「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(220ページ目) - Weblio英語例文検索

A battery cooling device 10 for a vehicle includes: a battery case 1 housing a battery 2; a cooler 6 arranged inside the battery case 1 and cooling air inside the battery case 1 or the battery 2; and a humidifier 7 fining or vaporizing condensed water W produced in the cooler 6 to discharge inside the battery case 1.例文帳に追加

車両用バッテリ冷却装置１０は、バッテリ２を収容するバッテリケース１と、バッテリケース１内に配置されてバッテリケース１内の空気又はバッテリ２を冷却する冷却器６と、冷却器６で生成された凝縮水Ｗを微細化又は気化してバッテリケース１内に放出する加湿器７と、備える。 - 特許庁

In this application, after nickel hydroxide coated with a cobalt compound is chemically oxidized by an oxidizer, a positive electrode containing an active material containing, as a main constituent, the nickel hydroxide which is reduced by a reducer and formed by adding at least one or more kinds of compound selected from among Co, Zn, Y, Nb and W, is used.例文帳に追加

本発明においては、コバルト化合物で被覆した水酸化ニッケルを酸化剤により化学的に酸化した後に、還元剤により還元した水酸化ニッケルを主体とした活物質を含むとともにＣｏ，Ｚｎ，Ｙ，Ｎｂ，Ｗから選ばれる少なくとも一種以上の化合物を添加した正極を用いるようにしている。 - 特許庁

In the method for producing a press formed article where a work W as a planar metallic material is worked into a cylindrical shape with an inverse shape by hot working or warm working, the inverse shape is worked by blow forming using a laser beam L as a heating means.例文帳に追加

板状の金属材料である被加工部材Ｗを、熱間加工または温間加工によりインバース形状を有する筒状形状に加工するプレス成形品の製造方法であって、前記インバース形状を、レーザビームＬを加熱手段とて使用してブロー成形により加工することを特徴とする。 - 特許庁

The insertion amount of the attenuation filter 101 into the optical path M is adjusted, the wavelength region K of the ultraviolet rays is cut off which enter the predetermined number of the lenses of a plurality of the lens for the integrator 94, and wavelength intensity distribution is adjusted to be proper in the ultraviolet rays finally irradiated to the wafer W.例文帳に追加

そして，減衰フィルタ１０１の光路Ｍに対する挿入量を調整し，インテグレータ９４の複数のレンズのうちの所定数のレンズに入射する紫外線の波長領域Ｋを遮断して，ウェハＷに最終的に照射される紫外線の波長強度分布を適正なものに調整する。 - 特許庁

In the apparatus for retaining the circumference section of a wafer W by a plurality of retention means 80, and supplying the processing liquid to the wafer for processing, supply means 110, 111, and 112 for supplying the processing fluid to the plurality of retention means 80 are provided inside the plurality of retention means 80.例文帳に追加

複数の保持手段８０によって基板Ｗの周縁部を保持し，基板に対して処理液を供給して処理する装置において，前記複数の保持手段８０に対して処理流体を供給する供給手段１１０，１１１，１１２を，前記複数の保持手段８０の内側に備えた。 - 特許庁

A sprayable oil-in-water type emulsion, especially an O/W microemulsion comprises an emulsifying agent having its lipophilic property depending upon pH or temperature and one or more kinds of UV filter substances selected from the group of compounds containing at least two sulfonic acid or sulfonate groups on their molecular main chains.例文帳に追加

その親油性がｐＨ又は温度に依存する乳化剤及び、それらの分子主鎖上に少なくとも２個のスルホン酸又はスルホン酸塩の基を担持する化合物の群からの１種類以上のＵＶフィルター物質を含んでなる、噴霧可能な水中油エマルション、なかでもＯ／Ｗミクロエマルション。 - 特許庁

When the bag W positioned in contact with the stopper 18 is sucked by the suction disk 52 and raised to a transfer position to a subsequent device, an air cylinder 48 is activated simultaneously to swing the ratchet elevating arm 40 upward, thereby raising the guide member 21 and the ratchet wheel 38 together with the suction disk 52.例文帳に追加

