「粗加工」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

該プロセスはまた、超微粉加工粗粒分を作り出すのにも使うことができ、これは、置換物として、また、精白小麦粉を強化するのに使える。例文帳に追加

The process can also be used for producing an ultrafine-milled coarse fraction, which can be used as a replacement and to fortify refined wheat flour. - 特許庁

切削加工の際に、仕上げ面粗度を向上させる（表面を滑らかにする）ことができる切削工具及びホルダ付工具を提供すること。例文帳に追加

To provide a cutting tool and a tool with a holder capable of improving finished surface toughness (smoothing a surface) in cutting operation. - 特許庁

ねじ表面の粗さを向上させ、加工硬化やバリの除去により雄ねじのかじり発生を防止することができるローラバニシング工具を提供する。例文帳に追加

To prevent generation of galling in a male screw by enhancing the surface roughness of the screw; and by removing work hardening and burrs. - 特許庁

レーザビームを熱源にして被加工物を溶断するレーザ切断において、切断速度を低下させずに切断面の面粗さを向上させる。例文帳に追加

To smooth the roughness of a cutting plane without decreasing a cutting speed at the time of carrying out laser cutting a piece to be worked by using a laser beam as a heat source. - 特許庁

ラッピングフィルム表面の砥粒の状態に対応して所望の表面粗さを得ることができるラッピング加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lapping device for providing desired surface roughness in response to an abrasive grain state of a lapping film surface. - 特許庁

簡素な構成でありながら、軸部の表面粗さを小さくすることが可能な軸部仕上げ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a shaft part finishing device capable of reducing a surface roughness in a shaft part, by simple constitution. - 特許庁

冷間加工性に優れ、なおかつ熱処理歪みの小さい粗大粒防止特性に優れた肌焼鋼とその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide case hardening steel excellent in the characteristics of preventing coarse grains, in which cold workability is excellent, and also, heat treating strain is small and to provide its producing method. - 特許庁

放電加工した金型の手磨きの欠点を克服し、短時間に低い表面粗さの仕上げを目的とする。例文帳に追加

To finish a metal mold with low surface roughness in a short time by overcoming a fault in hand polishing the mold which is applied to electrical discharge machining. - 特許庁

床材本体４の表面にメカニカルエンボス加工を施すことによって、前記凸部７の天面７ａが、粗面状に形成される。例文帳に追加

Mechanical embossing is applied on the surface of the floor member main body 4 to form the top face 7a of the projecting part 7 into the rough surface. - 特許庁

擦りガラス状の粗面加工を施さずとも、所定範囲を均一に照明できると共に、製造コストの低減を図れる照明装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lighting apparatus capable of uniformly lighting a prescribed range, and decreasing the manufacturing cost without the need for roughed surface processing like frosted glass. - 特許庁

タッチプロ−ブセンサの位置検出機能を高め、面粗度の良好な研削加工ワ−クを与える表面研削装置。例文帳に追加

To provide a surface grinding machine improving the position detecting function of a touch probe sensor and providing a ground work having good surface roughness. - 特許庁

ウエーハの平坦度、表面粗さ及びウエーハ裏面の状態も良好となる半導体ウエーハの加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for processing a semiconductor wafer, which improves flatness and surface roughness of the wafer and a state of a wafer back side. - 特許庁

さらに、エンボス加工処理されたゴムバンド表面の表面粗さＲａが１．０〜５．０であることが好ましい。例文帳に追加

Further, a surface roughness Ra of the rubber band surface embossed is preferably 1.0 to 5.0. - 特許庁

本方法は、鍛造機１のラムの移動方向と交差する方向に移動するセグメント型１１によって粗材２０の粗パーキングロックギヤ２１にしごき加工を施して拘束し、その後、その拘束状態のまま、粗材２０をノックアウトし、上昇する粗パーキングロックギヤ２１にさらにしごき加工を施して、高精度のパーキングロックギヤ３２を成形する。例文帳に追加

