「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(225ページ目) - Weblio英語例文検索

In the operating device 2 of the press brake with which a work W of sheet metal is bent, the operating device 2 of the press brake has a switch 43 provided on a shoe of an operator of the press brake 1, a transmitting means 45 for transmitting a signal by which the state of the switch 43 is expressed and a receiving means 49 for receiving the signal transmitted by the transmitting means 45.例文帳に追加

板金ワークＷの曲げ加工をおこなうプレスブレーキの操作装置２において、プレスブレーキ１の作業員の靴４１に設けられたスイッチ４３と、スイッチ４１の状態を示す信号を送信する送信手段４５と、送信手段４３で送信された信号を受信する受信手段４９とを有するプレスブレーキ操作装置２である。 - 特許庁

The method for producing the printed textile product includes the following process: A cationized cellulosic textile fiber material is printed with a printing paste composition containing a natural dye and an O/W emulsified sizing agent, and the cellulosic textile fiber material is steamed with 100-130°C saturated or heated steam so as to effect fixing the natural dye in the printing paste composition onto the cellulosic textile fiber material after printed.例文帳に追加

天然染料とＯ／Ｗエマルション糊剤とを含有する捺染糊組成物をカチオン化したセルロース系繊維材料に印捺し、印捺後に捺染糊組成物中の天然染料がセルロース系繊維材料に固着するように、当該セルロース系繊維材料を１００℃〜１３０℃の飽和蒸気又は加熱蒸気で蒸熱する。 - 特許庁

The surface treatment apparatus is provided with a vacuum vessel (1) housing a work (W), conductors (6, 30, 39, and 40) housed in the vacuum vessel (1), and a power source (11) for plasma generation for supplying the voltage for plasma generation used for generating the plasma within the vacuum vessel (1) to the conductors (6, 30, 39, and 40).例文帳に追加

本発明による表面処理装置は，ワーク（Ｗ）を収容する真空容器（１）と，真空容器（１）に収容されている導体（６，３０，３９，４０）と，真空容器（１）内にプラズマを発生するために使用されるプラズマ発生用電圧を前記導体（６，３０，３９，４０）に供給するプラズマ発生用電源（１１）とを備えている。 - 特許庁

After prescribed treatment, consequently, the fixed quantity of etchant E is stored in the tank 80 and, at the time of performing treatment on wafers W thereafter, the stored etchant E can be supplied to the treating tank 10 and used for the treatment together with a new etchant E supplied from the supplying means 40 to the tank 10.例文帳に追加

これにより、所定の処理後、処理槽１０から排液されるエッチング液Ｅの一部の定量を定量貯留タンク８０に貯留し、以後の処理に際して、定量貯留タンク８０に貯留されたエッチング液Ｅと、供給手段４０からの新規エッチング液Ｅとを処理槽１０内に供給してウエハＷの処理を行うことができる。 - 特許庁

Plaster 2 and micro-capsules 3 having a liquid 32 containing hinokitiol are at least contained in the raw material of the tabular wall panel 1 stuck and applied on the wall W of a building, and the micro-capsules 3 have capsule bodies 31 capable of discharging the liquid 32 into the inside by a collapse due to at least a change with time.例文帳に追加

建築物の壁Ｗに貼り付けて施工される板状の壁パネル１の原材料に、漆喰２と、ヒノキチオールを含有する液体３２を内蔵するマイクロカプセル３とを少なくとも含有させ、マイクロカプセル３に、少なくとも経時変化により崩壊することで内部の液体３２を放出し得るカプセル本体３１を具備させた。 - 特許庁

The other second antenna pattern 12 is a repetitive pattern of triangle waves comprising a thin and long line with a prescribed amplitude L(12) drawn by a conductor thin film 12a with the prescribed line width w and formed to a region corresponding to the forming region of the first antenna pattern 11 in a state of being orthogonal to the first antenna pattern 11.例文帳に追加

他方の第２アンテナパターン１２も一定線幅ｗの導電体薄膜１２ａにより描かれた細長い一定振幅Ｌ（１２）の細長い三角波形の繰り返しパターンであり、第１アンテナパターン１１の形成領域に対応する領域に形成されており、しかも、当該第１アンテナパターン１１とは直交する状態に形成されている。 - 特許庁

