「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(222ページ目) - Weblio英語例文検索

In a plate bending machine provided with a lower die 2 having a V groove and an upper die 1 engaging the V groove of the lower die, an angle detection apparatus 3 to detect each of bending angles at front/rear is provided in the upper die, and an arithmetic means is provided to calculate a bending angles θ of a work W based on the bending angles at front/rear.例文帳に追加

Ｖ溝を備えた下型２と該下型のＶ溝に係合する上型１とを備えた板材折曲げ加工機において、前記上型内部に前後それぞれの折曲げ角度を検出する角度検出装置３を設け、該前後の折曲げ角度に基づいて被加工材Ｗの折曲げ角度θを算出する演算手段を設けたことを特徴とする板材折曲げ加工機における折曲げ角度検出装置。 - 特許庁

In the method for producing hydrogen by hydrolyzing hydride (8) in a hermetically sealable vessel (2), the hydride (8) and water (W) are separated from each other by a member formed from a water repellent steam permeable material (7) at least a part of which has steam permeability and water molecule permeated through the water repellent steam permeable material (7) is reacted with the hydride (8) to produce hydrogen.例文帳に追加

密閉可能な容器（２）内で、水素化物（８）を加水分解させて水素を発生させる方法であって、前記水素化物（８）と水（Ｗ）とを、少なくとも一部が水蒸気透過性を有する撥水性水蒸気透過材（７）で形成されている部材によって隔離すると共に、該撥水性水蒸気透過材（７）を透過してくる水分子と前記水素化物（８）と反応させて水素を発生させるものである。 - 特許庁

The plating method comprises the first step of wetting the concave 80 shaped on the surface to be plated of the workpiece W with deionized water 82 by contacting the surface with the deionized water 82, and the second step of forming a copper film on the surface to be plated of the workpiece in wetting condition with an electroplating after immersing the workpiece in a plating solution 14.例文帳に追加

本発明のめっき方法は、被処理体Ｗの被成膜面に純水８２等を付着させ、被処理体の成膜面に形成された凹部８０の内面を純水８２により濡らす第１ステップと、この第１ステップの後、被処理体の被成膜面が濡れた状態にて、被処理体をめっき液１４に浸漬し電解めっき法により被処理体の被成膜面に銅膜を成膜する第２ステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The transfer carrier is capable of changing direction 180 degrees without a dead space such as a U-turn, and the delivery stations S_1, S_2 of the transfer carrier are arranged at the two sides of the dead-end in a passage W and load delivering can be carried out in either delivery station even if the load delivering direction is fixed to one direction.例文帳に追加

搬送台車ＶがＵターンする場合のようなデッドスペースを必要としないで搬送台車Ｖの向きを１８０度変えることが可能となり、また、搬送台車Ｖの受渡しステーションＳ_1 、Ｓ_2 が通路Ｗにおける行き止まり地点の両側にあってその積荷の受渡し方向が１方向に固定されている場合でも、どちらの受渡しステーションにおいても積荷の受渡しを行うことができる。 - 特許庁

The information distribution server 21 reads out the user's address data of a user registered in relation to the user identification data from an address database 22, reads out the distribution information data of an information providing source registered in relation to the R/W part identification data from an distribution information database 23 and distributes the distribution information data to a portable terminal 30 specified by the user's address data.例文帳に追加

この情報配信サーバ２１は、アドレス用データベース２２からユーザ識別データと関連付けられて登録されている利用者の利用者アドレスデータを読み出し、また、配信情報データベース２３からＲ／Ｗ部識別データと関連付けられて登録されている情報提供元の配信情報データを読み出し、利用者アドレスデータで特定される携帯端末３０へ配信情報データを配信する。 - 特許庁

