「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(219ページ目) - Weblio英語例文検索

Both processing surfaces Wb of a plate form workpiece W grasped by a chuck claw 14 provided at the front end of a rotary spindle are cutting processed at a time in the condition held between a fixed side cutter 71 provided on a tool rest, and a bendable side cutter 70 provided just opposing to the fixed side cutter 71.例文帳に追加

回転主軸の先端に設けられたチャック爪１４で把持した板状工作物Ｗの両加工面Ｗｂは，刃物台に設けられた固定側刃物７１と固定側刃物７１に正対して設けられた可撓側刃物７０との間に挟み込んだ状態で同時に切削加工される。 - 特許庁

When the contact shoes 36A and 36B are displaced to the position to touch the inner peripheral surface of the hole H to be detected in the detection state, detection rods 49A and 49B are actuated depending on the displacement, detection signal is output from detecting devices 58A and 58B, and thus the hole position of the work W is detected.例文帳に追加

接触子３６Ａ，３６Ｂが検出状態において被検出孔Ｈの内周面と接触する位置まで変位されたとき、その変位量に応じて検出ロッド４９Ａ，４９Ｂを作動させ、検出器５８Ａ，５８Ｂから検出信号を出力して、ワークＷの孔位置を検出する。 - 特許庁

The inside of a column structure material 1 as one of the structural materials, which partially constitute the structure such as the house, is partitioned into upper and lower spaces 1A and 1B; a water storage vessel 2 is arranged in the upper space 1A; and water W is injected into the water storage vessel 2 via an upper water filler 2a.例文帳に追加

家屋等の構造物の一部を成す構造材の一つのとしての柱構造材１の内部を上部空間１Ａと下部空間１Ｂに仕切り、上部空間１Ａには水収納容器２を配置し、この水収納容器２内に、上部の注水口２ａを介して水Ｗを注入する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the thrust race 4 of the thrust roller bearing 1, an annular flat plate W is bent by press molding, whereby an inside cylindrical part 7 is formed on the inner periphery of a race part 6, and a projection part 10 protruding radially to the inside and having a predetermined circumferential width is also formed on the inside cylindrical part 7.例文帳に追加

スラストころ軸受１のスラストレース４の製造方法では、環状の平板Ｗをプレス成形により曲げ加工することで、レース部６の内周縁に内側円筒部７が形成されると同時に、内側円筒部７には径方向内側に突出し、所定の円周方向幅を有する突起部１０が形成される。 - 特許庁

Representing the predetermined size paper passing width smaller than the maximum paper passing width W by W1, when transferring paper wider than the width W1, the first, second, and third fans 26a-26c are all turned on to attract the whole paper to the transfer unit 25 in order to stabilize the transfer.例文帳に追加

即ち、最大通紙幅Ｗよりも小さい所定のサイズ用紙の通紙幅をＷ１とすると、通紙幅Ｗ１より幅広の用紙が搬送される場合は、搬送を安定化させるために、第１、第２、第３ファン２６ａ〜２６ｃを全て回転させて用紙全体を搬送ユニット２５に吸着させる。 - 特許庁

An axial clearance C between a male thread 6 formed on an outer peripheral surface of the opening neck portion and a female thread 46 formed in an inner peripheral surface of a main portion 34 of a skirt wall 20 of the lid is set wider than an axial effective width W of a latch jaw part 8 formed on the outer peripheral surface of the opening neck portion.例文帳に追加

口頸部の外周面に形成されている雄螺条６と蓋のスカート壁２０の主部３４の内周面に形成されている雌螺条４６との軸線方向クリアランスＣを、口頸部の外周面に形成されている係止あご部８の軸線方向有効幅Ｗ以上に設定する。 - 特許庁

A bend frame 1 is movably arranged at rear of a top die 31 and a bottom die 32 to clamp a work M in the up/down direction, an upper blade 2 and a lower blade 3 to bend the work W are movably arranged on an upper inclined face 1A and a lower inclined face 1B at the inside of the bend frame 1.例文帳に追加

