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該当件数 : 29927



例文

次いで、銅箔1のビアホール形成部位を選択的にエッチング除去して開口部9を形成した後、この開口部9に露出する縁樹脂層2を、その下部に位置する導層4が露出するまでアルカリ性エッチング液を用いてエッチング除去してビアホール用穴10を形成する。例文帳に追加

Next, the via hole forming region of the copper foil 1 is selectively removed by etching to form an opening 9, Then, the insulating resin layer 2 exposed in the opening 9 is removed by etching by using an alkaline etching solution until the conductive layer 4 positioned at the lower part is exposed, to form a via hole 10. - 特許庁

パワーMOSトランジスタ20は、半導層2上に縁膜30を介して形成された第2ゲート電極27、第2ゲート電極27に対応して設けられたソース領域24、ソース領域24と共に第2ゲート電極27を挟むように設けられたドリフト領域23、それに隣接するドレイン領域21から成る。例文帳に追加

The power MOS transistor 20 includes a second gate electrode 27, formed on the semiconductor layer 2 via an insulating film 30, a source region 24 corresponding to the second gate electrode 27, a drift region 23 formed so as to sandwich the source region 24 and second gate electrode 27, and a drain region 21 adjacent to the drift region. - 特許庁

TAB用テープキャリア1において、ベース縁層2を、熱硬化性ポリイミド樹脂層2aの上に、厚み4μm以下の熱可塑性ポリイミド樹脂層2bを積層することにより形成して、その熱可塑性ポリイミド樹脂層2bの表面に、錫めっき層13で被覆されるインナリード9を有する導パターン7を形成する。例文帳に追加

In the tape carrier 1 for TAB; the base insulating layer 2 is formed by laminating a thermoplastic polyimide resin layer 2b whose thickness being ≤4 μm on a thermosetting polyimide resin layer 2a, and a conductor pattern 7 having an inner lead 9 covered with a tin-plated layer 13 is formed on the surface of the thermoplastic polyimide resin layer 2b. - 特許庁

続いて、ゲート縁膜126上にデータライン133、データライン133に電気的に接続されるソース電極117、ソース電極117と離隔されて配置されるドレイン電極119、及びゲート電極118上でソース電極117とドレイン電極119との間に配置される半導パターンを形成する。例文帳に追加

Then, a data line 133, a source electrode 117 electrically connected to the data line 133, a drain electrode 119 which is arranged being separated from the source electrode 117, and a semiconductor pattern which is arranged above the gate electrode 118 and between the source electrode 117 and the drain electrode 119, are formed on the gate insulating film 126. - 特許庁

例文

基板、ゲート電極、ゲート縁膜、金属酸化物ソース/ドレイン電極及び有機半導層を含む有機薄膜トランジスタを製造する方法であって、金属酸化物ソース/ドレイン電極の少なくとも一表面を、スルホン酸基を含有する自己組織化単層膜形成化合物で処理する。例文帳に追加

In the method for manufacturing the organic thin film transistor comprising a substrate, a gate electrode, a gate insulating film, a metal oxide source/drain electrode and an organic semiconductor layer, at least one surface of the metal oxide source/drain electrode is treated by using a self-assembled single layer film forming compound comprising a sulfonic acid group. - 特許庁


例文

ジビニルベンゼン、エチルビニルベンゼン及び単独重合した場合のガラス転移温度(Tg)が0℃以下である単量から重合される樹脂粒子の表面に金属をメッキした導電粒子と縁性バインダー樹脂からなる異方導電性接着フィルムの提供により長期信頼性、高い保存安定性を実現する。例文帳に追加

The anisotropic conductive adhesive film comprises a conductive particle obtained by plating the surface of a resin particle polymerized from divinylbenzene, ethylvinylbenzene and a monomer having a glass transition temperature (Tg) of ≤0°C when the monomer is homopolymerized with a metal and an insulative binder resin and realizes a long-term reliability and a high storage stability. - 特許庁

から成る基板12上に電極を形成するステップと、基板12上に電極に接触する反応部18を形成するステップと、を含むバイオセンサの製造方法において、基板12上に電極を形成した後反応部18を形成する前に、基板12上にUV(紫外線、ultraviolet rays)照射処理(UV照射処理)を行うバイオセンサの製造方法とした。例文帳に追加