ストッパー１８に当接し位置決めされた袋Ｗを吸盤５２で吸着して次装置への受渡し位置に上昇させる際、同時にエアシリンダ４８を作動させて爪車昇降アーム４０を上向きに揺動させ、これによりガイド部材２１と爪車３８を吸盤５２とともに上昇させる。 - 特許庁

Accordingly, chemicals for forming the low permittivity (Low-k) interlayer insulating film coated on a processing substrate W can be heat treated, and temperature fluctuation of the substrate after/before heat treatment can be suppressed within the releasable temperature range of the chemicals to the open air, resulting in moderate treatment without causing excessive reaction.例文帳に追加

これにより、処理基板Ｗに塗布された低誘電率（Low-k）層間絶縁膜を形成するための薬液を加熱処理することが可能となり、また、加熱処理前後における基板温度を薬液の大気開放可能温度域以内に抑えることが可能で、過剰反応になることなく適正な処理が行える。 - 特許庁

This measuring device is constituted of an accelerometer 10 to measure the acceleration α of vertical vibration at one measurement point in a wire W to be measured, a distortion meter 20 to measure the bent distortion ε of a wire surface at the measurement point, and a computing device 30 to compute wave-motion transmitting velocity c.例文帳に追加

測定装置は、測定対象である架線Ｗ上の或る１つの測定点における上下振動の加速度αを計測する加速度計１０、前記測定点における架線表面の曲げ歪みεを計測する歪み計２０、及び波動伝播速度ｃを算出する演算装置３０とから構成されている。 - 特許庁

The heat-conductive sheet 1 comprising plate-like boron nitride particles 2 has a coefficient of thermoconductivity of ≥4 W/m K in the plane direction SD of the heat-conductive sheet 1, and a surface reflectance R to light of wavelength 500 nm of ≥70% on the condition that the surface reflectance of barium sulfate is 100%.例文帳に追加

板状の窒化ホウ素粒子２を含有する熱伝導性シート１であって、熱伝導性シート１の面方向ＳＤの熱伝導率が、４Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、５００ｎｍの光に対する表面反射率Ｒが、硫酸バリウムの表面反射率を１００％としたときの、７０％以上である。 - 特許庁

This ceramic component for a semiconductor manufacturing equipment is a component to be exposed to a gaseous halogen or its plasma, the constituent ceramic material of which consists of a ceramic sintered body containing rare-earth oxide and has a ≤40 W/m.K thermal conductivity and a ≤80% total emissivity at a temperature in the range of room temperature to 500°C.例文帳に追加

ハロゲンガス或いはそのプラズマに曝される半導体製造装置用セラミックス部品であって、前記部品を構成するセラミックスが希土類酸化物を含むセラミックス焼結体からなり、熱伝導率が40W/m・K以下かつ室温から500℃での全放射率が80%以下であることを特徴とする半導体製造装置用セラミックス部品。 - 特許庁

An avoidance device 3 mounted on an electric wheelchair 1 causes both the speed W, designated by the user and inputted from a control part 2 and the situations of nearby obstacles inputted from an object sensor 4 to be stored in the storage part 13 of a learning part 12, and corrects a speed U according to the output to a drive 6.例文帳に追加

電動車椅子１に搭載された回避装置３は、操作部２から入力されるユーザの指示速度Ｗと対物センサ４から入力される周囲の障害物の状況とを、学習部１２の格納部１３に格納し、これに応じて速度Ｕを修正して駆動装置６に出力する。 - 特許庁

In the method, illumination intensity on the surface of a steel material W is set to 4,000 μW/cm^2 or above to make not only a signal level of flaw brightness 4-16 times the dark current of a camera optical part 11 but also a signal level of surface brightness 1.2-1.8 times the dark current.例文帳に追加

本発明の蛍光磁粉探傷方法は、鋼材Ｗ表面における照明強度を４０００μＷ／ｃｍ^２以上として疵輝度の信号レベルをカメラ光学部１１の暗時電流の４倍ないし１６倍とし、地肌輝度の信号レベルを暗時電流の１．２倍ないし１．８倍とするものである。 - 特許庁