ワークＷをクランプするトップダイ３１とボトムダイ３２の後方に、ベンドフレーム１を上下方向に移動自在に設け、該ベンドフレーム１の内側の上部傾斜面１Ａと下部傾斜面１Ｂに、上記ワークＷに曲げ加工を施す上刃２と下刃３をそれぞれ前後方向に移動自在に設けた。 - 特許庁

The burr removing apparatus includes a stage 1 on which a plurality of printed wiring boards can be mounted in one line and cutting and grinding tools 3a and 3b for removing the burr and removes the burr generated at the outer peripheral edge of the printed wiring board when making a multiple chamfering substrate provided with the plurality of printed wiring boards w into individual pieces.例文帳に追加

プリント配線板を一列に複数枚載置可能なステージ１と、上記バリを除去する切削研磨工具３ａ、３ｂとを有して、プリント配線板ｗを複数具備した多面取り基板を個片化する際にプリント配線板の外周縁に生じたバリを除去するバリ除去装置とした。 - 特許庁

When a valve V1 is opened after apertures 11 and 12 are shut with a shutter 13, hot water supplied from a liquid supply source WP is continuously sprayed to a component W (herein, an object to be washed) fixed in a chuck 20 through fine holes 31e and 31f as well as fine holes 31g and 31h.例文帳に追加

シャッター１３により開口１１，１２を遮蔽した後、バルブＶ１を開放すると、チャック２０に固定された部品Ｗ（ここでは洗浄物）に対して、細孔３１ｅ、３１ｆと細孔３１ｇ、３１ｈを介して、液体供給源ＷＰから供給された温水が連続的に噴射される。 - 特許庁

To prevent in the method of manufacturing a semiconductor device that ions are deeply implanted due to channeling by employing a very simplified means on the occasion of forming, with the ion implantation, a source region and a drain region of a MOSFET (Metal-Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) where a gate electrode is formed of a columnar crystal metal such as Mo, Al, and W.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、Ｍｏ、Ａｌ、Ｗなど柱状結晶のメタルをゲート電極とするＭＯＳＦＥＴのソース領域及びドレイン領域をイオン注入で形成する際、極めて簡単な手段を採ることでイオンがチャネリングに依って深く打ち込まれることを防止できるようにする。 - 特許庁

The grinding-polishing device 1 has a workpiece rotation driving unit 10 for rotatively driving the workpieces W each having an arched surface 42 to be machined, grindstones 20 each rotatively driven and having an abrasive surface 21 in a direction orthogonal to a rotation axis 22, and grindstone rotative driving units 30 each for rotatively driving the grindstone.例文帳に追加

研削研磨装置１は、円弧状の加工面４２を有するワークＷを回転駆動するワーク回転駆動ユニット１０と、回転駆動されるとともに回転軸２２方向に直交する方向に砥粒面２１が形成された砥石２０と、砥石を回転駆動する砥石回転駆動ユニット３０と、を有している。 - 特許庁

In order to transmit the process value W to a central monitoring unit 5 by a 2 byte data of 0-9999, the PLC 4 divides it by a transmittance span k (=10000) to the central monitoring unit 5 at a division part 4A and obtains a quotient B and a surplus C as a result of the division and transmits them as the process data.例文帳に追加

ＰＬＣ４はプロセス値Ｗを０〜９９９９の２バイトデータで中央監視装置５に伝送するのに、ＰＬＣ４に設ける除算部４Ａにより中央監視装置５への伝送スパンｋ（＝１００００）で除算し、この除算結果としての商Ｂと余りＣを得、この商と余りをプロセスデータとして伝送する。 - 特許庁

This equipment comprises arranging several anodes 48a, 48b, and 48c concentrically divided from one anode 48 in a plating tank 50 having a plating solution 45 therein, so as to face them with a substrate W, and connecting these divided anodes 48a, 48b, and 48c individually with plating power sources 51a, 51b, and 51c.例文帳に追加

めっき液４５を保有するめっき槽５０内に位置して基板Ｗに対峙した位置に配置されるアノード４８を同心状に分割した複数の分割アノード４８ａ，４８ｂ，４８ｃから構成し、これらの各分割アノード４８ａ，４８ｂ，４８ｃを個別にめっき電源５１ａ，５１ｂ，５１ｃに接続できるようにした。 - 特許庁