After alloy powder consisting of at least one kind among W, Ti, Zr and Hf and at least one kind from among V, Nb and Ta is generated by mechanical alloying, the alloy powder is subjected to calcination treatment together with a powder carbon material and a catalyst in the presence of gaseous nitrogen to cause carbonization and nitridation and multicomponent system carbide and nitride powder is obtained.例文帳に追加

Ｗと、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆの少なくとも１種と、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａの少なくとも１種とを構成成分とする合金粉末をメカニカルアロイングにより生成した後、該合金粉末を粉末炭素材および触媒とともに窒素ガス存在下で焼成処理することにより炭窒化して多元系炭窒化物粉末とする。 - 特許庁

The re-kneading devices 6a and 6b of the re-kneading system line 5 are equipped with cooling means 7 for controlling the viscosity of a rubber so as to obtain a semiprocessed rubber material during the kneading of the kneaded material W and constituted of sheeting rolls 8, re-kneading conveyors 9, delivery conveyors 10 and the like to be arranged in series.例文帳に追加

練り返しシステムライン５の練り返し装置６ａ，６ｂは、それぞれ混練り材料Ｗの混練り中に、最終目標品質の半製品ゴム材料となるようにゴム粘度を制御する冷却手段７を備えると共に、シーティングロール８，練り返しコンベヤー９，受渡しコンベヤー１０等により構成されて直列に配設されている。 - 特許庁

This supporting member is for suspending and supporting a material to be treated which is to be surface-treated by dipping in the molten metal plating bath, at least a part dipped into the molten metal plating bath comprises a sintered compact consisting essentially of silicon nitride and the heat conductivity of the sintered compact at room temperature is ≥50 W/(m×K).例文帳に追加

溶融金属めっき浴中に浸漬して表面処理される被処理物を吊下げて支持する部材であって、溶融金属めっき浴中に浸漬される少なくとも一部分が、窒化ケイ素を主成分とする焼結体からなり、該焼結体の常温における熱伝導率が５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

A length t1 of the stator 5 can be shortened and a wall thickness t2 of the bulkhead portion 2b can be thinned to improve mounting work and to promote heat conduction from the electromagnetic coil 5a to a jacket water W side by way of the bulkhead portion 2b and maximally prevent a reduction in the attractive force of the electromagnetic coil 5a by overheat.例文帳に追加

また、ステーター５の長さｔ１を短くし、隔壁部２ｂの肉厚ｔ２を薄くすることができるため、搭載性を向上させることができるうえに、電磁コイル５ａの熱が隔壁部２ｂを介してジャケット水Ｗ側へ熱伝導し易くなり、過熱によって電磁コイル５ａの吸着力が低下するのを極力防止することができる。 - 特許庁

A water-soluble polymer is produced by irradiating with light an aqueous solution of a monomer mixture containing a water-soluble acryloyl- group-containing monomer and a water-soluble methacryloyl-group-containing monomer under conditions including an irradiation intensity of 0.5-7 W/m^2 in the presence of an azoic polymerization initiator and an inorganic phosphorus compound.例文帳に追加

アゾ系重合開始剤および無機リン化合物の存在下に、アクリロイル基を有する水溶性単量体及びメタクリロイル基を有する水溶性単量体を含有する単量体混合物の水溶液に、光照射強度０．５〜７Ｗ／ｍ^2の条件下に光を照射して重合して水溶性重合体を製造する。 - 特許庁

An emission unit 16 emits laser beam SHG of YAG second harmonics received from a YAG laser oscillator via an optical fiber 18 through an optical lens in a unit from an emission port at the tip, and condenses and emits the same into a peeling region HW set to each contact W at an elliptic beam spot SP_SHG with a high flatness.例文帳に追加

出射ユニット１６は、ＹＡＧレーザ発振器より光ファイバ１８を介して受け取ったＹＡＧ第２高調波のレーザ光ＳＨＧをユニット内の光学レンズに通して先端の出射口より出射し、各コンタクトＷに設定された剥離領域ＨＥ内に扁平度の高い楕円状ビームスポットＳＰ_SHGで集光照射する。 - 特許庁

In this heating treatment device 1 comprising a housing 2 receiving a treated object W, a microwave oscillator 3 disposed at a proper part of the housing 2, and an auxiliary heating mechanism 4 for supplying the hot water or superheated steam into the housing, cooling drainage for cooling the microwave oscillator 3 is utilized as supply hot water of the auxiliary heating mechanism 4.例文帳に追加