In the method for manufacturing the biosensor including steps of forming the electrode on a substrate 12 consisting of an insulator, and forming a reaction part 18 which contacts the electrode on the substrate 12, UV (ultraviolet rays) irradiation processing (UV irradiation processing) is performed on the substrate 12 before forming the reaction part 18 after forming the electrode on the substrate 12. - 特許庁

基板5に平面コイル3、縁膜2および平面コイル3を挟み込む磁性薄膜1,4を積層して構成される平面型磁気素子において、基板5に対する応力の方向が異なる薄膜6を基板裏面に設けることで、基板の持つ引っ張り応力をキャンセルし得るようにする。例文帳に追加

This planar magnetic element is constituted by stacking a plane coil 3 and magnetic body thin films 1 and 4, between which insulating films 2 and the plane coil 3 are sandwiched on a substrate 4, is provided with a thin film 6 which is different in the direction of stress to the substrate on the reverse surface of the substrate to cancel the tensile stress that the substrate has. - 特許庁

このスリット6bを設けている一方の側壁2aの内面に、コイル巻装凹部5内の巻き終わり端末線3bがコイル本3の最外周より内径方向に偏位した位置から縁ボビン2の外に出るように巻き終わり端末線3bをガイドする端末線ガイド凹部13を設ける。例文帳に追加

At the inner surface of one side side wall 2a having this slit 6b, a terminal wire guide recess 13 to guide the winding finish terminal wire 3b is provided to move the winding finish terminal wire 3b in the coil winding recess 5 from the position displaced in the inner diameter direction from the outermost periphery of the coil main body, to the outer side of the insulation bobbin 2. - 特許庁

例文

イオン源は、ガスが供給されてプラズマを生成する、導面を有する内部空間を備えたプラズマ容器と、このプラズマ容器と電気縁され、内部空間の内壁面から突出し、通電することにより前記内部空間に熱電子を放出する一対の熱電子放出素子と、 一対の熱電子放出素子のそれぞれに電流を流す電源と、を有する。例文帳に追加

The ion source includes a plasma container which includes an internal space with a conductor face in which gas is supplied and plasma is generated, a pair of thermoelectron emitting elements which are electrically insulated from the plasma container and protrude from the inner wall face of the internal space and emit thermoelectrons to the internal space by current flow, and a power source which makes electric current flow respectively to the pair of thermoelectron emitting elements. - 特許庁

例文

縁層1が表面に形成された被処理Wに対して成膜処理を施す成膜方法において、第1の金属よりなる第1の薄膜60を形成する第1の薄膜形成工程と、前記第1の薄膜を酸化して酸化膜60Aを形成する酸化工程と、前記酸化膜上に第2の金属を含む第2の薄膜62を形成する第2の薄膜形成工程とを有する。例文帳に追加

A film deposition method of performing deposition processing to a workpiece W on whose surface an insulation layer 1 is formed includes: a first thin film formation process of forming a first thin film 60 consisting of first metal; an oxidation process of oxidizing the first thin film to form an oxide film 60A; and a second thin film formation process of forming a second thin film 62 containing second metal on the oxide film. - 特許庁

また、このような半導装置の製造方法は、回路が形成された基板100上に、この回路に接続し、かつ、保護縁膜300から突出した突出部201を有する電極パッド200を形成する工程と、プローブ端子500を電極パッド200に接触させることにより、回路の動作テストを行う工程と、突出部201の少なくとも表面を研磨する工程と、有する。例文帳に追加

The manufacturing method of the semiconductor device comprises a step of forming, on the substrate 100 on which the circuit is formed, the electrode pad 200 having a protrusion part 201 connected to the circuit and protruded from the protection insulation film 300, a step of performing an operation test by contacting a probe terminal 500 with the electrode pad 200, and a step of polishing at least a surface of the protrusion part 201. - 特許庁

特に、発熱層が、粉抵抗値10^−4〜10^2Ω・cmの導電性粒子を樹脂固形分100重量部に対し30〜600重量部含有し、かつ電気抵抗値10^−2〜10^4Ω・cmであり、赤外線反射性を有する縁層が電気抵抗値10^6Ω・cm以上であることが望ましい。例文帳に追加