A stock parking lock gear 21 of a stock 20 is ironed by a segment die 11 moving in the direction across the moving direction of a ram of a forging machine 1, and restricted, and the raising stock parking lock gear 21 is further ironed to form a parking lock 32 of high accuracy. - 特許庁

本歯形付き製品の製造方法は、粗材の粗歯形６２を据込加工する据込工程と、該粗歯形６２のノックアウト時に、金型３に形成されたしごき部３１によって該粗歯形６２の歯幅面６３及び外径面６４のしごき加工を行うしごき工程とを順次行うことを特徴とする。例文帳に追加

A manufacturing method of a product with a tooth profile successively performs an upsetting step of upsetting a rough tooth profile 62 of a work, and an ironing step of ironing a tooth width surface 63 and an outside diameter surface 64 of the rough tooth profile 62 by an ironing unit 31 formed on a die 3 when performing the knock-out of the rough tooth profile 62. - 特許庁

粗加工用刃４５は、工具本体の中心軸方向端面に前記中心軸方向へ突出して少なくとも１個設けられ、かつ、工具本体が中心軸を中心として回転された際に被加工物を加工できる向きに配置される。例文帳に追加

At least one of the rough machining blade 45 is provided on the end surface in the central axis direction of the tool body so as to be projected in the central axis direction, and the rough machining blade 45 is arranged in a direction capable of machining a work when the tool body is rotated making the central axis as a center. - 特許庁

モータ１０の整流子２３は、切削工程において表面切削加工を施し、次いで、ラッピング工程において、前記切削工程による表面加工（粗さ）状態を維持したままで、バリのみをテープラッピング加工によって除去する。例文帳に追加

For the commutator 23 of a motor 10, surface cutting processing is applied in a cutting process, and next, in a lapping process, only the burrs are removed by a tape lapping process, keeping the surface processing (roughness) condition by the above cutting process. - 特許庁

シャフト本体をメッキ加工したあとで、研磨加工することによって、表面粗度を向上することができ、メッキ加工時に混入する異物による突出部分が生じることがないシャフトの製造方法及びシャフトを提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a shaft capable of improving surface roughness by polishing the shaft after having plated the shaft main body, and preventing projecting parts from being formed owing to foreign matter mixed at the time of plating, and to provide such a shaft. - 特許庁

偏心に起因した円周方向の溝深さの差異が小さく、極めて小さい切り込み量で鏡面に近い表面粗さを得ることができ、さらに、凹凸の微細形状を同時かつ均一に被加工面に加工し得る加工方法およびその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus, by which difference of the depth of a groove in the peripheral direction due to eccentricity becomes small, surface roughness nearly equal to that of a mirror surface can be obtained, and further minute undulations can be simultaneously and uniformly manufactured on the surface to be machined. - 特許庁

金属メッキされた光学部材１２に研削加工を施す工程と、定盤３０に塗布された遊離砥粒３２によって前記金属メッキされた光学部材１２の研削面にラップ加工を施す工程と、を含む金属メッキ光学部材１２の粗面加工方法。例文帳に追加

The method of roughening the surface of the metal-plated optical member 12 includes a step for grinding the metal-plated optical member 12 and a step for lapping the ground face of the metal-plated optical member 12 using loose abrasive grains 32 applied to a surface plate 30. - 特許庁

被加工素材を横順送方式により所定形状にプレス加工する順送工程と、一連の打ち抜き動作で粗抜き及びシェービング加工を施す縦順送方式による工程とを併設して高精度な切断面を得る。例文帳に追加

To obtain a high precision cut face by arranging a successive feed process to press-work a stock to be worked to a prescribed shape with a horizontal successive feed method and a process in a vertical successive feed method subjecting to rough punching and shaving in a series of punching actions. - 特許庁

異常放電を発生直後に解消できるようにして加工面粗さの向上と加工時間の短縮化を図ることができるとともに、放電時間や放電電流のパルス幅などの可変制御が可能な放電加工機を提供する。例文帳に追加

To provide an electric discharge machine which can improve the roughness of a machined surface and shorten the machining time by eliminating the abnormal discharge immediately after it is generated, and can variably control the discharge time and the pulse width of the discharge current. - 特許庁