A lubricating part 11A of this automatic oil applying device 1 for the rail is formed with a nozzle 21 for jetting oil toward the side face S of a rail head part H abutting on a flange part F of a wheel W at the side of a rail R, in a position away from the rail R below the upper face of the rail head part H.例文帳に追加

自動レール塗油装置１の注油部１１Ａは、レールＲの側方で、かつレール頭部Ｈの上面よりも下方におけるレールＲから離れた位置にて、車輪Ｗのフランジ部Ｆに接するレール頭部Ｈの側面Ｓに向けて油を噴出するノズル２１を設けて形成されている。 - 特許庁

To provide an arranging method of turbine blades 2 capable of readily determining an arrangement order of the rotor blades 2 for equalizing mass distribution in a circumferential direction by calculating an absolute value of a total W, A of unbalance amounts about a rotation axis O based on mass Wi and mounting positions Ai of the respective rotor blades 2.例文帳に追加

回転軸心Ｏ回りのアンバランス量の総和｜Ｗ｜，Ａを各動翼２の質量Ｗｉおよび取付位置Ａｉに基いて算出することにより、周方向の質量分布を平均化するための動翼２の配列順を容易に決定することができるタービン動翼２の配列方法を提供する。 - 特許庁

A receiver 20 receiving the information radio waves is included, a housing motion is permitted by monitoring without receiving any information radio wave in a state to stop the vehicle W on the cage 9, and a controlling section making the housing motion as no permission by monitoring with receiving the information radio waves by the receiver 20 is included.例文帳に追加

報知電波を受信する受信機２０を備え、ケージ９上に車両Ｗが停車された状態で、受信機２０による報知電波の受信無し検出により格納動作を許可し、受信機２０による報知電波の受信有り検出により格納動作を不許可とする制御部が備えられている。 - 特許庁

A supplying device 10 of soldering material comprises a supplying means 11, a storing means 12, a circulating means 13 and a stirring means 14, and supplies, onto the workpiece W, the soldering material S which comprises the mixture of the solder particles and the liquid which has fluxing action and in which the solder particles precipitate.例文帳に追加

はんだ材料供給装置１０は、はんだ粒子とフラックス作用を有する液体との混合物から成り液体中ではんだ粒子が沈降するはんだ材料Ｓを、供給手段１１、貯留手段１２、循環手段１３及び撹拌手段１４によってワークＷ上に供給するものである。 - 特許庁

A hot wire CVD apparatus has a reaction chamber 5 for treating a substrate W, a gas introduction port 1 for supplying a reaction gas into the reaction chamber 5, the electrical heating element 30 for decomposing the reaction gas at temperature being higher than that in the substrate and for generating active species, and a lamp 20 for indirectly heating the electrical heating element 30.例文帳に追加

ホットワイヤＣＶＤ装置は、基板Ｗに処理を施す反応室５と、反応室５内に反応ガスを供給するガス導入口１と、基板温度よりも高温で反応ガスを分解して活性種を生成する発熱体３０と、発熱体３０を間接加熱するためのランプ２０とを有する。 - 特許庁

An amount of liquid in an optical path of projection beams PB or alignment beams is detected by a detector 22, and then an optical element 10 required for focusing the projection beams or the alignment beams onto a surface of a substrate W is determined among a plurality of compensating optical elements by a controller 21.例文帳に追加

検出器２２によって投影ビームＰＢ若しくは位置合せビームの光路内の液体の量が検出され、次にコントローラ２１によって、複数の補償光エレメントの中から、投影ビーム若しくは位置合せビームを基板Ｗの表面に集束させるために必要な光エレメント１０が決定される。 - 特許庁

The thermostat switch 7 allows power supply from the battery power source 8 to the transmission circuit 6 only when increase in an ambient temperature of continuous casting equipment 10 due to flow of a cast piece (workpiece) W is detected, and the transmission circuit 6 transmits detection data from a vibration sensor (a sensor means) 3.例文帳に追加