To prevent color mixing in a drawing device of a trailing stage due to a solvent of functional liquid, sticking on a bank part surrounding a pixel area, in a drawing device of a precedent stage on a drawing operation line for partially applying the functional liquid by respective drawing operations to many pixel areas on a work W by successively providing drawing devices equipped with droplet discharge heads through a work conveying device.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドを備える描画装置の複数台をワーク搬送装置を介して連設し、ワークＷ上の多数の画素領域に各描画装置で分担して機能液を塗布するようにした描画作業ラインにおいて、画素領域を囲うバンク部に前段の描画装置において付着した機能液の溶剤に起因して後段の描画装置で混色を生ずることを防止する。 - 特許庁

When measurement values by the measurement devices 32A and 32B for preceding work parts Wa-Wd in grinding work among the work parts Wa-Wd at the plurality of positions in the workpiece W become prescribed values, grinding work to the preceding work parts Wa-Wd is temporarily stopped to wait till the measurement values by the measuring devices 32A and 32B for succeeding work parts Wa-Wd become the prescribed values.例文帳に追加

ワークＷの複数箇所の加工部分Ｗａ〜Ｗｄのうちで、研削加工の先行する加工部分Ｗａ〜Ｗｄにおける測定装置３２Ａ，３２Ｂの測定値が所定値になったとき、その先行加工部分Ｗａ〜Ｗｄの研削加工を一時中止して、研削加工の後続する加工部分Ｗａ〜Ｗｄにおける測定装置３２Ａ，３２Ｂの測定値が所定値になるのを待つ。 - 特許庁

The heating apparatus 10 includes a cylindrical storage member 12 which accommodates the heated subject W, a cylindrical heater 13 which is arranged with space V from the periphery 12a of the storage member 12, and a blasting fan 14 which generates an air current R in a fixed direction which parallels the direction of the axis 12c within the storage member 12, in a casing 11 made of a heat radiating material 11a.例文帳に追加

加熱装置１０は、断熱材１１ａで形成されたケーシング１１内に、被加熱物Ｗを収容する円筒状の収容部材１２と、収容部材１２の外周面１２ａから隙間Ｖを隔てて配置された円筒状発熱体１３と、収容部材１２内にその軸心１２ｃ方向に沿った一定方向の気体流Ｒを発生させる送風ファン１４と、を備えている。 - 特許庁

This method for forming a metal-atom-containing film on a substrate comprises converting a reactive gas containing metal atoms to a plasma state, by supplying an electric power of 1 W/cm2 or higher with a high-frequency higher than 100 kHz in between two facing electrodes, and discharging them under atmospheric pressure or similar pressure; and exposing the substrate to the reactive gas in the plasma state.例文帳に追加

大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する２種の電極間に、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、且つ、１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力を供給して放電させることにより、金属原子を含む反応性ガスをプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に、金属原子含有膜を形成する。 - 特許庁

In the apparatus for producing the semiconductor single crystal, a forced cooling tube 11 for circulating a cooling fluid W is arranged above a raw melt so as to surround the semiconductor single crystal 3 being pulled from the raw melt stared in a crucible, and the single crystal is grown by a Czochralski method while removing radiant heat from the semiconductor single crystal 3 by the forced cooling tube 11.例文帳に追加

半導体単結晶の製造装置は、原料融液の上方において、ルツボに収容した原料融液から引き上げられる半導体単結晶３を取り囲む形で、冷却流体Ｗを流通させる強制冷却筒１１が配置され、強制冷却筒１１により引き上げた半導体単結晶３からの輻射熱を除去しつつチョクラルスキー法により単結晶を育成するものである。 - 特許庁

In the yellow pigment-containing W/O emulsion ink, an aluminum chelate compound and a polyglycerin fatty acid ester are incorporated and preferably, the yellow pigment is an acetoacetic arylide based disazo and more preferably, a nonvolatile mineral oil having a naphthene component content Cn in the carbon distribution by ring analysis of ≥35% and, at the same time, a paraffin component content Cp of ≤50% is incorporated.例文帳に追加

黄顔料を含有するＷ／Ｏエマルションインキにおいて、アルミニウムキレート化合物とポリグリセリン脂肪酸エステルを含有させ、好ましくは前記黄顔料がアセト酢酸アリリド系ジスアゾであり、更に好ましくは環分析による炭素分布におけるナフテン成分の含有量が３５％Ｃｎ以上、且つパラフィン成分の炭素の含有量が５０％Ｃｐ以下である不揮発性の鉱物油を含有させる。 - 特許庁