処理対象物Ｗを収納する筐体２と、該筐体２の適所に配設するマイクロ波発振装置３と、温水又は過熱蒸気を筐体内に供給する補助加熱機構４を備えた加熱処理装置１において、マイクロ波発振装置３を冷却する冷却排水を補助加熱機構４の供給温水として利用する。 - 特許庁

Then, when pure air is jetted into the chamber 40 through the supply nozzle 35, the pure air cleaned by an FFU 30 and containing no organic substance and no particle is supplied around the pure water PW near the focal position of the liquid immersion objective lens 8 (that is, in between the liquid-immersion objective lens 8 and the wafer W).例文帳に追加

従って、供給ノズル３５から清浄な空気がチャンバ４０内に噴出されると、液浸対物レンズ８の焦点位置近傍（即ち、液浸対物レンズ８とウエハＷの間）の純水ＰＷの周囲に、ＦＦＵ３０によって清浄化された有機物やパーテイクルを含まない清浄な空気を供給することができる。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium has a perpendicular magnetic layer containing Co, Pt, Cr, and at least one additive component of Mo and W, formed at 280 to 450°C film-deposition temperature and comprising a plurality of magnetic crystal particles separated by grain boundaries, wherein the additive component and chromium are segregated in the grain boundaries.例文帳に追加

Ｃｏと、Ｐｔと、Ｃｒと、Ｍｏ及びＷのうち少なくとも１つの添加成分とを含有し、２８０〜４５０℃の成膜温度で形成され、結晶粒界に隔てられた複数の磁性結晶粒子を含む構造を有し、添加成分とクロムとが結晶粒界中に偏析された垂直磁性層をもつ垂直磁気記録媒体。 - 特許庁

In the device 1, the body 2 is provided with a liquid reservoir 9 into which the liquid is introduced, a liquid delivery flow path 10 being open to the workpiece W and extending to a position higher than the chamber 9, and a liquid flow path 12 through which the upper end of the chamber 9 communicates with the upper end of the path 10.例文帳に追加

このノズル装置１において、ノズル体２は、処理液が導入される液溜め室９と、被処理物Ｗ上に対峙して開口され、該開口端から液溜め室９より高い位置まで延設された液吐出流路１０と、液溜め室９の上端部と液吐出流路１０の上端部とを連通する液流路１２とを備えてなるものである。 - 特許庁

When an operator inputs the kind of an IC card to a control processor 50, a disk 39 is turned to set a reader/writer 31 fitting the IC card so as to be turned in the direction toward an issue processing area 24, and an R/W device shifting part 35 adjusts the distance H between the reader-writer and the IC card 60 to be a prescribed distance.例文帳に追加

作業者がＩＣカードの種類を制御処理装置５０に入力すると、円盤３９が回転されて、そのＩＣカードに適合するリード／ライタ装置３１が発行処理領域２４の方向に向くようにセットされ、Ｒ／Ｗ装置移動部３５により、リード／ライタ装置とＩＣカード６０の距離Ｈが所定の距離になるように調整される。 - 特許庁

The cleaning nozzle 1 is constituted so that the distance W between the elastic deformation part 31 and the cam surface 42 is changed by rotating the cam ring 41, and the elastic deformation part 31 is brought into contact with the cleaning solution S ejected from the ejection port 211 by sliding the slide member 5 in the diameter direction B to change the ejection condition of the cleaning solution S.例文帳に追加

洗浄用ノズル１は，カムリング４１を回動させて弾性変形部３１とカム面４２との間の距離Ｗを変化させ，スライド部材５を径方向Ｂにスライドさせて弾性変形部３１を噴出口２１１から噴出される洗浄液Ｓに接触させて，洗浄液Ｓの噴出状態を変更できるよう構成されている。 - 特許庁

The display device is attached to a wall cabinet WC installed on the upper side of an opening part Ww in a partition wall W, and is provided with a display panel 10 hanging from the bottom face of the wall cabinet WC, and a support member 20 for supporting this display panel 10 onto the bottom face of the wall cabinet WC so that it can be turned at the top part.例文帳に追加

間仕切壁Ｗにおける開口部Ｗｗの上側に設置された吊り戸棚ＷＣに取り付けられており、吊り戸棚ＷＣの下面から垂下する表示パネル１０と、この表示パネル１０を、その上端部において、回動可能に吊り戸棚ＷＣの下面に支持する支持部材２０とを備えている。 - 特許庁