Especially, the heat generating layer contains 30-60 parts by weight of conductive particles with a powder resistance value of 10-4-102 Ω.cm per 100 parts by weight of a resin solid and has an electric resistance value of 10-2-104 Ω.cm and the insulating layer having infrared reflectivity desirably has an electric resistance value of 106 Ω.cm or more. - 特許庁

感光1を摺擦する回転自在な導電性のブラシローラ65を有し、ブラシローラ65のブラシは、ブラシローラ65の軸線に対し垂直な平面で切った断面に対して複数の領域ブラシローラ65A、65B、65Cに分かれており、それぞれの領域が電気的に縁されているクリーニング装置6である。例文帳に追加

The cleaning device 6 has a conductive brush roller 65 which freely rotatably rubs a photoreceptor 1, wherein a brush of the conductive brush roller 65 is divided into a plurality of regional brush rollers 65A, 65B, 65C with respect to a cross-section cut by a plane vertical to an axial line of the brush roller 65 and respective regions are electrically insulated. - 特許庁

配線パターン10が表面に設けられたコア材12の少なくとも一方の面上に、配線パターン10を縁層14を介して一層または複数層形成してビルドアップ層24を形成し、ビルドアップ層24を座ぐり加工して半導チップ28を搭載するための凹部48を形成する。例文帳に追加

One or more wiring pattern layers 10 are formed, at least, on the one surface of a core material 12 where a wiring pattern 10 is provided on its surface through the intermediary of an insulating layer 14 for the formation of a build-up layer 24, and a recess 48 where a semiconductor chip 28 is mounted is provided in the build-up layer 24 by spot facing. - 特許庁

またこの無機質接着剤は前記諸性質が要求されるガラス電球を構成するガラス材料と口金、ミラー材料および磁性ベースと、ならびに点火栓を構成するセラミック材料から成ると金属材料から成る中心電極および外箱とを接着するのに好適に用いられる。例文帳に追加

This inorganic adhesive is suitably employed for bonding components of a glass electric light bulb, namely, a glass material to a cap, a mirror material and a magnetic base, and for bonding components of an ignition plug, namely, an insulator composed of a ceramic material to a central electrode and an outer box both composed of a metallic material, where the various properties above are required. - 特許庁

タンク4の内部に変圧器本を収容すると共に縁油を充填した変圧器において、シート状の防振部材11の外周部を、押さえ枠12とボルト14とナット16とを介してタンク4の内周面に圧接結合し、防振部材11とタンク4との間に空気を封入する。例文帳に追加

In the transformer storing the transformer body in the tank 4 and filled with the insulating oil, the outer peripheral part of a sheet-like vibration-proof member 11 is pressed in contact and connected to the inner periphery of the tank 4 through a press frame 12, bolts 14 and nuts 16, and air is enclosed between the vibration-proof member 11 and the tank 4. - 特許庁

回路基板であって、その基板を一部として含む製品(例えば電気組立)内において異なる機能(例えば電源とグラウンドの両方として)のために導電層が使用されるように、導電層の分割する部分を縁するために向かい合う端縁部を導電層内において形成する複数の連続して形成された開口部を含む前記回路基板。例文帳に追加

A circuit substrate is disclosed that includes multiple continuously formed apertures that form mutually facing edge parts in a conductive layer so as to insulate the divided parts of the conductive layer, such that the conductive layer, is used for a different function (e.g., both as a power supply and a ground) in a product (e.g., an electrical assembly) that includes the substrate as a part of it. - 特許庁

基板20と、基板20上に形成される第1の導電層22と、基板20及び第1の導電層22を被覆して形成される第1の縁層26と、基板20に搭載される能動素子10と、能動素子の電極に接続される第2の導電層と、第1の導電層と第2の導電層とを接続する導電性ポストとを備えた半導装置を構成する。例文帳に追加

The semiconductor device includes the substrate 20, a first conductive layer 22 formed on the substrate 20, a first insulating layer 26 formed to cover the substrate 20 and the first conductive layer 22, the active element 10 mounted on the substrate 20, a second conductive layer connected to an electrode of the active element 10, and a conductive post connecting the first conductive layer 22 to the second conductive layer. - 特許庁