In a sheet conveyance method for feeding the sheet raw material extruded from the extruder 10 to the molding apparatus 70, the sheet raw material in an amount approximately corresponding to one molding W to be molded by the molding apparatus 70 is extruded by the extruder 10, and the sheet raw material is separated from the molten resin left on the extruder side and conveyed to the molding apparatus 70.例文帳に追加

溶融樹脂の押出し装置１０からシート状に押し出されるシート素材を成形装置７０に送り込むためのシート搬送方法であって、前記押出し装置１０により、前記成形装置７０で成形される成形品Ｗの１個分にほぼ相当する量のシート素材を押し出すとともに、このシート素材を押出し装置側に残っている溶融樹脂から分断して前記の成形装置７０に搬送する。 - 特許庁

The circulation pipe 9 is equipped with a meandered or spirally formed stock piping part 11 for storing a predetermined quantity of water in the proximity of an evaporator 10a constituting a cooling means 10, a driving pump 12 for sucking and circulating drinking water in a drinking water container 2, and a spout 15 for warm water Hw or cold water W via a filter 13 and the valve 14.例文帳に追加

この循環配管９には、冷却手段１０を構成するエバポレーター１０ａに近接して一定の水量を保管する蛇行状または渦巻き状に形成されたストック配管部１１と、飲料水容器２内の飲料水を吸引及び循環させる駆動ポンプ１２と、フィルター１３と電磁切り替え弁１４を介して温水Ｈｗまたは冷水Ｗの注出口１５とがそれぞれ設置してある。 - 特許庁

An array substrate AR of the liquid crystal display comprises a color filter 81 formed to cover a plurality of thin film transistors W and a plurality of pixel electrodes EP formed on the color filter and connected to the respective thin film transistors in a display region DSP for displaying an image and a frame-shaped light shielding layer SP disposed ao as to enclose the display region in a peripheral region DCT of the display region DSP.例文帳に追加

液晶表示装置のアレイ基板ＡＲは、画像を表示する表示領域ＤＳＰにおいて、複数の薄膜トランジスタＷを覆って形成されるカラーフィルタ８１、及び、カラーフィルタ上に形成され各薄膜トランジスタに接続される複数の画素電極ＥＰを含み、表示領域ＤＳＰの周辺領域ＤＣＴにおいて、表示領域を囲むように配置された枠状の遮光層ＳＰを含む。 - 特許庁

Relating to a silicon carbide composite body wherein aluminum or an alloy mainly consisting of aluminum is impregnated in a porous silicon carbide molding, it has thermal conductivity of ≥200 W/mK, concretely the content of oxygen is ≤1.1 weight %, and a volume ratio of silicon carbide in the silicon carbide composite body is ≥50%.例文帳に追加

多孔質炭化珪素成形体にアルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金を含浸してなる炭化珪素質複合体であって、２００Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導率を有することを特徴とする炭化珪素質複合体であり、具体的には、酸素含有量が１．１重量％以下であり、炭化珪素複合体中の炭化珪素の占める体積割合が５０％以上である前記の炭化珪素質複合体。 - 特許庁

The equipment for cleaning a semiconductor substrate such as a wafer (W) comprises a processing chamber 100, a rotatable supporting section 200 arranged in the processing chamber 100 and being arranged with the semiconductor substrate, a nozzle 400 for supplying organic solvent, and a dry gas supply nozzle 500 for supplying organic solvent in vapor state into the processing chamber.例文帳に追加

ウェーハ（Ｗ）などの半導体基板を洗浄する装置であって、処理室１００と、前記処理室内１００に配置され、前記半導体基板を配置するための回転可能な支持部２００と、有機溶剤を供給するための有機溶剤供給ノズル４００と、前記処理室内に蒸気状態の有機溶剤を供給するための乾燥ガス供給ノズル５００と、を含むことを特徴とする洗浄装置。 - 特許庁