An adjusting device 34 for adjusting the fill quantity of hydraulic oil filled in the oil chamber is connected to the hydraulic cylinder 31, for allowing the support member 28 equipped with the upper straightening roll 12 following the variation of the diameter dimension of the straightening material W to be straightened to move towards the elevating member 26.例文帳に追加

油圧シリンダ３１には、矯正時における被矯正材料Ｗの径寸法の変化に追従して上矯正ロール１２を備える支持部材２８が昇降部材２８に対して移動するのを許容するよう油室に充填される作動油の充填量を調整する調整装置３４が接続される。 - 特許庁

This substrate developing device feeds a raw developer and a pure water (treating agent for hydrophilicity impartation) of which flow rates are respectively adjusted by flow rate adjusting valves 9 and 11, to a single nozzle 3, and the developer with a prescribed concentration is supplied onto a substrate W through the nozzle 3, and then the substrate is developed in such a state.例文帳に追加

本発明に係る基板現像装置は、流量調節弁９，１１によって各々流量調整された原現像液と純水（親水化処理液）とを単一のノズル３に送り、ノズル３から所定濃度の現像液を基板Ｗ上に供給して現像液を液盛りし、その状態で現像処理を行う。 - 特許庁

A Co silicide layer 17 is formed as a cap layer in a specified region of a silicon substrate 1 provided with a polymetal gate electrode 9 including tungsten by using a TiN film 16, and the TiN film 16 is wet-etched using an H_2SO_4 solution, for example, so that a TiN/W selection ratio becomes 5 or larger.例文帳に追加

タングステンを含むポリメタルゲート電極９が設けられたシリコン基板１の所定の領域に、キャップ膜としてＴｉＮ膜１６を用いてＣｏシリサイド層１７を形成した後、ＴｉＮ／Ｗ選択比が５以上となるように、ＴｉＮ膜１６に対して例えばＨ_2ＳＯ_4溶液を用いてウェットエッチングを行なう。 - 特許庁

The chamber 30 has a gas introduction port 34a for introducing the processing gas into the chamber so that the processing gas flows approximately in a horizontal direction and a gas ehxaut port 34b for exhausting the processing gas outward, and a stage 33 with proximity pins 44 for supporting the wafer W provided on its surface and an upright wall 33a formed on its rim.例文帳に追加

チャンバ３０は、処理ガスが略水平方向に流れるように処理ガスを内部に導入するガス導入口３４ａおよび処理ガスを外部へ排気するガス排出口３４ｂと、ウエハＷを支持するプロキシミティピン４４が表面に設けられ、周縁に立起壁３３ａが形成されたステージ３３を有する。 - 特許庁

(1) The optical information recording medium has at least a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, an intermediate layer and a reflective layer in this sequence on a transparent substrate and the intermediate layer comprises materials containing at least one metal selected from Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Mo and W, and carbon and oxygen.例文帳に追加

（１）透明な基板上に、少なくとも第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、中間層、反射層をこの順に有し、中間層がＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる少なくとも一つの金属と炭素及び酸素を含有する材料からなる光情報記録媒体。 - 特許庁

There are provided the reaction force canceling device wherein both a software (hereafter also referred to as 'S/W') vibration control system and a mechanical reaction canceling system are used to further completely damp vibration generated in an acceleration system; the mass body setting method therefor; the reaction force canceling method using therewith; and the dispenser provided therewith.例文帳に追加

ソフトウェア（以下、‘Ｓ／Ｗ’ともいう）振動制御方式と機構的反力相殺方式とを共に使用し、加速システムで発生される振動を、より完全に減衰させることができる反力相殺装置、それの質量体設定方法、それを用いた反力相殺方法及びそれを備えたディスペンサーを提供 - 特許庁

The rotational axis 68 on a normal of a first virtual one plane 46 including the rotational axis 49 of the respective outer peripheral part support rollers 35 and a first virtual one plane passing through the center of the spherical driving wheel 33, is inclined in the directions different with respective driving wheel assemblies W to a normal of a traveling surface 89.例文帳に追加