In the welding tip holding device, a holder member 110 is attachably/detachably provided to the tip end of the welding gun 200 constituted of one of electrodes for performing the welding with a work W held therebetween, a tapered fitting hole 120 is formed on a part of the holder member 110, and a shank member 220 for holding the welding tip 210 is fitted to the tapered fitting hole 120.例文帳に追加

被溶接材Ｗをはさんで溶接する電極の一つから成る溶接ガン２００の先端にホルダ部材１１０を着脱自在に設ける一方、このホルダ部材１１０の一部にテ−パ付き嵌合孔１２０を形成し、このテ−パ付き嵌合孔１２０に溶接チップ２１０を保持するシャンク部材２２０を嵌合装着させて成るものである。 - 特許庁

This object detection device 1 is equipped with a light emitting element 2 for irradiating an detection domain with light, a light receiving element 3 for receiving reflected light reflected by a detection object W placed in the detection domain, a rotation driving means 4 for rotating the light receiving element 3, and a detection means 5 for detecting the intensity of the reflected light received by the light receiving element 3.例文帳に追加

物体検知装置１は、光を被検知領域に照射する発光素子２と、被検知領域にある被検知物Ｗから反射された反射光を受光する受光素子３と、受光素子３を回転させる回転駆動手段４と、受光素３子により受光された反射光の強度を検知する検知手段５とを備える。 - 特許庁

In one embodiment, the lamp assembly includes: a bulb enclosing at least one radiation generating filament attached to a pair of leads; a lamp base configured to receive the pair of leads; a sleeve having a wall thickness of at least about 0.013 inches; and a potting compound having a thermal conductivity greater than about 100 W/(K-m).例文帳に追加

一実施形態において、このランプアセンブリは、一対のリードに取り付けられた少なくとも１つの放射発生フィラメントを包囲する電球と、一対のリードを受け入れるように構成されたランプベースと、壁厚が少なくとも約０．０１３インチのスリーブと、熱伝導率が約１００Ｗ／（Ｋ−ｍ）より大きいポッティングコンパウンドとを備えている。 - 特許庁

The flame-retardant finishing agent is composed of a water dispersion or O/W type emulsion containing one or more organophosphorus compounds and one or more heat-decomposition type organic chemical foaming agents, preferably in an amount of 5-45 wt.% based on total amount of the foaming agents and the organophosphorus compounds.例文帳に追加

１種または２種以上の有機リン系化合物と、１種または２種以上の熱分解型有機系化学発泡剤とを含有する水分散体またはＯ／Ｗ型エマルションからなる難燃加工剤を用い、好ましくは、上記発泡剤を有機リン系化合物との合計量中５〜４５重量％の割合で含有するものとする。 - 特許庁

Regularly reflected light (distance measuring regularly reflected light L) of the laser beams L on the surface of the work W (measuring object) is converged by a convergent lens 23 arranged in a position linearly symmetric with the collimator lens 22 across a collimator lens 17, and radiated onto the imaging surface of an imaging device 24 through a reflecting mirror 24 and a polarization beam splitter 14.例文帳に追加

ワークＷ（測定対象物）の表面における距離測定用レーザ光Ｌの正反射光（距離測定用正反射光Ｌ）は、コリメータレンズ１７を挟んでコリメータレンズ２２と線対称の位置に配された収束レンズ２３によって収束され、反射ミラー２４及び偏光ビームスプリッタ１４を介して撮像素子２４の撮像面上に照射される。 - 特許庁

Every time the plunger 14 is raised, the molten resin film W adhering to the outer circumferential surface of the plunger 14 is peeled by a peeling edge 20 formed at an inner margin of a through-hole in the molten resin peeling circular ring 16 and the peeled resin is radially discharged through a molten resin film discharging outlet portion 23 to the outside.例文帳に追加

プランジャ１４の上昇毎に前記プランジャ１４の外周面に付着している溶融樹脂膜Ｗは溶融樹脂剥離用環状リング１６における貫通穴の内縁に形成された剥離用エッジ２０により剥離され、この剥離した樹脂は、各溶融樹脂膜排出口部２３を通して、外部へ放射状に排出される。 - 特許庁

The second cutting acting part 12 is provided at the front edge with a blade 14 to be led into the wire W when cutting, and the overall shape of the edge of the blade is made so that the edge position retreats gradually from the base end forming the shaft 4 side toward the forefront in the extensional direction of the second cutting acting part 12.例文帳に追加