この半導装置では、エピタキシャル層4Aを覆う表面保護膜11が高抵抗GaAs層(素子間縁層)5の外周側の外周エピタキシャル層4A−1の一部を覆って上記一部に接しているので、表面保護膜11の端部の密着性が向上して外部からの水分侵入を防止できる。例文帳に追加

In this semiconductor device, the surface protective film 11 covering an epitaxial layer 4A covers a part of an outer peripheral epitaxial layer 4A-1 on the outer peripheral side of a high-resistance GaAs layer (inter-element insulation layer) 5 and contacts the part, and thereby adhesiveness of the end of the surface protective film 11 is improved, and moisture intrusion from the outside can be prevented. - 特許庁

この薄膜キャパシタ素子10は、製造時に異方性エッチングにより積層6の側端面6aを基板1と略直交する平坦面となしているので、カバレッジ不良部分を覆う縁樹脂層5が、下部電極2と上部電極膜41との間に介在せず、同電位な上部引出し電極40と上部電極膜41との間に介在している。例文帳に追加

In the thin film capacitor element 10, since the substrate 1 has a plain surface almost perpendicular to the side end face 6a of the laminate 6 due to anisotropic etching during manufacturing, the insulating resin layer 5 covering a poorly covered part does not lie between the lower electrode 2 and the upper electrode film 41, but lies between the upper extraction electrode 40 and the upper electrode film 41 which are at the same potential. - 特許庁

またこの無機質接着剤は前記諸性質が要求されるガラス電球を構成するガラス材料と口金、ミラー材料および磁性ベース、ならびに点火栓を構成するセラミック材料から成ると金属材料から成る中心電極および外箱とを接着するのに好適に用いられる。例文帳に追加

This inorganic adhesive is suitably employed for bonding components of a glass electric light bulb, namely, a glass material to a cap, a mirror material and a magnetic base, and for bonding components of an ignition plug, namely, an insulator composed of a ceramic material to a central electrode and an outer box both composed of a metallic material, where the various properties above are required. - 特許庁

PD13が形成された半導チップ10の素子形成面側の表面に更に再配線用層間縁膜13と、この上に形成された各PD13とそれぞれ対応するEBP21と、チップ10上に対応するPDのないDBP23と、PD13と対応するEBP21を接続する41と、DBP23と所定のEBP21とを接続するDB再配線43を備える。例文帳に追加

The device is provided with interlayer insulating films for rewiring 13 on a surface of an element forming face side of the semiconductor chip 10 where PD 13 is formed, EBP 21 corresponding to PD13 formed on the film, DBP 23 where corresponding PD does not exist on the chip 10, the wiring 41 connecting EBP 21 corresponding to PD13, and DB rewiring 43 connecting DBP23 with prescribed EBP 21. - 特許庁

休止モードは、基本的には高電圧を電極針4に印加しない休止期間を含み、この休止期間中に、帯電が接近して自己放電が発生すると、これに伴って抵抗R2に流れる電流値の対値が第1しきい値を越えると、電極針4に高電圧を印加してイオンを発生させる除電動作を開始する。例文帳に追加

The stop mode includes a stop period in which the high voltage is not basically applied on the electrode needle 4, and during this stop period, when a charged body approaches and self-discharge is generated, and if, accompanied with this, the absolute value of current flowing in a resistor R2 exceeds a first threshold, destaticizing operation to apply the high voltage on the electrode needle 4 to generate ions is started. - 特許庁

二つの誘電に対面するコイルは、樹脂からなるボビン1に縁被覆されたワイヤが巻かれてなり、該ボビンは、円筒形の筒部1aと、筒部1aの一端で径外方向に突出する第1フランジ1bと、筒部1aの他端で径外方向に突出する第2フランジ1cと、第1フランジ1b及び/又は第2フランジ1cから軸方向に突出する円錐状の突起1dとからなる。例文帳に追加

A coil facing two dielectrics is composed of windings of an insulator-covered wire around a resin bobbin 1 which is composed of a cylindrical tube 1a, a first and second flanges 1b, 1c projecting in the radially outward directions at one and the other ends of the tube, respectively, and conical protrusions 1d projecting in the axial direction from first and/or second flanges 1b, 1c. - 特許庁