各外周部支持ローラ３５の回転軸線４９を含む第１の仮想一平面４６、および球状駆動輪３３の中心を通る第１の仮想一平面の法線上の回転軸線６８を走行面８９の法線に対して各駆動輪組立体Ｗ毎に異なる向きに傾斜させる。 - 特許庁

Each DLC layer D is composed of a metal layer M consisting of two or more elements selected among Cr, W, Ti, Si, Ni, and Fe, a composite layer F consisting of the named metals and carbon, and a carbon layer C consisting of carbon, in such an arrangement as C, F, and M from the obverse surface.例文帳に追加

ＤＬＣ層Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの２種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層は表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。 - 特許庁

A melt R of the binder, which is based on a mixture obtained by mixing a phenolic resin precondensate with the thermoplastic resin containing an acrylonitrile/styrene/butadiene resin, is mixed with woody materials W while discharged in a yarn like state from the nozzle orifice 4 of a die 3 and the resulting mixture is molded into a predetermined shape by press molding.例文帳に追加

アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン樹脂を含む熱可塑性樹脂にフェノール系樹脂初期縮合物を混合した混合物を主体とする結着剤の溶融物Ｒをダイ３のノズル孔４から糸状に吐出させつゝ木質材料Ｗに混合し、プレス成形により所定形状に成形する。 - 特許庁

In the heat treat furnace 2 for heating and treating a treated object W, each of a ceiling section 5c, a floor section 5d, and sidewalls 5a and 5b of the furnace body 5 comprises a metallic furnace shell layer 31, an insulating layer 32 disposed inside the furnace shell layer 31, and a ceramic fiber layer 33 disposed inside the insulating layer 32.例文帳に追加

被処理体Ｗを加熱して処理する熱処理炉２において，炉体５の天井部５ｃ，床部５ｄ，及び，側壁５ａ，５ｂを，金属製の炉殻層３１と，前記炉殻層３１の内側に設けた断熱層３２と，前記断熱層３２の内側に設けたセラミックファイバー層３３とによって構成した。 - 特許庁

In the control method, the operation of the carrying robot is controlled so as not to cause carrying parts 36, 38, etc. of the carrying robot and metal molds 19 of press machines to interfere with each other when carrying the workpiece w between adjacent press machines out of a plurality of linearly arranged press machines 10-1A, 10-1B, ... by the carrying robot 30.例文帳に追加

ライン状に配置された複数のプレス機械１０−１Ａ、１０−１Ｂ・・のうち隣接するプレス機械間でワークｗを搬送ロボット３０で搬送するに際し、搬送ロボットの搬送部３６、３８等とプレス機械の金型１９とが干渉しないように搬送ロボットの作動を制御する制御方法に関する。 - 特許庁

The cool-down step is a process wherein Ar gas of the flow rate of 400-800 sccm is introduced into the plasma etching device for 80 seconds or more, and the pressure in the etching device is made at 200-300 mTorr, and high-frequency voltage of 150 W or less is applied to an upper electrode and a lower electrode, respectively.例文帳に追加

クールダウンステップは、プラズマエッチング装置内に４００sccm以上８００sccm以下の流量のＡｒガスを８０秒間以上導入し、エッチング装置内の圧力を２００ｍTorr以上３００ｍTorr以下にし、上部電極及び下部電極それぞれに１５０Ｗ以下の高周波電圧を印加する工程である。 - 特許庁

The coating method of the viscous fluid S consists of coating, in the shape of line, the viscous fluid S discharged from a coating nozzle 21 onto the surface of a work W horizontally maintained, wherein a supply of the viscous fluid S to the coating nozzle 21 is stopped short of a termination location as a finalizing point of coating operation.例文帳に追加

塗布ノズル２１から吐出させた粘性流体Ｓを、水平に保持されたワークＷの表面に線状に塗布する粘性流体Ｓの塗布方法であって、塗布動作の終了点となる終端位置の手前で、塗布ノズル２１への粘性流体Ｓの供給を停止させるようにしたものである。 - 特許庁