ワーク１の形状精度が悪い場合でも、放電パルス数が目標パルス数と一致するように加工経路補正されることから、ワーク１の加工面に対して均一な放電パルス数による加工がなされることになるから、均一な面粗度を得ることができる。例文帳に追加

Since the machining path is corrected so that the number of electric discharge pulses coincides with the target number of pulses, even if the shape accuracy of the workpiece 1 is bad, machining with the uniform electric discharge pulse number is applied to the machined surface of the workpiece 1 to obtain uniform surface roughness. - 特許庁

基板２に対してドリル３により穴あけ加工を施してスルーホール４を形成するに際し、基板２の加工面に敷設する穴あけ加工用の当て板１であって、基板２とは反対側に位置する外面の表面粗さを１．０μｍ以下に設定した。例文帳に追加

A patch 1 for drilling placed on the machined face of a board 2 in drilling the board 2 with a drill 3 to form a through-hole 4 has an outer face opposed to the board 2 with a surface roughness set to be 1.0 μm or less. - 特許庁

線材・棒材からの素材切断、素材の矯正および粗成形、１次仕上げ成形、２次仕上げ成形等の成形工程を連続的に加工し、連続加工で発生する加工熱を積極的に利用したタペットボディー等の製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method for tappet body and the like, such forming processes as material cutting of wire rod and rod, material remedy, rough forming, primary in finish forming and secondly finish forming are continuously undertaken, and process heat generated in the continuous process is actively utilized. - 特許庁

素管２２′の外周面にスピニングローラにより形成された凹部２５ｂ′を切削加工によって除去加工する際に、切削抵抗が一定に近くなるように素管２２′と切削加工する粗切削用バイト４７との相対速度を調整する。例文帳に追加

When a recessed part 25b' formed by the spinning roller on an outer peripheral face of the elementary pipe 22' is removed by cutting work, relative speed of the elementary pipe 22' and rough cutting a turning tool 47 for cutting work is adjusted so that cutting resistance becomes close to a fixed value. - 特許庁

更に非放電域は絶縁層としたり、放電域は分散性のよい層に改質したり、ワイヤ自体の断面形状を異形、好ましくはトラック形にしたりすることで、加工速度の向上、加工面粗さの低減や加工溝幅の縮小等を達成することができる。例文帳に追加

By making the non-electric discharge region into an insulating layer, reforming the electric discharge region into a layer with excellent dispersibility or forming a cross-sectional shape of the wire itself into an irregular shape, preferably, a truck shape, improvement of machining speed, reduction of machining surface roughness and reduction of a machining groove width, etc. can be attained. - 特許庁

また、切削加工とバニシング加工とにより転動面の表面が加工され、面粗さが０．１μｍＲａ以下であり、最大圧縮残留応力が−１０００ＭＰａ以下であり、表面から内部深さ０．３ｍｍまで圧縮残留応力層が形成されてなる転動面を備えている。例文帳に追加

Further, the rolling element has a rolling face, of which the surface is worked by cutting work and burnishing work, of which the roughness is 0.1 μmRa or less, of which the maximum residual compressive stress is -1000 MPa or less, and in which the residual compressive stress layer is formed from the surface to the internal depth of 0.3 mm. - 特許庁

従って、初期摩耗量が摩耗するまで鉄系被削材から成るワークを切削加工することによる不良品の発生が回避され、研磨済みの切削用刃具によってワークを当初から高い寸法精度及び高い面粗度等の加工精度にて、切削加工することが可能になる。例文帳に追加

By this, the occurrence of defective parts by the machining of the works formed of a steel based cut material to the degree that the initial wear amount is worn can be avoided, and the works can be machined by using a polished cutting tool with the working accuracies such as a high dimensional accuracy and a high surface roughness from the first time. - 特許庁

この発明の実施形態では、シームレスパイプ１の両端にヘッド部２とニップル３とを圧接加工する前の段階で、前記シームレスパイプ１の曲げ加工部分Ｘの対応する内壁面を切削工具により所定の粗さに加工し、内面皺や偏肉等を取り除く。例文帳に追加