また、第２切断干渉部１２の前縁には前記切断時にワイヤＷに対して切り込むための刃部１４を設けて、当該刃部の刃先の全体形状を前記第２切断干渉部１２の延設方向において支軸４側となる基端側から先端側に向かうほど刃先位置が次第に後退するような形状とする。 - 特許庁

The curable composition is used for adhering a heat conductor 2 having thermal conductivity of ≥10 W/m-K to an electroconductive layer 4 when a chip-on-board optical semiconductor device 1 is obtained in which an optical semiconductor element 5 is directly mounted on the electroconductive layer 4 of a board having the heat conductor 2 and the electroconductive layer 4 instead of using a package.例文帳に追加

本発明に係る硬化性組成物は、パッケージを用いずに、熱伝導体２と導電層４とを有する基板の導電層４上に光半導体素子５を直接搭載したチップオンボード方式の光半導体装置１を得る際に、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である熱伝導体２を導電層４に接着するために用いられる。 - 特許庁

The transparent film is returned to a usual transport passage 16 through a transport passage 12 for both side output and a white substrate W from the special paper feed cassette 101 transported through the transport passage 16 is superimposed with a resist roller 4 so that it comes in contact with a surface of the transparent film on which the toner image has been transferred/fixed, whereby a superimposed sheet is obtained.例文帳に追加

この透明フィルムを両面出力用の搬送路１２を利用して通常の搬送路１６に戻し、この搬送路１６によって搬送されてきた専用給紙カセット１０１からの白色基体Ｗを、透明フィルムのトナー像が転写・定着された面に接するようにレジストローラ４で重ね合わせて重合シートとする。 - 特許庁

In grinding work parts Wa-Wd at a plurality of positions on a long workpiece W by a plurality of grinding wheels 23A and 23B, outer diameter size of each work part Wa-Wd is measured by measuring devices 32A and 32B, and the grinding wheels 23A and 23B are driven under control for shape error compensation based on the result of measurement.例文帳に追加

長尺状のワークＷ上の複数箇所の加工部分Ｗａ〜Ｗｄを複数の砥石車２３Ａ，２３Ｂにより研削加工する際に、各加工部分Ｗａ〜Ｗｄの外径寸法を測定装置３２Ａ，３２Ｂにより測定して、その測定結果に基づいて各砥石車２３Ａ，２３Ｂの形状誤差補償しながら駆動制御する。 - 特許庁

In the film deposition method where a gaseous starting material and a support gas are fed into a treatment vessel 14 capable of evacuation to deposit a thin film on the surface of a work W, the gaseous starting material and the support gas are alternately and continuously fed for a plurality of times, respectively at the different timing to deposit the thin film.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器１４内に原料ガスと支援ガスとを供給して被処理体Ｗの表面に薄膜を堆積させる成膜方法において、前記原料ガスと前記支援ガスとを互いに異なるタイミングで交互に且つ連続的に互いに複数回供給して前記薄膜を堆積させるようにする。 - 特許庁

The whole FPC incorporates a single conductive layer, a rectangular opening part 46 is surrounded by hologram U-form bending portions 40 and land terminals 44, the opening width of the opening part 46 along the direction W is wider than the thickness of the hologram units, and the hologram units are connected by turning up the hologram U-form bending portions in a U-form.例文帳に追加

ＦＰＣ全体は内部に単一の導電層を内蔵し、ホログラムＵ字折曲げ部４０とランド端子４４とで囲まれた矩形の開口部４６を形成し、方向Ｗに沿った開口部４６の開口幅はホログラムユニットの厚みよりも広く形成して、ホログラムＵ字折曲げ部４０をＵ字状に折り返してホログラムユニットを接続した。 - 特許庁

The head width ratio WR/WW of a read head width WR to a write head width WW is obtained by using read/write offset RWoffset between a read head R and a write head W, and the servo information is written in a magnetic disk 2 by an APC obtained on the basis of the obtained head width ratio WR/WW and a track pitch TP.例文帳に追加

リード・ヘッドＲとライト・ヘッドＷとの間のリード・ライト・オフセットＲＷｏｆｆｓｅｔを利用してリード・ヘッド幅ＷＲとライト・ヘッド幅ＷＷとのヘッド幅比ＷＲ／ＷＷを求め、求められたヘッド幅比ＷＲ／ＷＷに基づいて得られたＡＰＣおよびトラック・ピッチＴＰによって磁気ディスク２にサーボ情報を書き込む。 - 特許庁