In addition, transporting means for a work w are disposed in the positions before and behind the annular liquid chamber 7 across the chamber so as to pass the work through the central inside hole of the annular liquid chamber 7.例文帳に追加

外部から適当圧力の液剤を供給される環形液室７を形成すると共に、この液室７の内周室壁の周方向部位の全周囲に、環形液室７内の液剤を該液室の中心部へ向けてカーテン状に噴出させるための液通路用スリット８を形成したものとなし、且つ該環形液室７を挟んでその前後位置に環形液室７の中心内孔を通過させるよう被処理材ｗの搬送手段を配設する。 - 特許庁

The production process consists of a stage for depositing an aq. soln. contg. an NOx occluding material in a dispersion medium along with a surfactant to form a W/O microemulsion, a stage for forming the precipitate of the NOx occluding material in the medium and a stage for mixing the precipitate and the raw material for the carrier and calcining the mixture to deposit the NOx occluding material on the carrier.例文帳に追加

その製造方法は、ＮＯx 吸蔵材を含む水溶液を界面活性剤と共に分散媒中に分散させてＷ／Ｏマイクロエマルジョンを作成する工程と、そのＷ／Ｏマイクロエマルジョン中で前記ＮＯx 吸蔵材の沈殿物を作成する工程と、そのＮＯx 吸蔵材の沈殿物を前記担体の原料と混合して焼成することによりＮＯx 吸蔵材を担体に担持させる工程とを備えている。 - 特許庁

This O/W emulsion type moisture-retaining coat cosmetic which forms coating films at the final time of makeup operation and is high in moisture effect-retainability comprises a polymer or copolymer containing 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine as a constituting monomer, a starch-acrylic acid block copolymer, and an oil agent containing a hydrocarbon and/or wax solid at 20°C in an amount of 70 to 90 mass%.例文帳に追加

２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを構成モノマーとする重合体乃至は共重合体、デンプン・アクリル酸ブロック重合体、さらには２０℃で固体である炭化水素類及び／又はロウ類を油剤中に７０〜９０質量％含有させることにより、化粧動作の最後に保湿性を有する皮膜を形成する、保湿効果の持続性の高いＯ／Ｗ乳化型保湿コート化粧料が得られた。 - 特許庁

Waveform sections 41a to 41e or 41f to 41j in a time range corresponding to a W value are extracted from an input waveform 40a or 40b at intervals of a period corresponding to the frequency Hz of tuning object, composed of finer resolution than the display update period, and binary information showing periodicity of waveforms 41a to 41e or 41f to 41j in respective sections is generated.例文帳に追加

入力波形４０ａ又は４０ｂから、表示更新周期よりも細かい分解能からなる調律対象周波数Ｈｚに応じた周期毎に、Ｗ値に応じた時間範囲にわたる波形区間４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊを抽出し、抽出された各区間毎の波形４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊの周期性を示す２値の表示情報を作成する。 - 特許庁

The substrate has in one body an array surface provided with a plurality of recessed grooves 24 and two support surfaces disposed across it and the respective recessed grooves 24 of the array surface is gradually increased in width (w) at the same depth from the highest position of the array surface at both end positions on sides of the two support surfaces as both the end part positions approach the corresponding support surfaces.例文帳に追加

複数の凹溝２４が設けられた整列面と、それを挟んだ両側に位置する二つの支持面とを一体的に有する基板における整列面の各凹溝２４を、二つの支持面側の両端部部位における、整列面の最高位置から同一の深さ位置の幅：ｗが、それら両端部部位が各々対応する支持面に近づくに従って、それぞれ漸増せしめられるように構成した。 - 特許庁

A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material.例文帳に追加

シリコン基板Ｗよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール５を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜６を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁

Sashes 1 provided respectively at ends 2a of the plate-shape bodies 2 in a flat layed state are formed so as to have such a width W that four fingers except a thumb of one hand or eight fingers except thumbs of both hands may be latched and to be positioned on a virtual straight line X where its center O passes through the center G of gravity of the plate-shaped body 2.例文帳に追加