遊技機本11が閉鎖されて開放検知センサ45からの開放信号の出力が途したとき、判定部56が、第1積算値記憶部52a及び第2積算値記憶部72aに記憶されている積算値を比較し、積算値が不一致であることを判定した場合、エラー処理部57がエラー処理を行う。例文帳に追加

When the game machine body 11 is closed and the output of the opening signal from the opening detecting sensor 45 is stopped, a determination part 56 compares the integrated values of the first integrated value storage part 52a and the second integrated value storage part 72a, and when the integrated values are determined to be a mismatch, an error processing part 57 conducts error processing. - 特許庁

基板の製造方法は、少なくとも表面に2を有する第1の基板1に第2の基板3を結合した結合基板5を準備する工程と、結合基板5の表面に金属不純物を捕獲するためのゲッタリング層4を形成し複合基板5’を作製する工程と、複合基板5’を熱処理する工程と、複合基板5’からゲッタリング層4を除去する工程と、を含むことを特徴とする。例文帳に追加

A method for manufacturing the substrate includes the stages of preparing a bonded substrate formed by bonding a 1st substrate 1 and a 2nd substrate 3 having insulators 2 at least on surfaces, forming a compound substrate 5' by forming a gettering layer 4 for capturing metal impurities on the surface of the bonded substrate 5, heat-treating the compound substrate 5', and removing the getternig layer 4 from the compound substrate 5'. - 特許庁

ケーブルのシースやを削り取る作業が要らず、作業現場を清潔に保つことでき、コネクターとケーブルの連結作業が非常に容易で、熟練した技術を持たない者でも連結作業が行え、作業時間の大幅短縮及び製作コストの低減が可能なコネクターを提供する。例文帳に追加

To provide a connector, capable of keeping a work site clean, since the shaving-off operation for a sheath of a cable and an insulator is not necessary and performing a connection operation by a person who does not have the skill or the technique, since the connection operation between the connector and the cable is very easy, and which significantly shortens the operation time and reducing the manufacturing cost. - 特許庁

アンテナ10は、帯状のCo系アモルファス11(軟磁性薄帯材料)をアルミナ板12()に巻回し積層した端部に曲率半径Rの曲面16を有するアンテナ用磁心13と、アンテナ用磁心13に巻回された送信用のコイル14と、コイル14に接続された発振回路15とから構成する。例文帳に追加

The antenna 10 consists of:the magnetic core for the antenna 13 having a curved surface 16 of a curvature radius R at its end where a belt-like Co-based amorphous 11 (soft magnetic thin belt material) is wound and laminated on an alumina plate 12 (insulator); a transmission coil 14 wound on the magnetic core 13; and an oscillation circuit 15 connected to the coil 14. - 特許庁

本発明の運動補助装置10によれば、エージェントPの運動態様および運動補助装置の動作態様の調和が崩れる可能性が高くなった状況、具的には第1位相差および目標位相差の偏差対値が閾値以上になった状況で例外的に「第2設定処理」が実行される。例文帳に追加

In this motion assisting device 10, "a second setting processing" is exceptionally performed in such a situation that harmony between the motion mode of the agent P and the motion mode of the motion assisting device is high probably lost, to be concrete, in such a situation that an absolute value of deviation between a first phase difference and a target phase difference is a threshold or more. - 特許庁

本発明は、シリコン基板11の両面に酸化膜からなる埋め込み縁層12,13を形成し、さらにそれぞれ上層に回路素子を形成するための素子形成領域となるシリコン層14,15を形成した構造を有し、各シリコン層14,15に回路素子を形成することにより、2倍の回路素子数を形成することが可能となる半導基板である。例文帳に追加

A semiconductor substrate has a structure in which embedded insulating layers 12 and 13 consisting of oxide films are made on both sides of a silicon substrate 11, and that silicon layers 14 and 15 to serve as element forming regions for the formation of circuit elements are made severally thereon, and it becomes possible to form twice as many circuit elements as before by forming circuit elements in each silicon layer 14 and 15. - 特許庁

同一の上に少なくとも画素部101およびセンサ部104を含む発光装置を含む発光モジュールであって、使用環境の照度をセンサ部104により感知し、それに応じて発光素子の発光輝度を調節し、環境照度に対する発光輝度の比率を一定に保つ手段を含む。例文帳に追加

