水率を更に低下させたのち、廃棄物を炭化熱分解させる炭化処理工程とを行う。 - 特許庁

After a process of forming precursor films 411, 412,... composed of a metal and oxygen on a lower electrode 32, a hydrothermal process is carried out wherein the precursor films 411, 412,... are soaked in an alkaline solution 101 prepared by adjusting a predetermined alkaline solute to a concentration of 0.1M[mol/l] or lower to promote crystallization under a fixed condition.例文帳に追加

下部電極(32)上に金属および酸素により構成される前駆体膜(411,412,…)を形成する工程の後、前駆体膜(411,412,…)を、所定のアルカリ性溶質が0.1M[mol/l]以下の濃度に調整され形成されたアルカリ性溶液(101)に浸して一定条件下で結晶化を促進させる水熱処理工程を行う。 - 特許庁

To provide a process of producing a semiconductor package in which electric insulation can be maintained even in an atmosphere of high temperature and high humidity and soldering junction can be achieved with high junction strength and reliability, without any necessity of cleaning removal of remaining flux after soldering junction, nor charging of under fill or the like, and provide the semiconductor package obtained by the process.例文帳に追加

半田接合後の残存フラックスの洗浄除去、そして、アンダーフィルの充填などが必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、接合強度、信頼性の高い半田接合を可能とした半導体パッケージの製造方法及びその製造方法により得られる半導体パッケージを提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing this copolymer contains a process (a) in which at least an isoolefin, at least a multi-olefin, and any other monomer are polymerized in the presence of a catalyst and an organic nitro compound, and a process (b) in which the obtained copolymer is contacted with at least a haloganation agent under a haloganation condition.例文帳に追加

a)少なくとも1種のイソオレフィン、少なくとも1種のマルチオレフィンおよび任意にさらなるモノマーを、触媒および有機ニトロ化合物の存在下で重合させる工程、b)得られたコポリマーをハロゲン化条件下で少なくとも1種のハロゲン化剤と接触させる工程を含む上記コポリマーの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of refolding protein that can efficiently produce protein under the condition of an increased protein concentration, provide a continuous protein-refolding process that can continuously refold protein in high efficiency and practically produces a large amount of protein in industrial scale and provide an apparatus for achieving the continuous protein-refolding process.例文帳に追加

高蛋白質濃度での効率的な蛋白質生産が可能な、蛋白質のリフォールディング方法を提供すること、及び連続的に高効率で蛋白質をリフォールディングすることができ、蛋白質の大量生産が実現可能な工業的にも有用な連続リフォールディング方法並びにその装置を提供する。 - 特許庁

A calculating means 8 calculates production result information, such as production yield under the consideration of the reproduction process of the defective articles, on the basis of the input information and the parts table 6 recorded in the recording part 4.例文帳に追加

算出手段8は、これらの入力情報と、記録部4に記録されている部品表6とに基づいて、不良品の再生工程も考慮に入れた生産歩留まりなどの生産実績情報を算出する。 - 特許庁

In the induction hardening method, the heating process is performed in which a long workpiece LW consisting of a Fe-based alloy is heated by an induction heating coil 16 while turning the workpiece at the predetermined number of revolutions under the operation of rotary chucks 14a, 14b.例文帳に追加

Fe基合金からなる長尺ワークLWを、回転チャック14a、14bの作用下に所定の回転数で回転させながら高周波加熱コイル16で加熱して加熱工程を行う。 - 特許庁

To prevent generation of an image failure such as density unevenness resulting from deformation of a charging roller when a user starts using in an integrated type process cartridge even if the cartridge is left under any kind of state (length of unattended time and unattended environment).例文帳に追加

どのような放置状態(放置期間長さ及び放置環境)の一体型プロセスカートリッジであっても、ユーザの使用開始時における帯電ローラの変形に起因する濃度ムラ等の画像不良の発生を防ぐこと。 - 特許庁