平置き状態をなす板状体２の対向せる端面２ａに夫々設けられる手掛け１が、多くとも片手の親指を除く４指、又は、両手の親指を除く８指が係止可能な幅Ｗに形成されるとともに、その中心Ｏが前記板状体２の重心Ｇ上を通過せる仮想直線Ｘ上に位置してなる。 - 特許庁

The herbicide composition in the O/W super-minute emulsion contains (a) an alkylene oxide derivative represented by formula (I) [e.g. polyoxyethylene (10 mol) polyoxypropylene (10 mol) dimethyl ether], (b) a herbicidal active ingredient, (c) a hydrophilic nonionic surfactant, (d) a lipophilic nonionic surfactant and (e) water, and has 10-500 nm average emulsion particle diameter.例文帳に追加

（ａ）下記（Ｉ）式で示されるアルキレンオキシド誘導体（例えば、ポリエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジメチルエーテル）と、（ｂ）除草活性成分と、（ｃ）親水性非イオン性界面活性剤と、（ｄ）親油性非イオン性界面活性剤と、（ｅ）水とを含有し、平均乳化粒子径が１０〜５００ｎｍであることを特徴とするＯ／Ｗ超微細エマルション除草剤組成物。 - 特許庁

In this calibrating method, the positions of mirrors 30a-30c are measured by a measuring unit 20, the work origin coordinates RefW set for a work W are obtained, an end effector 16 of a working robot 14 is operated at arbitrary three points, the positions of the three points are measured by the measuring unit 20, and converted to the positions with reference to the work origin coordinates system RefW.例文帳に追加

測定機２０によりミラー３０ａ〜３０ｃの位置を測定し、ワークＷに設定したワーク原点座標ＲｅｆＷを求め、次いで、作業ロボット１４のエンドエフェクタ１６を任意の３点に動作させ、測定機２０によりその３点の位置を測定し、ワーク原点座標系ＲｅｆＷを基準とする位置に変換する。 - 特許庁

The rigidity of a first corrugated tube 11 near the outlet section 14a of the protector 14 of a wire harness W/H sheathed in the tube 11 is increased by attaching a shorter second corrugated tube to the outside of the tube 11 to an outside position of the tube 11 at a required distance from the output section 14a of the protector 14 through the outlet end of the protector 14.例文帳に追加

第１コルゲートチューブ１１を外装したワイヤハーネスＷ／Ｈのプロテクタ１４の出口部１４ａ付近より出口端を通して所要寸法外部の位置まで、第１コルゲートチューブ１１の外側に短尺な第２コルゲートチューブを取り付けて、第１コルゲートチューブ１１のプロテクタ１４の出口部１４ａ付近の剛性を高めている。 - 特許庁

The outside diameter of each of journal portions 33 to 35 integrally formed on the driving shaft is set to be smaller than the inside diameter of a fitting hole 11c in a link arm, and each of axial distances L1 to L4 between adjacent journal portions is set so as to be larger than a cross length W of an annular portion 11a of the link arm.例文帳に追加

また、駆動軸に一体に設けられた各ジャーナル部３３〜３５の外径を、リンクアームの嵌合孔１１ｃの内径よりも小さく設定すると共に、駆動軸上における駆動カムを含めた隣接するジャーナル部間の軸方向の離間距離Ｌ１〜Ｌ４を、リンクアームの円環部１１ａの幅長さＷよりも大きく設定した。 - 特許庁

An ink color separation table is interpolated along lines connecting a W point to the other vertexes and a Bk point to the other vertexes in an RGB color space of an input color on the basis of data of ink color separation of primary colors and data of an inking point (S2 to S6), and subsequently, each surface is interpolated about a tetrahedron formed with the lines as a ridge line.例文帳に追加

入力色のＲＧＢ色空間において、原色のインク色分解のデータおよび墨入れポイントのデータに基づいて、Ｗ点とその他の頂点およびＢｋ点とその他の頂点とを結ぶ線に沿ってインク色分解テーブルを補間し（Ｓ２−Ｓ６）、その後、それら線を稜線とする４面体について、各面を補間する。 - 特許庁