そして、このサーモスタットスイッチ７が、鋳片（ワーク）Ｗが流されていることによる連続鋳造設備１０の周囲温度の上昇を検知したときのみ、バッテリー電源８から送信回路６への電力供給を許容して、送信回路６が振動センサ（センサ手段）３からの検出データの送信を行わせる。 - 特許庁

The sufficiently stirred water W is circulated between the cell 1 and the aeration tank 5, to execute air scrubbing washing of the flat membrane 2, and simultaneously the inside of the flat membrane 2 is sucked by a suction pump P1, to thereby execute membrane filtration by larger second membrane penetration flux than first membrane penetration flux supposed in a membrane filtration device.例文帳に追加

そして、十分に攪拌された被処理水Ｗをセル１と曝気槽５との間で循環させ、平膜２のエアスクラビング洗浄を行いながら、平膜２の内部を吸引ポンプＰ１で吸引し、膜ろ過装置で想定される第１の膜透過流束よりも大きい第２の膜透過流束で膜ろ過を行う。 - 特許庁

In an absorbable article provided with a top sheet 2 having body fluid permeability on the side of a use surface coming into contact with the skin of a user and an absorbing element 3 receiving body fluids through the top sheet 2 to hold them therein, the top sheet 2 comprises a fiber material and crapy wrinkles W are applied to at least the single surface thereof.例文帳に追加

使用者の肌と接触する使用面側における体液透過性のトップシート２と、このトップシート２を介して体液を受け入れ内部に保持する吸収要素３とを備えた吸収性物品において、前記トップシート２が繊維素材からなり、その少なくとも片面に縮緬状の皺Ｗが付与されている。 - 特許庁

A sample analyzer includes: a laser ablation section having a laser oscillation source with an oscillation output of 5 W or more, for irradiating the surface of a sample with a laser beam to make part of the sample into fine particles; and an element detection section to which the sample made into fine particles is introduced and a constituent element included in the sample is detected.例文帳に追加

試料の表面にレーザー光を照射して試料の一部を微粒子化させる、発振出力５Ｗ以上のレーザー発振源を有するレーザーアブレーション部と、微粒子化された試料を導入し、試料に含まれる構成元素を検出する元素検出部と、を備えた試料分析装置。 - 特許庁

An exposure table 1 for exposure device is used in an exposure device, and the work carried by a carrying means is placed on the exposure table 1, and the face on which a work W is to be placed of this exposure table is subjected to surface treatment 2 with a fluororesin by which the work is easily released from the face.例文帳に追加

露光装置で使用され、搬送手段により搬送されて来るワークを載置する露光装置用露光テーブル１において、前記露光装置用露光テーブルは、そのワークＷとの載置面に、前記ワークとの離脱が容易となるフッ素樹脂で表面処理加工２を施した露光装置用露光テーブル１として構成した。 - 特許庁

The cool feeling fabric preferably has ≥5.0 g/min×m^2 constant rate drying velocity when wetted to have 60% pickup rate and irradiated with light of 2,000 W photographic reflector lamp from 30 cm distance in a constant temperature and humidity chamber controlled to be 20°C×65% RH.例文帳に追加

この涼感性布帛においては、ピックアップ率が６０％となるように湿潤させ、２０℃×６５％ＲＨに調整された恒温恒湿室内にて、３０ｃｍの距離から総ワット数２０００Wの写真用レフランプにより光を照射した際の恒率乾燥速度が５．０ｇ／分・ｍ^２以上であることが好ましい。 - 特許庁

When the work W is gripped, the respective abutting parts 3 abut on one another, thereby preventing the chuck claws 10, 11 and the master jaw 12 from being rotated to the chuck main body 1, whereby loss of cylinder force due to increase in frictional force of the master jaw 12 and a guide groove 9 can be prevented to improve the chuck efficiency.例文帳に追加

ワークＷを把握した際に各当接部３０が互いに当接し、チャック爪１０，１１とマスタジョー１２とがチャック本体１に対して回転しようとするのが妨げられ、マスタジョー１２とガイド溝９の摩擦力の増加によるシリンダ力の損失が防止され、チャック効率が向上する。 - 特許庁