This is a light-emitting module comprising a light-emitting device including at least a pixel part 101 and a sensor part 104 on the same insulating body, and comprises means for detecting illuminance of a use environment by the sensor part 104, adjusting the emitted light intensity of the light- emitting element according to the illuminance, and keeping a ratio of the emitted light intensity to the outside environment constant. - 特許庁

分断された各電線間をスリーブで接続した直線圧縮接続箇所を覆う縁スリーブカバーであって、カバー本は、分断された一方の電線L側と他方の電線R側とに、それぞれを分割する2つのパーツ2,3から構成し、前記各パーツ2,3は、結合手段4,5,8,9によって着脱可能に形成していることを特徴とする。例文帳に追加

This sleeve cover is to cover the linear compressively connected spot where parted wires are connected each other by a sleeve, and a cover body is composed of two parts 2, 3 to divide the sleeve to one on the parted wire L side and the other on the parted wire R side, and the respective parts 2, 3 are detachably formed by connecting means 4, 5, 8, 9. - 特許庁

撮像領域の複数のフォトダイオードとその周辺回路領域の各MOSトランジスタが混載された固撮像装置10において、フォトダイオード表面の反射防止膜7と、MOSトランジスタのゲート電極3の側壁に設けられるサイドウォール9とを、3層の縁膜4〜6を積層してフォトリソグラフィーとドライエッチングにより同時に同一工程で形成する。例文帳に追加

In the solid-state imaging apparatus 10 whereon a plurality of photodiodes in an imaging region and each MOS transistor in its peripheral circuit region are loaded together, a reflection preventing film 7 of a photodiode surface and a sidewall 9 provided to a side wall of a gate electrode 3 of the MOS transistor are formed simultaneously in the same process, by photolithograpy and dry etching by laminating three layers of insulating films 4 to 6. - 特許庁

波長多重伝送装置に用いるレーザモジュール内の半導レーザ素子において、膜応力を持った縁膜、電極膜、ひずみ調整膜の膜厚を調節する、またはチップキャリアやステムを実装する時に発生する応力を利用することによって、活性層に発生するひずみ量を変化させ、利得ピーク波長と発振波長とのずれを小さくする。例文帳に追加

In a semiconductor laser device in a laser module used for a wavelength division multiplex transmission apparatus, the amount of a distorsion occurring on an active layer is changed, and hence the difference between a gain peak wavelength and an oscillation wavelength is reduced by adjusting the thicknesses of an insulating film having stress, an electrode film, and a distorsion adjusting film, or by making use of stress occurring upon mounting a chip carrier and a stem. - 特許庁

産業機械の摺動部材の摩耗を検知するための摩耗ゲージであって、摺動部材に固定可能であり、先端部に間隔をもって配置された1以上の摩耗検知用ラインを備え、摺動部材の摩耗に伴い前記1以上の摩耗検知用ラインが段階的に摩滅する、縁板からなる摩耗ゲージ本部を備える。例文帳に追加

The wear gauge for detecting the wear of a slide member of an industrial machine can be fixed to the slide member, and is provided with one or more wear detecting lines arranged at intervals at a tip, and has a wear gauge body section made of an insulating board, where the one or more wear detecting lines wear in stages with the wear of the slide member. - 特許庁

1600A/cm^2以上の電流密度を有する縁ゲート型半導装置1において、素子領域erの表面を覆う電極2とリード13、14、15との接続手段接続手段として金属プレート8を用い、電極と金属プレートとの固着面積を電極の重畳部2oの面積の25%以上とする。例文帳に追加

In an insulating gate type semiconductor device 1 having a current density of ≥1,600 A/cm^2, a metal plate 8 is used as a means for connecting an electrode 2 covering the surface of an element region er with leads 13, 14, 15 and a fixing area of the electrode and the metal plate is 25% or larger in an area of an overlapping part 2o of the electrode. - 特許庁

熱収縮性ポリエチレンテレフタレートチューブを電子部品に被覆する前のチューブの脆化が少なく、収縮特性および開口性に優れ且つ電子部品に被覆後、高温下に長時間放置する際の耐熱性に優れた汎用電気縁材料や発熱被覆材料等の利用価値を有する熱収縮性ポリエチレンテレフタレートチューブを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a heat shrinkable polyethylene terephthalate tube having a utility value of a general purpose electrical insulation material, a heater- coating material or the like having small embrittlement of the tube before an electronic component is covered with the polyethylene terephthalate tube, excellent shrinkage characteristic and openability, and excellent heat resistance when the electronic component is left to stand for a long time at a high temperature after the component is covered with the tube. - 特許庁