This treatment process comprises: receiving a material to be treated which contains biomass waste and a solvent consisting essentially of methanol, in a closed vessel; and subjecting the contents of the closed vessel to heat treatment while applying a pressure, at 250-30°0C under a ≥10 MPa pressure.例文帳に追加

メタノールを主成分とする溶媒と、バイオマス系廃棄物とを含有する被処理物を密閉容器内に収容し、前記密閉容器内を250℃〜300℃、10MPa以上の条件下に加圧加熱処理する。 - 特許庁

At any one of steps of purification process after solvent removal, a PAS is purified by bringing it into contact with gaseous carbon dioxide or carbonated water under a pressure higher than 0.1 MPa but not higher than 2.0 MPa at 10-100°C.例文帳に追加

脱溶媒後の精製工程の何れかの段階において、PASと炭酸ガスまたは炭酸水を圧力条件が0.1MPaより大きく2.0MPa以下、温度条件が10〜100℃で接触させて精製する。 - 特許庁

To provide a hybrid integrated circuit device which has a structure capable of preventing a deterioration of solder bonding lifetime or strength under high temperature environment without distinction of material of electronic part and undergoing a surface treatment process.例文帳に追加

電子部品の材料を問わず、また、表面処理工程を行わなくても、高温環境下での強度劣化ははんだ接合寿命の低下を防止できる構造の混成集積回路装置を提供する。 - 特許庁

Resin impregnated overlay raw paper impregnated with a resin liquid containing a thermosetting resin as a main component, resin impregnated pattern paper and a core material are laminated on overlay raw paper having optical interference fibers incorporated therein by a papermaking process and the whole is molded under heating and pressure.例文帳に追加

光学干渉繊維を抄き込んだオーバーレイ原紙に、熱硬化性樹脂を主な成分とする樹脂液を含浸した樹脂含浸オーバーレイ原紙と、樹脂含浸パターン紙と、コア材とを積層し、加熱加圧成形する。 - 特許庁

A solder melted on the lands 2 and 3 under thermal process is drawn from the narrow parts 2b and 3b to the wide parts 2c and 3c to provide a local rise, allowing contact to a raised lead so that a lead is surely soldered.例文帳に追加

熱処理によりランド2,3上で溶融した半田は、幅狭部2b、3bから幅広部2c,3cへ吸い寄せられて局部的に盛り上がり、浮きのあるリードに接触してリードは確実に半田付けされる。 - 特許庁

In a process (E), a silicon wafer 24 and a silicon wafer 38 are properly positioned and temporarily fixed, and a voltage is applied under pressure between both wafers 24, 38 in the atmospheric pressure of 10-3 mbar or less and at the temperature of 300°C or more.例文帳に追加

工程(E)でシリコンウエハ24とシリコンウエハ38の位置合わせをして仮固定し、雰囲気を10^^-3mbar以下に、温度を300度以上にして、両ウエハ間に加圧しながら電圧を印加する。 - 特許庁

This method is such as to make it possible to improve the speed of an oil-and-fat crystallization by subjecting an oil-in-water emulsion to crystallization under a pressure, thereby enable the cream to be continuously aerated even without an aging process to efficiently produce whipped cream.例文帳に追加

水中油型エマルションを加圧晶析することで油脂の晶析速度が速くなり、熟成を行わなくても連続的に含気を行うことが可能となり、ホイップドクリームを効率良く生産することが可能となる。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of obtaining a stable first copying time in the case of starting the following image forming operation based on the detection of an image positioning mark even under a condition provided with plural kinds of process linear velocity.例文帳に追加

プロセス線速度を複数種類有する条件下でも、画像位置合せ用のマーク検出に基づく次の作像開始に際して安定したファーストコピー時間が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

In the etching apparatus, pressure exerted on the object is minimized during an etching process for thinning the thickness of the object, and the etching solution is applied to entire surface of the object under uniform pressure.例文帳に追加

エッチング装置は対象物の厚さを薄くエッチングする過程において対象物に加えられる圧力を最小化し、エッチング溶液を対象物の全領域に均一の圧力でエッチング溶液を提供する。 - 特許庁




  
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