A contact enhancement treatment unit 1 which performs a contact enhancement treatment includes a chamber 10 which forms a sealed treatment space V, a treatment gas supply portion 50 which supplies a predetermined treatment gas (vaporized contact enhancing agent) to the treatment space V, and a plate 20 which is disposed in the treatment space V and mounted with a substrate W.例文帳に追加

密着強化処理を行う密着強化処理ユニット１において、密閉された処理空間Ｖを形成するチャンバ１０と、処理空間Ｖに所定の処理ガス（気化した密着強化剤）を供給する処理ガス供給部５０と、処理空間Ｖ内に配置され、基板Ｗを載置するプレート２０とを備える。 - 特許庁

In the tire marking system 1, the main data processing device 20 and at least not less than one tire marking devices 10A, 10B which read the identification mark of an identification plate Z attached to the warehouse rack 2, and engrave the identification sign to the tire W based on the information of the identification mark to be read are connected on line.例文帳に追加

タイヤマーキングシステム１は、庫入れラック２に付設された識別プレートＺの識別記号を読取り、この読取った識別記号の情報に基づき、タイヤＷに識別標識を刻設する少なくとも一台以上のタイヤマーキング装置１０Ａ及び１０Ｂと、メインデータ処理装置２０とがオンラインで接続されている。 - 特許庁

Since resistors 7 having resistance values of about 10 MΩ are provided in the courses of the conductors 16 of the pins 8 and 17, respectively, the flow of excessively large currents and, accordingly, the occurrence of sparks can be prevented when the wafer W and the wafer cassette 6 come into contact with the pins 8 and 17, respectively.例文帳に追加

ウエハ支持ピン８及びピン１７の接地導線１６の途中に、１０ＭΩ程度の抵抗値を有する抵抗器７を設けることで、ウエハＷとウエハ支持ピン８、バッファ用ウエハカセット６とカセット取出用ピン１７がそれぞれ接触した際に過大な電流が流れるのを防止し、スパークの発生を防ぐ。 - 特許庁

The body 3 of this jig is furnished with three clamp devices 4, 5, 6 each having a clamp arm whereto a tip 11 having a hemispherical forefront is attached, and a displacing means 8 is installed to displace at least one of the clamp devices 6 in the direction to the front and rear of a work W.例文帳に追加

治具本体３に３つのクランプ装置４、５、６を設け、それら３つのクランプ装置４、５、６のクランプアームに先端が半球面に形成されているチップ１１を取付けると共に、３つのクランプ装置４、５、６のうち少なくとも１つのクランプ装置６をワークＷ前後方向に変位させる変位手段８を設ける。 - 特許庁

Especially, the metallized layer (11) is constituted of a metallic phase containing Mo or W and a metal oxide phase composed of an oxide of Si and one or more kinds of the metal oxides selected from Mg, Al, Ti, and Mn and the ratio of the metal oxide phase occupying in the metallized layer (11) is 20 to 50vol.%.例文帳に追加

特に、メタライズ層（１１）は、Ｍｏ又はＷを含む金属相と、Ｓｉの酸化物及びＭｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｎから選ばれる１種以上の金属酸化物からなる金属酸化物相とから構成されており、しかも、メタライズ層（１１）中に占める金属酸化物相の割合が、２０〜５０体積％である。 - 特許庁

The lower fork 4 is mounted on the rectangular parallelepiped product W carrying in and out by the carrying conveyor 1 so as to be advanced and retreated between the engaged position and the retreated position.例文帳に追加

上下フォーク３，４を支持するフォーク支持体５と、このフォーク支持体を前記上下フォークと一体に回動自在に支持する反転部支持体６とで構成し、下側のフォーク４を、移送コンベア１で搬入搬出される直方体製品Ｗに対して係合位置と退避位置とに前記フォーク支持体５に進退移動可能に取付けた。 - 特許庁