Especially, the polycrystalline silicon layer (150) is in direct contact with the TFT array substrate (10), so the heat energy can be efficiently discharged from the TFT array substrate (10) as compared with a case wherein the reverse surface of the TFT array substrate (10) is exposed to air (with a heat conductivity of 0.0241 W/mK at 0°C).例文帳に追加

特に、多結晶シリコン層（１５０）は、ＴＦＴアレイ基板（１０）に直に接しているため、ＴＦＴアレイ基板（１０）の下面が空気（０℃における熱伝導率が０．０２４１Ｗ／ｍＫ）に曝されている場合に比べて、ＴＦＴアレイ基板（１０）から熱エネルギーを効率良く逃がすことが可能である。 - 特許庁

This cooling device 10 includes a temperature sensor 72 for detecting the temperature of a work W cooled by the direct expansion type cooling plate 50, a regulating valve 60 for regulating evaporating pressure of a coolant in the direct expansion type cooling plate 50, and a controller 70 for adjusting the valve opening of the regulating valve 60.例文帳に追加

冷却装置１０は、直膨式冷却プレート５０によって冷却されるワークＷの温度を検出する温度センサ７２と、直膨式冷却プレート５０内における冷媒の蒸発圧力を調整する調整弁６０と、調整弁６０の弁開度を調整するコントローラ７０と、を備えている。 - 特許庁

The composite material for the sliding member is equipped with a porous material and a lubricating resin composition impregnated in the pore parts of the porous material, and the porous material consists of a material having ≥10 W/mxK heat conductivity and also ≥100 MPa compression strength.例文帳に追加

多孔質体と、前記多孔質体の空孔部に含浸された潤滑性樹脂組成物とを具備する摺動部材用複合材料であって、前記多孔質体が熱伝導率１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上かつ圧縮強度１００ＭＰａ以上の材料からなることを特徴とする摺動部材用複合材料。 - 特許庁

When the cable W is arranged on the bottom wall 15 and the both caulking members 18, 19 are bent toward inside, the thin portion which has become thin by providing the guiding recess 21 has a folding line along the longitudinal direction, thereby, the both caulking members 18 are guided to the normal bending state mutually in parallel.例文帳に追加

電線Ｗを底壁１５上に配して両かしめ片１８，１９が内側へ屈曲される際には、案内凹部２１を設けることで薄肉状となった部分にその長手方向に沿った折り目が付けられることで、両かしめ片１８，１９は、互いに平行となる正規の屈曲状態に案内される。 - 特許庁

The rust-preventive oil 4 adhering to the workpiece surface is uniformized by a blade 2 for the workpiece, and the workpiece W is irradiated by an illumination means 6 of a light source having a low light transmittance to the rust-preventive oil 4 in this state, and reflected light is received by a linear sensor means 7, to thereby detect a flaw.例文帳に追加

そして、工作物用ブレード２によって工作物表面に付着した防錆油４を均一に均し、この状態で防錆油４に対して光透過率の低い光源の照明手段６で工作物Ｗを照射し、その反射光を線状のセンサ手段７で受けて、傷を検出する。 - 特許庁

Laser beams LB generated or oscillation-output by a laser beam oscillator 10a in a laser machine body 10 are transmitted through optical fibers 14 for laser beam transmission to a remote laser machining head 12, and condensed toward a machining point WP of a workpiece W from the laser machining head 12 to allow the workpiece to be irradiated therewith.例文帳に追加

レーザ加工機本体１０内のレーザ発振器１０ａで生成または発振出力されたレーザ光ＬＢは、レーザ伝送用の光ファイバ１４を通って遠隔のレーザ加工ヘッド１２まで伝送され、レーザ加工ヘッド１２よりワーク（被加工物）Ｗの加工点ＷＰに向けて集光照射される。 - 特許庁

A server computer 30 which provides a web site W is equipped with a storage device 40, a reception part 50, an arithmetic part 60, and a display part 70 and at an article information registration application corner 307, article information that a trader provides at the site is obtained and stored in an article information storage database 402.例文帳に追加