In embodiment of the invention, an inner wall face corresponding to a bending portion X of the seamless pipe 1 is machined to a predetermined roughness by a cutting tool in a step before carrying out press contact of a head part 2 and a nipple 3 to both ends of the seamless pipe 1, and inner face wrinkles, thickness deviation, or the like is removed. - 特許庁

化学成分、球状化焼なまし後のラメラーパーライト面積率、球状化焼なまし条件の限定により冷間鍛造又は冷間加工及び必要に応じた切削加工により加工した後、浸炭処理したときに結晶粒が粗大化しにくい機械構造用鋼の提供。例文帳に追加

To provide a steel for machine structural use in which crystal grains are not easily coarsened, when it is processed by cold forging or cold working and optional cutting work followed by carburizing treatment, by limiting chemical components, a lamellar pearlite area rate after spheroidizing annealing, and spheroidizing annealing conditions. - 特許庁

カバー１３は、光透過性を有する樹脂材料にて形成されるとともに、該カバー１３の外周縁に沿って設けられた溶着領域１３ｇと検出用窓部１３ｈとを除く範囲に粗面加工を施してなる粗面加工面１３ｆを備える。例文帳に追加

The cover 13 is formed of a resin material having optical transmittance, and has a roughened surface 13f with surface-roughening processing applied in an area except the detection windows 13h and a welding area 13g fitted along an outer peripheral edge of the cover 13. - 特許庁

加工により所要の寸法に仕上げられた金属部品の寸法形状や熱処理効果、あるいは表面粗さや金属光沢等を変化させずに、加工により生じた残留応力のばらつきを均一化するとともに、微視的な表面粗さを平滑化して摩擦係数を下げる。例文帳に追加

To reduce the coefficient of friction by unifying the dispersion of the residual stress generated in the machining, and smoothing the microscopic surface roughness without changing the dimensions and shapes, the heat treatment effect, the surface roughness or the metallic gloss, etc., of a metallic parts finished to the required dimension in the machining. - 特許庁

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、精研削ステージ２０が設置された本体１２に、エッチングステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及びエッチングを同一の平面加工装置１０内で実施する。例文帳に追加

In the wafer surface grinding apparatus 10, an etching stage 22 is installed on a body 12 comprising a rough grinding stage 18 and a fine grinding stage 20, and the rough grinding, the fine grinding and the etching of the wafer 28 are achieved in the same wafer surface grinding apparatus 10. - 特許庁

冷間塑性加工する金属材料の表面に形成させる皮膜であって、結晶性無機化合物と非晶質無機物質との混合皮膜からなり、且つ皮膜の表面粗さ（十点平均粗さＲｚ）が２〜１０μｍである冷間塑性加工用キャリア皮膜である。例文帳に追加

The carrier film for cold plastic working is a film formed on the surface of the metallic material to undergo the cold plastic working, consists of a film mixture composed of a crystalline inorganic compound and amorphous inorganic substance and is 2 to 10 μm in the surface roughness (ten point mean roughness Rz) of the film. - 特許庁

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、仕上げ研削ステージ２０が設置された本体１２に、研磨ステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及び研磨を同一の平面加工装置１０内で実施する。例文帳に追加

In this flat face machining device 10, a polishing stage 22 is installed on a body 12 on which a coarse grinding stage 18 and a finish grinding stage 20 are installed, and coarse grinding, precise grinding, and polishing of a wafer 28 are executed in the same flat face machining device 10. - 特許庁

外層フィルム非接着部１１Ｅ、内層フィルム非接着部１１Ｆには、それぞれ微小な貫通口や凹部よりなる外層粗面加工部１１Ｇ、内層粗面加工部１１Ｈが形成され、これらは互いに対向しない位置関係にある。例文帳に追加

An outer layer rough surface processing part 11G and an inner layer rough surface processing part 11H each comprising minute through-openings or recessed parts are formed in the outer and inner layer film non-bonded parts 11E and 11F, and those are in a positional relationship not to face each other. - 特許庁