After a winding tube 2 is wound spirally around the outer circumference of a plurality of core tubes 1, 1 of a specified length, these core tubes 1, 1 are connected while being arranged in parallel through U-shaped connecting tubes 4, 4 to constitute a series of water passages W and the winding tubes 2 are connected through a joint 2a to constitute a series of refrigerant passages K.例文帳に追加

所定長さの複数の芯管１，１・・の外周に、巻管２を螺旋状に巻き付けた後、これらの芯管１，１・・を平行に並べた状態でＵ字状の接続管４，４・・を介して接続して一連の水通路Ｗを構成するとともに、前記巻管２を接続部２ａを介して接続して一連の冷媒通路Ｋを構成するようにしている。 - 特許庁

The electric resistance value of the transparent conductive film is measured by reciprocating this noncontact type electric resistance measuring device 2 on a scanning route above the interval W between both ends of the substrate, by setting the scanning route Y in the orthogonal direction to the conveyance route X of the substrate on a parallel plane to the substrate surface at a fixed distance D over the substrate 10 surface.例文帳に追加

基板１０の面上方で一定の距離Ｄを保った、基板面と平行な面内で、基板の搬送路Ｘと直角な方向を走査路Ｙとし、基板の両側端間Ｗ上方の該走査路上に非接触型の電気抵抗測定装置２を往復動させ透明導電膜の電気抵抗値を測定すること。 - 特許庁

The method for electric discharge machining includes steps of applying rotation vortex motion to a machining liquid 6 containing impurities to coagulate the impurities and make them coarse, removing the impurities by filtering, and thereafter electric-discharge-machining with the filtered machining liquid 6 placed in a gap between an electrode 7 and a workpiece W.例文帳に追加

本発明に係る放電加工方法は、不純物が含まれる加工液６に回転渦運動を与えて、前記不純物を凝集させて粗大化し、これを濾過処理により除去した後に、前記濾過処理が施された加工液６を、電極７とワークＷとの間隙に介在させて放電加工を行うことを特徴とする。 - 特許庁

This device 1 for measuring workpiece characteristic is equipped with a conveyance table 3 having a workpiece storage hole 4, a pair of probes 7, 6 capable of abutting on electrodes Wa, Wb of the workpiece W stored in the workpiece storage hole 4, a conveyance body driving device 3a of the conveyance table 3, and a probe driving mechanism 12 for driving one probe 7.例文帳に追加

ワーク特性測定装置１は、ワーク収納孔４を有する搬送テーブル３と、ワーク収納孔４内に収納されたワークＷの電極Ｗａ、Ｗｂに当接可能な一対のプローブ７、６と、搬送テーブル３の搬送体駆動装置３ａと、一方のプローブ７を駆動させるプローブ駆動機構１２とを備えている。 - 特許庁

In the liquid crystal panel having a liquid crystal layer sealed between a pair of substrates W with alignment films formed thereon, the alignment film comprises an oblique vapor deposition film of an inorganic material, and is formed by depositing a second vapor deposition film 4b on a first vapor deposition film 4a, with the orientation directions of the vapor deposited particles 4 perpendicular to each other.例文帳に追加

配向膜が形成された一対の基板Ｗ間に液晶層を封止してなる液晶パネルにおいて、その配向膜が、無機材料の斜方蒸着膜からなると共に、第１の蒸着膜４ａ上に第２の蒸着膜４ｂを積層してなるもので、各蒸着分子４の配向方向が略垂直となるように積層されている。 - 特許庁

This substrate processing apparatus includes a processing chamber 36, a carrier roller 42 to horizontally carry the substrate W in the processing chamber, a spray nozzle 44 to discharge etching liquid 48 to the top of the substrate carried by the carrying roller, and a gas discharge nozzle 52 to discharge cold air or warm air to a required region on the top of the substrate carried by the carrier roller.例文帳に追加

処理チャンバ３６と、処理チャンバ内で基板Ｗを水平方向へ搬送する搬送ローラ４２と、搬送ローラによって搬送される基板の上面へエッチング液４８を吐出するスプレーノズル４４と、搬送ローラによって搬送される基板上面の所要領域に対して冷風または温風を吐出する気体吐出ノズル５２とを備える。 - 特許庁