「ウェブサイトＷ」を提供する「サーバコンピュータ３０」に、「記憶装置４０」と「受信部５０」と「演算部６０」と「表示部７０」とを備え、「商品情報登録申請コーナー３０７」で業者がサイトで提供する商品情報を獲得し、「商品情報収納データベース４０２」に当該商品情報を保存する。 - 特許庁

A flow of fluid is formed in a grinding cavity formed between a working surface Wa and a worked surface Ga through pores of the grinding wheel while relatively sliding the grinding wheel G and the work W under a state of making the working surface Ga and the worked surface Wa of porous grinding wheel G contact with each other.例文帳に追加

多孔質の砥石Ｇの加工面Ｇａと被加工面Ｗａとを接触させた状態のもとで、砥石Ｇと被加工物Ｗとを相対的に摺動させながら、被加工面Ｗａと加工面Ｇとの間に形成される研磨空隙に、砥石Ｇの気孔を介して流体の流れを形成する。 - 特許庁

Further, aligning a division-predetermined-line S formed on the glass wafer W and a compartment-line 101 formed on the supporting tool 100 aligns the liquid crystal device D and a suction-holding-region 102 to perform dicing by cutting the division-predetermined-line S in this condition into liquid crystal devices D.例文帳に追加

そして、ガラスウェーハＷに形成された分割予定ラインＳと支持治具１００に形成された区画線１０１とのアライメントを行うことにより液晶デバイスＤと吸引保持領域１０２との位置合わせを行い、その状態で分割予定ラインＳを切削してダイシングすることにより個々の液晶デバイスＤに分割する。 - 特許庁

The rear face of the fine perforation board 1 whose front face is faced to a sound field is opposed to a wall 15 or a ceiling 16 in the sound field via an air layer 17, and the air layer 17 is compartmentalized into a plurality of cylindrical air gaps 6 of an aperture w smaller than wavelength λ of the impinging sound from the sound field by partitions perpendicular to the fine perforation board 1.例文帳に追加

表面を音場に臨ませた微細穿孔板１の裏面を音場内の壁15又は天井16に空気層17を介して対向させ、空気層17を微細穿孔板１と直交する隔壁７により音場からの入射音の波長λより小さい口径ｗの複数の筒状空隙６に区画する。 - 特許庁

The transfer unit 10 is composed of a robot 20, an alignment device 30, and a movable pad 11 where the robot 20 and the alignment 30 are mounted, and when the substrate transfer unit 10 is moved in front of one of the hoop openers 40 the openable lid of the hoop opener is opened, a wafer W is taken out from the cassette 50 by the hand 22 of the robot 20.例文帳に追加

搬送ユニット１０は、ロボット２０とアライメント装置３０とが共に移動台１１に載設するように構成され、基板搬送ユニット１０がいずれかのフープオープナー４０の正面位置に移動すると、フープオープナー４０の開閉蓋が開いて、ロボット２０のハンド２２によりカセット５０からウェハＷを取り出す。 - 特許庁

After La(O) film 11 as a cap film and a W film 12 of a metal electrode are formed on a silicon film 7 on an NMOS region and on a SiN film 9 on a PMOS region; and then heat treated to diffuse La elements of the La(O) film 11 into high-dielectric gate insulating film in NMOS region.例文帳に追加

そしてＮＭＯＳ領域上のシリコン膜７及びＰＭＯＳ領域上のＳｉＮ膜９上にキャップ膜としてのＬａ（Ｏ）膜１１及びメタル電極のＷ膜１２を形成した後、加熱処理して、Ｌａ（Ｏ）膜１１のＬａ元素をＮＭＯＳ領域の高誘電率ゲート絶縁膜に拡散させる。 - 特許庁

Since the azimuth angle of the incidence surface is changed in a stepless manner by the incidence surface changing means 3, the incident light L having the incidence surface at every azimuth angle is allowed to enter the surface W to be measured without changing the direction of the colorimetric device, and the reflection characteristic on the incidence surface at every azimuth angle can be detected.例文帳に追加