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、仕上げ研削ステージ２０が設置された本体１２に、研磨ステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及び研磨を同一の平面加工装置１０内で実施する。例文帳に追加

In the apparatus for machining planar surface 10, a grinding stage 22 is set on a body 12, on which a rough grinding stage 18 and a finishing grinding stage 20 are set, and rough grinding, finish grinding, and polishing of a wafer 28 are implemented in the identical apparatus for machining the planar surface 10. - 特許庁

第１工程で準備する歯車素形体は、熱硬化性樹脂を成形して歯車の形状を粗形成したもの、又は、熱硬化性樹脂成形品に機械加工を施して歯車の形状を粗形成したもので、歯面を機械加工で精度良く仕上げる必要はない。例文帳に追加

The gear element body prepared in the first step is such that the thermosetting resin is molded to roughly shape the gear or that machining is applied to a thermosetting resin molding to roughly shape the gear, where no need exists for precisely finishing the toothed face with machining. - 特許庁

金属アルミニウム又はアルミニウム合金からなる穴あけ加工用エントリーシートにおいて、厚さが６０〜２００μｍ、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜０．５μｍ、且つ表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が４μｍ以下であることを特徴とする、穴あけ加工用エントリーシート。例文帳に追加

The entry sheet for drilling, which is composed of metallic aluminum or an aluminum alloy, is characterized in that the thickness is 60-200 μm, the central line average surface roughness (Ra) is 0.1-0.5 μm, and the maximum height (Ry) of the surface roughness is ≤ 4 μm. - 特許庁

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、仕上げ研削ステージ２０が設置された本体１２に、研磨ステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及び研磨を同一の平面加工装置１０内で実施する。例文帳に追加

The planarization apparatus 10 includes a polishing stage 22 in a machine body 12 thereof where a rough grinding stage 18 and a fine grinding stage 20 are mounted, thereby rough grinding, fine grinding and polishing of a wafer 28 are carried out in one planarization apparatus 10. - 特許庁

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、仕上げ研削ステージ２０が設置された本体１２に、研磨ステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及び研磨を同一の平面加工装置１０内で実施する。例文帳に追加

In the planarization processing apparatus 10, a polishing stage 22 is mounted on a body 12 provided with a rough grinding stage 18 and a finishing grinding stage 20 so that a wafer 28 can be roughly ground, finely ground and polished in one planarization apparatus 10. - 特許庁

所望の表面粗さを形成した表面創成用薄板あるいは表面創成用型と、被加工物を溶融するレーザを用いて、様々な形状で、各種材質の被加工物の表面を従来より小さな表面粗さでの平滑化を実現できる。例文帳に追加

By the use of a surface creating thin plate with desired surface roughness formed or a surface creating mold and a laser for melting an object to be worked in various shapes, surfaces of objects of various materials can be smoothed in surface roughness lower than conventional surface roughness. - 特許庁

その後は、前記消失模型データに基づいて前記逃がし溝に対応する深溝を有する消失模型を加工し（Ｓ４）、該消失模型を用いてフルモールド法によりプレス型粗形材を鋳造し（Ｓ５）、最終的に前記プレス型粗形材を仕上加工する（Ｓ６）。例文帳に追加

Thereafter, the evaporative pattern having a deep groove corresponding to the relieving groove is worked based on the evaporative pattern data (S4); a press pattern raw blank is molded by the full-mold method using the evaporative pattern (S5); and finally the press die raw blank is finished (S6). - 特許庁

また、空気入りタイヤ用加硫金型は、タイヤ接地面を形成する内表面に、エッチング加工又はサンドプラスト加工により平均粗さＲａが６〜５０μｍで、かつ、粗さの偏り度ＲｓｋがＲｓｋ＜０の凹凸部１７を形成してなることを特徴とする。例文帳に追加

The pneumatic tire vulcanization die has an uneven part 17 formed on an inner surface where the tire touches the ground, whose average roughness is 6 to 50 μm and roughness unevenness Rsk is less than 0 due to etching or sandblasting process. - 特許庁