In the determination of a text pixel, which difference out of differences between two pixels located on positions where a circle 12 having a radius equal to stroke width W around a pixel to be analyzed intersects with a row line, a column line and two lines having an 45° angle and the value of the pixel to be analyzed is larger than the relative threshold is examined.例文帳に追加

テキスト・ピクセルの決定は、分析されるピクセルについて、分析されるピクセルを中心としストローク幅Ｗに等しい半径を有する円１２が行線、列線、及び４５゜の角度を有する２つの線と交差する位置にある２つのピクセルの値と分析されるピクセルの値との差のいずれが相対しきい値よりも大きいかを検査する。 - 特許庁

In the metallic mold for molding glass consisting of at least a base material and a protective layer, the protective layer consists of at least one selected among Ir, Pt, Rh, Pd and Re and the total concentration of W, Co, Ni, Cr and Fe of a molding surface is not more than 1×10^17 atm/m^2.例文帳に追加

少なくとも母材および保護層からなるガラス成形用金型であって、前記保護層が、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、およびＲｅよりなる群より選択された少なくとも１つからなり、成形表面のＷ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ、およびＦｅの合計濃度が１×１０^17ａｔｍ／ｍ^2以下であることを特徴とするガラス成形用金型。 - 特許庁

The illumination optical system for illuminating the surface (M;W) to be irradiated with light from a light source (1) has a distribution forming optical system (3, 4, 7, 8) including an optical integrator (8) and forming the pupil intensity distribution on an illumination pupil behind the optical integrator, and a correction filter (9) arranged in an illumination pupil space including the illumination pupil behind.例文帳に追加

光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、上記後側の照明瞳を含む照明瞳空間に配置された補正フィルター（９）とを備えている。 - 特許庁

In forming a mother substrate W, light shielding films 6, 8 for shielding a laser beam are formed between a face on the electrode group 5 side of a TFT substrate 1 and the opposing substrate 2 and the electrode group 5, namely, an area (area slightly larger than the area opposing the electrode group 5) irradiated with the laser beam emitted to the TFT substrate 1 and the opposing substrate 2.例文帳に追加

マザー基板Ｗの生成時に、ＴＦＴ基板１および対向基板２の電極群５側の面と電極群５との間、つまり、ＴＦＴ基板１および対向基板２に照射されたレーザ光が当たる領域（電極群５に対向する領域より若干広い領域）にレーザ光を遮る遮光膜６、８を形成した。 - 特許庁

A belt body 5 used in the transport conveyor is formed from an aluminum alloy plate having a high thermal conductivity, and the surface of the belt body 5 is subjected to alumite processing for giving it anti-corrosiveness, resistance against corrosion, anti-abrasiveness, etc. or to an embossing process, surface asperity process, satin finishing, etc. for preventing the unvulcanized rubber member W from tight attachment.例文帳に追加

この発明に実施するベルト本体５は、熱伝導率が高いアルミ合金板により形成され、ベルト本体５の表面６には、防食性，耐食性，耐摩耗性等を目的としてアルマイト加工を施したり、また未加硫ゴム部材Ｗの密着防止を目的として、エンボス加工や凹凸加工、或いは梨地加工等を施してある。 - 特許庁

In a configuration structure of a wheel spindle stock 10 for rotationally supporting a grinding wheel 3 with respect to a swiveling table 22 of a swivel unit 11, a grinding wheel spindle 20 of the grinding wheel 3 rotatably supported by the wheel spindle stock 10 is arranged at a work table 1 side for rotationally supporting a workpiece W with respect to a turning shaft 22a of the swiveling table 22.例文帳に追加

砥石車３を回転支持する砥石台１０の旋回ユニット１１の旋回テーブル２１に対する配置構成は、砥石台１０に回転可能に軸承される砥石車３の砥石軸２０が旋回テーブル２１の旋回軸２１ａに対してワークＷを回転支持するワークテーブル１側となるように配置されている。 - 特許庁