A styrene derivative is reacted with carbon monoxide in the presence of a palladium compound catalyst and a catalyst comprising a heteropoly acid or an oxoacid containing an element of P or Si and an element selected from V, Mo and W, to obtain the 1(4H)-naphthalenone derivative represented by formula (2) (wherein, R^1 to R^5 indicate each hydrogen or a group containing a nonmetal element).例文帳に追加

パラジウム化合物触媒と、ヘテロポリ酸若しくはＰ又はＳｉの元素と、Ｖ、Ｍｏ及びＷから選択された元素とを含むオキソ酸からなる触媒の存在下、スチレン誘導体を一酸化炭素と反応させて、式（２）（Ｒ^１〜Ｒ^５は水素又は非金属原子含有基を示す）で表される１（４Ｈ）−ナフタレノン誘導体を得る。 - 特許庁

Even if one heating and cooling unit PHP is removed when three coating units RESIST for resist film, two heating and cooling units PHP and one cooling unit CP are being used as processing units, for example, the substrate W can be processed in the predetermined order by the remaining processing units under use.例文帳に追加

たとえば、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰおよび冷却ユニットＣＰをそれぞれ３台、２台、１台使用しているところ、１台の加熱冷却ユニットＰＨＰを使用処理部から外れた場合であっても、残っている使用処理部によって、所定の順番で基板Ｗに処理を行うことができる。 - 特許庁

In this heat exchanger 100, cooling water Wc supplied to a heat exchange part 110 and air Ah flowing into the heat exchange part 110 are brought into contact with each other to perform heat exchange.The heat exchanger 100 includes a spray part 130 for spraying cooling water W(Wh) to the air Ah immediately before it flows into the heat exchange part 110 to thereby cool the air.例文帳に追加

熱交換部１１０に供給された冷却水Ｗｃと熱交換部１００に流入させた空気Ａｈとを接触させて熱交換する交換器１００において、熱交換部１１０に流入する直前の空気Ａｈに対して冷却水Ｗ（Ｗｈ）を噴霧して冷却するスプレー部１３０を備える。 - 特許庁

This device is provided with a washing component 1 having an elastic deformation plate 11 disposed oppositely to the surface of the substrate W and plural piezoelectric elements 15 for generating surface acoustic waves toward the plate 11 and a signal imparting part for giving signals in described order to the elements 15 to make the plate 11 generate a traveling wave.例文帳に追加

基板Ｗの表面に対向して配設された弾性変形板１１と、弾性変形板１１に対して弾性表面波を発生させるための複数個の圧電素子１５とを有する洗浄具１と、圧電素子１５に対して所定の順序で信号を与えて弾性変形板１１に進行波を発生させる信号付与部とを備える。 - 特許庁

The article pickup device 20 of the vending machine equipped with an article receiving box 21 which receives the article W carried out of the machine while facing an article pickup opening 14 in the front is equipped with a block material 23 which projects from nearby a lower edge of the article pickup opening 14 into the article receiving box 21.例文帳に追加

前面に開口する商品取出口１４を臨む態様で、機内から搬出された商品Ｗを受け止めるための商品受け箱２１を備えた自動販売機の商品取出装置２０において、商品取出口１４の下縁部近傍から商品受け箱２１の内部に突出した態様のブロック材２３を備えたものである。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with the interlayer insulating film 101; another interlayer insulating film 103 provided on the laminate; and the conductive plug penetrating through the interlayer insulating film 103 and the etching adjusting film 115 while being constituted of the other Ti film 117, the other TiN film 119, and a W film 121, and whose end surface is positioned in the TiN film 113.例文帳に追加

半導体装置は、層間絶縁膜１０１および積層体上に設けられている層間絶縁膜１０３と、層間絶縁膜１０３およびエッチング調整膜１１５を貫通し、端面がＴｉＮ膜１１３中に位置しているＴｉ膜１１７、ＴｉＮ膜１１９およびＷ膜１２１からなる導電プラグと、を備える。 - 特許庁

The electrostatic attraction table 64 of the vacuum treatment equipment 1 set with the conductive work W having a through-hole Wa has a table body 64a built in with an electrostatic attraction mechanism 70 and a protection sheet 5 composed of either of an insulating material or a semiconductor material.例文帳に追加

貫通孔Ｗａを有する導電性のワークＷがセットされる真空処理装置１の静電吸着テーブル６４において、上部に静電吸着機構７０を組み込んだテーブル本体６４ａと、テーブル本体６４ａの上面に敷設され、絶縁性材料および半導体材料のいずれかで構成された保護シートＳと、を有している。 - 特許庁