Since the temperature of the buffer space B is raised by radiant heat of a plate 10 having the temperature raised by a heating part 40, the processing gas is heated by receiving the radiant heat from the plate 10 while flowing in the buffer space B, and the processing gas having had the temperature by heating is discharged toward the substrate W from a discharge port 811.例文帳に追加

バッファ空間Ｂは、加熱部４０により昇温されたプレート１０の輻射熱によって昇温しているので、バッファ空間Ｂ内を流れる間に処理ガスはプレート１０からの輻射熱を受けて加熱され、加熱により昇温した処理ガスが吐出口８１１から基板Ｗに向けて吐出されることになる。 - 特許庁

A sheet like structure has: multiple linear structures 12 of carbon elements; a filling layer 16 filling gaps between the linear structures and holding the multiple linear structures 12; and coats 14 formed in at least one end parts of the multiple linear structures 12 and having heat conductivity of 0.1 W/m K or higher.例文帳に追加

複数の炭素元素の線状構造体１２と、線状構造体１２間の間隙に充填され、複数の線状構造体１２を保持する充填層１６と、複数の線状構造体１２の少なくとも一方の端部に形成され、０．１Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する１４とを有する。 - 特許庁

The data carrier is subjected to conduct reading, writing, or initialization in a non-contact state with an ID head H (information reading and writing means) installed on the way of carrying, and memories the individual information (production information and sorting information) of fruits and vegetables W within the carrying housing container 1.例文帳に追加

このデータキャリアは、搬送途中などに設置されたＩＤヘッドＨ（情報読取り・書込み手段）によって、非接触で情報の読取り・書込み又は初期化が行なわれ、搬送収納容器１内部の果菜物Ｗの個別情報（生産情報、選別情報）等を記憶するように構成されている。 - 特許庁

Distance measuring laser beam L emitted from a distance measuring laser beam source 20 is made to a substantially parallel light through a collimator lens 22, and the arrangement positions of the laser beam source 20 and the collimator lens 22 are adjusted so that the parallel light is incoming obliquely to the surface of the measuring object W laid in a reference attitude.例文帳に追加

距離測定用レーザ光源２０から出射された距離測定用レーザ光Ｌは、コリメータレンズ２２を介して略平行光とされ、基準姿勢にある被測定物体Ｗの表面に斜めから入光するよう距離測定用レーザ光源２０及びコリメータレンズ２２の配置位置が調整されている。 - 特許庁

The resin impregnated layer 3 contains a plurality of sheet like reinforcing materials 321 comprising a reinforced fiber material and the reinforcing material 321 has a width shorter than the inner peripheral length of an existing pipe 4 and at least an end part in the width direction is overlapped with adjacent reinforcing material 321 to form an overlap part W.例文帳に追加

樹脂含浸層３には、強化繊維材料からなる複数枚のシート状の補強材３２１が含まれ、補強材３２１は、幅寸法が既設管４の内周長よりも短く、少なくとも幅方向の端部が、隣り合う補強材３２１に重ねられてオーバーラップ部Ｗを形成している。 - 特許庁

In an exposure device which employs immersion exposure, an immersion region ALq formed of a liquid supplied to between a wafer table WTB and a projection optical system PL may possibly pass over heads 60A to 60D mounted on the wafer table WTB as the wafer table WTB holding a wafer W moves.例文帳に追加

液浸露光方式の露光装置では、ウエハＷを保持するウエハテーブルＷＴＢが移動することによって、ウエハテーブルＷＴＢと投影光学系ＰＬとの間に供給される液体によって形成される液浸領域ＡＬｑが、ウエハテーブルＷＴＢに搭載されたヘッド６０Ａ〜６０Ｄ上を通過することがある。 - 特許庁

The pump P sends water W sucked through the water sucking pipe 13a in the storage tank 12 to the fine bubble generator 10 through the water sending pipe 13b and the air pump AP supplies the air with an increased oxygen concentration by passing air to an oxygen-enriching apparatus 90 to the fine bubble generator 10.例文帳に追加

ポンプＰは、吸水管１３ａを経由して吸い込んだ貯留槽１２内の水Ｗを、送水管１３ｂを経由して微細気泡発生器１０へ送り込むとともに、空気ポンプＡＰは酸素富化器９０を通過して酸素濃度を高めた空気を微細気泡発生器１０へ供給する。 - 特許庁