This pad type journal bearing device of a load between type, shares and supports a load W of the rotary shaft 6 by lower half two pads 1 and 2 arranged inside a bearing inner race 4; and comprises an inclination restricting means 9 for restricting an inclination of the rotational upstream side pad 1 of the lower half two pads 1 and 2 in starting.例文帳に追加

軸受内輪４の内側に設けられた下半２枚のパッド１，２により回転軸６の荷重Ｗを分担して支持するロードビトゥイーン型のパッド型ジャーナル軸受装置において、起動時に前記下半２枚のパッド１，２のうち回転上流側パッド１の傾きを拘束する傾き拘束手段９を備えている構成とする。 - 特許庁

The solid-state imaging apparatus is provided with a pixel part 11 where cells CE for storing signal charges obtained by photoelectrically converting light made incident on a photodiode PD and outputting a voltage corresponding to the stored signal charge are two-dimensionally arranged in rows and columns on a semiconductor substrate, and filters of four colors W, R, G and B are respectively arranged on the cells.例文帳に追加

フォトダイオードＰＤに入射した光を光電変換して得た信号電荷を蓄積し、蓄積された信号電荷に対応する電圧を出力するセルＣＥが半導体基板上に行及び列の二次元的に配置された画素部１１を備え、セル上にはＷ，Ｒ，Ｇ，Ｂの４色フィルタがそれぞれ配置されている。 - 特許庁

In the electronic equipment 1, when a high-level first control signal is output by a control part 6, a direct clear input of a D flip-flop 12 becomes low level (a direct preset input is held at high level), while a W output becomes low level, and a switching element 11 is turned OFF to separate a secondary battery 2 from the load of the backup object.例文帳に追加

この電子機器１では、制御部６によりハイレベルの第１の制御信号が出力されると、Ｄフリップフロップ１２のダイレクトクリア入力がローレベルとなり（ダイレクトプリセット入力はハイレベルに保持される）、Ｑ出力がローレベルとなり、スイッチング素子１１がオフされて二次電池２がバックアップ対象の負荷から切り離される。 - 特許庁

In this unmanned guided vehicle having a car body 2 having a transfer port 6 for transferring an article (w), a rotary shaft 71 rotatably arranged above a car body 2 and a sheet 72 having one end fixed to the rotary shaft 71 and having the free end vertically movable by rotation of the rotary shaft 71, a weight 73 is arranged on the free end of the sheet 72.例文帳に追加

物品ｗを移載するための移載口６を有する車体２と、車体２の上方に回転自在に設けられた回転軸７１と、回転軸７１に一端が固定され、回転軸７１の回転により自由端が上下に移動するシート７２とを備えた無人搬送車であって、シート７２の自由端にウエイト７３を設けた。 - 特許庁

Ferrite has a hexagonal M-type magnet plumbite structure in which a part of Sr, Ba, Pb, or Ca is substituted with La and at least an element which is selected from Y-containing rare earth elements and Bi, and spinel-structure ferrite and hexagonal W-type magnet plumbite ferrite are added when the above ferrite is micronized, and the micronized mixed powder is formed into a ferrite magnet.例文帳に追加

Ｓｒ、Ｂａ、ＰｂまたはＣａの一部を、Ｙを含む希土類元素とＢｉから選択された少なくとも１種でかつ、必ずＬａを含む元素で置換した、六方晶のＭ型マグネトプランバイト構造を有するフェライトに対し、微粉砕時にスピネル型構造フェライト、六方晶のＷ型マグネトプランバイトフェライトを添加したフェライト磁石である。 - 特許庁

In the repair method of the existing sleeper for repairing the recess part A of a sleeper 10 produced downward of a tie plate and a rail, a face part including the recess part A is scraped off over prescribed width W and prescribed depth d to the width direction of the sleeper 10, and a repair member 12 is fitted to the scraped part 11 to be joined.例文帳に追加