通液性の電気縁シートを介して活性炭繊維シートを複数層積層し交互に逆極性の電圧を印加した積層に通水するようにした電気脱塩装置を、再生を繰り返しつつ通水するときに、徐々に破過までの通液時間が短くなり、透過水の導電率も高くなっていく問題を解消すること。例文帳に追加

To solve the following problems when water is passed through an electric desalter where a plurality of activated carbon fiber sheets are stacked through a liquid-permeable electrical insulating sheet and water is passed through the laminate to which voltage having a reverse polarity is applied, while repeating the regeneration of the desalter, a liquid feeding time until breakthrough becomes gradually shorter, and the electric conductivity of permeate is increased. - 特許庁

焼鈍後の巻鉄心端部を紙などで包み込む際、包み込む紙、及び、固定用のテープを一として供給できるようにするとともに、巻鉄心の厚さ(図15のW1)に合わせ事前に折り目をつけ、折り返し長さを最小にして、供給幅を標準化し管理を容易にしたアモルファス変圧器の縁紙製造機を提供する。例文帳に追加

To provide an insulating paper manufacturing machine of an amorphous transformer which can integrally feed wrapping paper and fixing tape, when wrapping a winding iron core end, after annealing with paper and which facilitates management, by previously forming a fold according to the thickness of the winding iron core (W1 of Fig.15), setting the length of a folded portion to the minimum, and standardizing a feeding width. - 特許庁

小型の電子部品であっても、容器内に電子部品、導電性メディア及び縁物粒を収納して振動を与えつつメッキするに際し、電子部品の合着や導電性メディアの合着による不良を抑制しつつ、電子部品にメッキ膜を確実に形成することを可能とする工程を備えた電子部品の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing electronic components provided with a process in which plating films can securely be formed on electronic components even which are compact, when the electronic components, electroconductive media and insulator powders are stored into a vessel and plating is performed as vibration is applied to the vessel, while suppressing defects caused by the fusion and bonding of the electronic components and the fusion and bonding of the electroconductive media. - 特許庁

ディスク状記録媒26にデータ及びデータに対応した管理情報の記録及び再生を行う信号処理手段12と、信号処理手段12に接続されている揮発性の第1の記憶手段25と、信号処理手段12に接続されており、主電源から電源の供給が途えても記録状態を保持する第2の記憶手段25とを備える。例文帳に追加

The disk drive is provided with a signal processing means 12 for recording and reproducing data and management information corresponding to the data on and from a disk-shaped recording medium 26, a volatile first storage means 25 connected to the signal processing means 12, and a second storage means 25 connected to the signal processing means 12 for holding a recording state even when power supply from a main power source is interrupted. - 特許庁

ガス容器Bの供給が途えた時は、駆動ベース部9aと従動ベース部9bを連結して一に前後摺動させ、係合手段6を対応するガス容器のスカートb1の内面前端側に適時に係合させて、搬送路a上に並んだガス容器Bを各係合手段6により搬送する。例文帳に追加

When supply of the gas canisters B stops, the driving base part 9a and the driven base part 9b are interconnected and integrally slid back and forth, an engaging means 6 is timely engaged with the front end side of the inner surface of the skirt b1 of the corresponding gas canister, and the gas canisters B arranged on the conveying passage a are conveyed by each engaging means 6. - 特許庁

多層配線基板11は、積層された複数の層12〜14で構成される基板110と、基板110の外面に設けられ、電子部品15が備える端子151と接続される端子142と、基板110の内部に設けられ、端子142と電気的に接続された配線パターン121、141とを有し、端子142のみが基板110から露出している。例文帳に追加

The multilayer wiring board 11 is provided with a substrate 110 comprising a plurality of laminated insulator layers 12-14, a terminal 142 provided on the outer face of the substrate 110 and connected with a terminal 151 provided in an electronic component 15, and the wiring patterns 121 and 141 provided inside the substrate 110 and electrically connected to the terminal 142; and the terminal 142 alone is exposed from the substrate 110. - 特許庁