入射面変更手段３により入射面の方位角を無段階に変化させることで、測色装置の向きを変えることなく、あらゆる方位角の入射面をもつ入射光Ｌを被測定面Ｗに入射して、あらゆる方位角の入射面における反射特性を検出することができる。 - 特許庁

In the formula (II), W is selected from a group consisting of hydrogen atom, B(P)(Q) group and CN group, wherein P and Q are independently OH or a group which is hydrolyzable to boronic acid or a group forming a 5- to 8-membered ring together with a boron atom added thereto which is hydrolyzable to boronic acid.例文帳に追加

（ここで、Ｗは、水素原子，Ｂ（Ｐ）（Ｑ）基、およびＣＮ基からなる群より選択され、ＰおよびＱは、独立してＯＨまたはボロン酸へと加水分解可能な基であるか、もしくは、それらに付加するホウ素原子とともに、ボロン酸へと加水分解可能な５〜８員環を形成するような基である） - 特許庁

A laminated film MGD is laminated between a 1st conductivity- type semiconductor (P well W), where a channel of a memory transistor (M11a, etc.), is formed and a gate electrode (word line WL11, etc.), and formed of a plurality of dielectric film including charge storage means (carrier trap) which are made discrete in plane.例文帳に追加

メモリトランジスタ（Ｍ１１ａ等）のチャネルが形成される第１導電型半導体（ＰウェルＷ）とゲート電極（ワード線ＷＬ１１等）との間に積層され、平面的に離散化された電荷蓄積手段（キャリアトラップ）を内部に含む複数の誘電体膜からなる積層膜ＭＧＤが形成されている。 - 特許庁

In a shower head 12 having a plurality of gas injection holes 20A and 20B for supplying the processing gas to a processing space 4 for storing a heated processed substrate W to be subjected to a predetermined processing, a light introducing rod 68 of a radiation thermometer 66 is provided so as to be inserted into the gas injection holes.例文帳に追加

所定の処理を施すために加熱された被処理体Ｗを収容した処理空間４に対して処理ガスを供給するための複数のガス噴射孔２０Ａ，２０Ｂを有するシャワーヘッド構造１２において、前記ガス噴射孔に、放射温度計６６の光導入ロッド６８を挿通させて設けるように構成する。 - 特許庁

In the photoreceptor drum obtained by forming a photosensitive layer on the peripheral surface of a cylindrical substrate by coating with a coating fluid containing a photosensitive agent and drying, an electrically conductive resin pipe comprising an electrically conductive resin composition and having ≥0.2 W/m.K heat conductivity is used as the cylindrical substrate.例文帳に追加

円筒状基体の外周面に感光剤を含有する塗液を塗工し乾燥させて感光層を形成してなる感光ドラムにおいて、上記円筒状基体として、導電性樹脂組成物からなる熱伝導率が０．２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の導電性樹脂パイプを用いたことを特徴とする感光ドラムを提供する。 - 特許庁

A plurality of pressing position data of a die 33 is set in advance, and when the work W is actually pressed, the pressing position data is switched to a predetermined value among a plurality of pressing position data to the same die, and the work is pressed using the die 33 based on the switched forming position data.例文帳に追加

また、同一の金型に対応して、予め、ダイ金型(33)の複数の成形位置データを設定し、ワークＷの実成形加工時には、同一の金型に対して複数の成形位置データの中から所定の成形位置データに切り換え、切り換えられた成形位置データに基づいてダイ金型(33)により成形加工を行う。 - 特許庁

By means that the rear holder 50 and a mating housing 90 are sealed to each other after fitting operation of both housings 11, 90 is completed, the sealing member 40 is compressed at the pressing face 52A by the rear holder 50 to reduce the diameter of the wire insertion holes 41 and make the inner peripheral face adhered to the wire W in a watertight state.例文帳に追加

両ハウジング１１，９０の嵌合動作が完了した後に、リアホルダ５０と相手のハウジング９０とが係止し合うことにより、リアホルダ５０がシール部材４０を押さえ面５２Ａにて圧縮して電線挿通孔４１を縮径させその内周面を電線Ｗに水密状態で密着させる。 - 特許庁