タイプレートやレールの下方に生じるまくら木１０の凹みＡ部分を補修する既設まくら木の補修方法であって、凹みＡ部分を含む面部分をまくら木１０の幅方向へ所定幅Ｗおよび所定深さｄに渡って削り取り、当該削り取り部１１に補修部材１２を嵌め込んで接合する。 - 特許庁

Sheet-like sound insulation materials 1, 1' for the building equipment opening part cover embedded equipment apparatus 10, 10' or a penetrating pipe 70 from hiding areas 25, 45 to shield transmitted sound of the building equipment opening parts 60, 61, 62 formed in interior materials 30, 31, 32, 40 of the partition wall W or ceiling of a building.例文帳に追加

建築設備開口部のシート状遮音材１、１’は、建築物の間仕切壁Ｗ又は天井の内装材３０、３１、３２、４０に形成された建築設備開口部６０、６１、６２の伝達透過音を遮蔽するために、設備開口部の埋込み型設備器具１０、１０’又は貫通配管７０を隠蔽領域２５、４５から被覆する。 - 特許庁

The filling and packaging machine A allows ends of the continuously transferred films F to overlap, performs the longitudinal sealing of the ends of the films F to form a cylindrical shape by a pair of longitudinal sealing mechanisms 5, fills a content W in the cylindrical film F, and performs the transverse sealing of the cylindrical film F by a pair of transverse sealing mechanisms to form a packaged body P.例文帳に追加

充填包装機Ａは、連続移送されるフィルムＦの端部を重ね合わせ、対をなす縦シール機構５によってフィルムＦの端部を縦シールして筒状に形成し、かつ筒状のフィルムＦ内に内容物Ｗを充填し、対をなす横シール機構６によって筒状のフィルムＦを横シールして包装体Ｐを形成する。 - 特許庁

When it is in a burst mode, an address decoder 50 outputs internal address signals AN and ANB and block coding signals ANI-I and ANO-I, the data of plural memory cells connected to a same word lines W/L of memory cell blocks 61 to 64 are simultaneously read and a multiplexer 100, which is controlled by a decoding signal COS from a counter 40, successively outputs the data to the external.例文帳に追加

バーストモード時には、アドレスデコーダ５０が内部アドレス信号ＡＮ，ＡＮＢ及びブロックコーディング信号ＡＮＩ＿Ｉ，ＡＮＯ＿Ｉを出力することにより、メモリセルブロック６１〜６４の同じワードラインＷ／Ｌに接続する複数のメモリセルのデータが同時にリードされ、カウンタ４０からのデコーディング信号ＣＯＳにより制御されるマルチプレクサー１００により順次外部に出力される。 - 特許庁

A material with a thermal coefficient of expansion of 10×10-6/°C or less and a specific resistance (resistivity) of 50 μΩcm or more such as FeNi invar or metallic boride, a high melt-point silicide, one-constituent nitride such as Ta, and an alloy containing another constituent such as W in platinum is used for a heater layer 1 of a thin-film gas sensor.例文帳に追加

薄膜ガスセンサのヒーター層１に、熱膨張係数が１０×１０^-6／℃以下で、比抵抗（抵抗率）が５０μΩｃｍ以上の材料（例えばＦｅＮｉ系インバーや金属ホウ化物，高融点シリサイド，Ｔａ等の一成分の窒化物，白金にＷ等の他の一成分を含む合金等）を用いることにより、掲記課題の解決を図る。 - 特許庁

When the power generation, regeneration, and the amount of assist exceed the reference levels, remaining capacity is computed on the basis of the open circuit voltage through the use of an impedance based on motor torque (S11), and weights (w) in which the weight of remaining capacity based on current integration is made greater than that of normal time is computed (S12) to compute combined remaining capacity.例文帳に追加

一方、発電、回生、アシスト量が基準を越えている場合には、モータトルクに基づくインピーダンスを用いて開放電圧の推定値に基づく残存容量を算出し（Ｓ１１）、通常時よりも電流積算に基づく残存容量の重みを大きくしたウェイトｗを算出し（Ｓ１２）、合成残存容量を算出する。 - 特許庁