An evaluation element 100, which evaluates the contact resistance dispersion within a flash memory 300's cell formed on a silicon wafer W, has a hole chain 20 containing a plurality of units, having a structure similar to a contact region in the cell to evaluate a resistance value between a first and second electrode pads 2a and 2b.例文帳に追加

シリコンウエーハＷ上に形成されるフラッシュメモリ３００のセル内におけるコンタクト抵抗のばらつきを評価するための評価素子１００であって、セル内のコンタクト部位と同じような構造を持ったユニットを複数個含むホールチェーン２０を備え、第１、第２の電極パッド２ａ，２ｂ間の抵抗値を測定する。 - 特許庁

When pasting the adhesive sheet S2 on a wafer W or the like, by expanding the pasting sheet S to the cross direction outside to make the tear parts 12 to be tone, non-cut parts 11B forming the intermittent cuts 11 are cut in, and the adhesive sheet S2 is separated from the needless part S3.例文帳に追加

接着用シートＳ２をウエハＷ等に貼付するときは、貼付用シートＳを幅方向外側にエキスパンドして引裂部１２が引き裂かれるようにすることで、断続的な切り込み１１を形成する非切り込み部１１Ｂが切り込まれ、接着用シートＳ２と不要シート部分Ｓ３と分離することにより行われる。 - 特許庁

In a plasma nitride silicon film forming step, a plasma nitride silicon film (plasma SiN film 22) is formed on a wiring layer 19, which is a patterned metal layer located above a photodiode 12, by a plasma CVD method for setting RF power representing plasma generation energy, set on a device side, to be 700-1,500 W.例文帳に追加

フォトダイオード１２の上方で、パターニングされた金属層である配線層１９上に、装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗ〜１５００Ｗに設定するプラズマＣＶＤ法によりプラズマ窒化シリコン膜（プラズマＳｉＮ膜２２）を成膜するプラズマ窒化シリコン膜成膜工程を有している。 - 特許庁

A PWM signal generating section 114 generates a signal PWM1, based on the voltage command, obtained by superposing an alternating-current voltage command from an AC output control unit 64 and the harmonic voltage command e_GN from the harmonic generating section 112 on voltage commands in the phases U, V, and W from a converting section 110.例文帳に追加

ＰＷＭ信号生成部１１４は、変換部１１０からのＵ，Ｖ，Ｗ各相電圧指令にＡＣ出力制御部６４からの交流電圧指令および高調波発生部１１２からの高調波電圧指令ｅ_GNを重畳した電圧指令に基づいて信号ＰＷＭ１を生成する。 - 特許庁

The cylindrical lithium ion battery 20 is provided with a wound-up group W which has a positive electrode with a positive electrode active material layer W2 formed on a positive electrode collector W1 and a negative electrode with a negative electrode active material layer W4 formed on a negative electrode collector W3 wound up spirally in cross section through a separator W5.例文帳に追加

円筒形リチウムイオン電池２０は、正極集電体Ｗ１に正極活物質層Ｗ２が形成された正極と、負極集電体Ｗ３に負極活物質層Ｗ４が形成された負極とがセパレータＷ５を介して断面渦巻状に捲回された捲回群Ｗを備えている。 - 特許庁

The heat treatment apparatus of the substrate is formed by arranging a heat absorbing fin 14 which absorbs radiant heat between the center of a glass substrate W held by a boat 7 carried in or out of a process tube 4 from a furnace opening 6 of a heat treatment furnace 2 and a heat shield plate 13a which insulates the radiant heat caused by a heater 5 arranged outside the process tube 4.例文帳に追加

熱処理炉２の炉口６からプロセスチューブ４内に搬入・搬出されるボート７に保持されたガラス基板Ｗの中央部と、プロセスチューブ４の外側に配置されたヒータ５による輻射熱を断熱する遮熱板１３ａとの間に、輻射熱を吸収する吸熱フィン１４を配置する。 - 特許庁