還元性雰囲気での焼成によって得られるものであって、誘電率が高く、誘電率の温度変化および直流電圧印加下での経時変化が小さく、CR積が高く、高温高電圧における縁抵抗の加速寿命が長い、信頼性に優れた誘電セラミックを提供する。例文帳に追加

To provide dielectric ceramics which are obtained by firing in a reducing atmosphere, are high in a dielectric constant, lessen the temperature change of the dielectric constant and the change of the dielectric constant with time under a DC voltage loading, are high in the CR-product, are long in the accelerated life of the insulation resistance at a high temperature and under a high voltage and are excellent in reliability. - 特許庁

本発明は金属板に少なくとも一つのチップ搭載部と少なくとも一つの貫通溝を形成する段階と、上記金属板の全の外部面に一定の厚さの縁層を形成する段階と、上記チップ搭載部に搭載された発光チップと電気的に連結される電極部を形成する段階と、上記金属板を切断線に沿って切断してパッケージを分離する段階と、を含む。例文帳に追加

The method includes the steps of: forming at least one chip mounting section and at least one penetrating groove in a metal plate; forming an insulating layer with a specific thickness on the outer surface of the entire metal plate; forming an electrode electrically connected to a light emitting chip which is mounted on the chip mounting section; and cutting the metal plate along a cutting plane line so as to divide the package. - 特許庁

トラップボックス1と、誘導加熱コイル2と断熱材3とで構成され、前記トラップボックス1の内部には、複数のSUSトラップ板が互いに交差して配置され、前記トラップボックス1の下部にはその材質をとする断熱材が張られ、前記断熱材の下部に誘導加熱コイル2が配置された排気ガストラップ装置である。例文帳に追加

The exhaust gas trap device is provided with a trap box 1, an induction heating coil 2 and a heat insulating material 3, plural SUS trap plates are arranged to cross each other inside the trap box 1, the heat insulating material using the material as an insulator is lined on the lower part of the trap box 1 and the induction heating coil 2 is arranged on the lower part of the heat insulating material. - 特許庁

金属箔張積層板の表層金属箔を除去し、メッキにより表層縁層に導層を形成するプリント配線板の製造法において、該金属箔張積層板が表層金属箔に接してブロック共重合ポリイミド樹脂層が配置された金属箔張積層板であるプリント配線板の製造法。例文帳に追加

In the method of fabricating a printed circuit board through removing a surface-layer metal foil of a metal-foil-clad laminated plate and forming a conductor layer on a surface-layer insulating layer by plating, the metal-foil-clad laminated plate is a metal-foil-clad laminated plate that has a block copolymer polyimide resin layer arranged in contact with the surface-layer metal foil. - 特許庁

スペーサ構は、第1および第2基板に対向して配設され、それぞれ電子放出源に対向した複数の電子ビーム通過孔26を有しているとともに縁層25で被覆された支持基板24と、複数の電子ビーム通過孔間で、支持基板の少なくとも一方の表面上に立設された複数のスペーサ30a、30bと、を備えている。例文帳に追加

The spacer body structure is provided with a support substrate 24 arranged in opposition to the first and the second substrates, equipped with a plurality of electron beam passing holes 26 set in opposition to the respective electron emission sources and coated with an insulating layer 25, as well as a plurality of spacers 30a, 30b erected on at least either surface of the support substrate 24 among the plurality of electron beam passing holes. - 特許庁

例文

トレンチ9の表面間隔の異なる平行トレンチ部分9a同士は斜行トレンチ部分9bによって交差すること無く連結されるトレンチ表面パターンを備え、前記平行トレンチ部分9aの側壁面の面方位が、前記主面の面方位(100)と直交する等価な面方位{100}であるトレンチ縁ゲート型半導装置。例文帳に追加

In a trench insulated gate type semiconductor device, a trench surface pattern is provided in which both of the parallel trench parts 9a that are different in the surface spacing of a trench 9 are coupled without crossing with skewed trench parts 9b; and the orientations of the sidewall surfaces of the parallel trench parts 9a are equivalent orientations {100} that are orthogonal to the orientation (100) of a principal surface. - 特許庁

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