「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(378ページ目) - Weblio英語例文検索

透明支持体上に、少なくとも２層の赤外感光性層を有し、その分光感度曲線の最大感度を与える赤外波長λｍａｘが６７０ｎｍ以上８４０ｎｍ以下であり、かつ最小濃度（Ｄｍｉｎ）における粒状度（ＲＭＳ値）が３以上１０以下であり、画像露光後、白黒現像処理によって画像を形成する赤外撮影用ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法。例文帳に追加

The silver halide photographic sensitive material has at least two infrared sensitive layers on a transparent base, infrared wavelength λmax giving the maximum sensitivity of its spectral sensitivity curve is 670-840 nm, graininess (RMS value) at the minimum density (Dmin) is 3-10 and an image is formed by black-and-white development after image exposure. - 特許庁

次いで、めっきレジスト層３を除去した後、バンプ４および位置合わせ用ターゲット５を被覆できる厚さのエッチングレジスト層７を形成し、エッチングレジスト層７に所定の配線パターンを位置合わせ用ターゲット５に対して位置合わせをして露光現像し、エッチングして回路配線９を形成する。例文帳に追加

The method further includes the steps of then, removing the plated resist layer 3, thereafter forming an etching resist layer 7 of the thickness capable of coating the bump 4 and the register mark 5, aligning and exposure developing a predetermined wiring pattern on the etching resist layer 7 to the register mark 5, and etching to form circuit wiring 9. - 特許庁

ハロゲン化銀乳剤層を有し露光済であるハロゲン化銀写真感光材料と、現像主薬及び／又は現像主薬プレカーサと塩基及び／又は塩基プレカーサとを含有する処理部材と、を重ね合わせて現像を行い、前記ハロゲン化銀写真感光材料に画像を形成させる画像形成方法である。例文帳に追加

In the image forming method, an exposed silver halide photographic sensitive material with a silver halide emulsion layer and a processing member containing a developing agent and/or its precursor and a base and/or its precursor are overlapped, and development is carried out to form an image in the silver halide photographic sensitive material. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザ光等の２２０ｎｍ以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性（微細なパターンが基板から剥がれにくい）を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。例文帳に追加

To provide a highly practical negative photoresist suitable for lithography using light of ≤220 nm such as ArF excimer laser light as exposure light and having resistance to pattern deformation due to swelling and adhesion to a substrate (a fine pattern is less liable to peel off a substrate) in addition to dry etching resistance and high resolution. - 特許庁

そして、オーバークラッド層を形成する際には、上記成形型Ｍの凹部２１内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面にパターン形成されたコアを浸した状態で、上記成形型Ｍを透して上記感光性樹脂を露光し硬化させる。例文帳に追加

In the step of forming the over-cladding layer, a photosensitive resin for forming the over-cladding layer is filled in the recess 21 of the mold M, and the photosensitive resin is exposed to light through the mold M and cured with a core which is patterned on the surface of an under-cladding layer immersed in the photosensitive resin. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

このように、プラスチックカードの内部に未露光のフォトポリマー層を形成しておけば、成型済みのカードに直接ホログラムを記録することが可能となり、例えばオンデマンドプリントシステムと組み合わせることで、顔写真のような個人情報や一枚毎に異なるデータを盛り込んだカードの即時発行が実現される。例文帳に追加

By forming an unexposed photopolymer layer inside the plastic card, a hologram can be directly recorded in the molded card, which means a card having personal information such as a photograph of the holder's face and distinctive data different for each card can be instantly issued by combining the card with an on-demand printing system. - 特許庁

シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。例文帳に追加

When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened. - 特許庁

活性エネルギー線に対して高感度であり、特にレーザー光の直接描画による露光硬化性に優れ、且つ、現像性、指触乾燥性、はんだ耐熱性、無電解金めっき性、耐アルカリ性、ＰＣＴ及びＰＣＢＴ耐性に優れソルダーレジストとして有用なアルカリ現像型の光硬化性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an alkali-developable photocurable resin composition having high sensitivity to active energy rays, excellent in curability under exposure by direct drawing especially with laser light, excellent in developability, tack-free property, resistance to the heat of soldering, suitability to electroless gold plating, alkali resistance, PCT and PCBT resistances, and useful as a solder resist. - 特許庁

酸素遮断層を有しない印刷版原版に、光重合により潜像形成を行った後、アルカリ現像を行う印刷版原版を用いる際にも、操作が簡便で、ランニングコストの上昇を招くことなく、さらに白灯安全性を向上させ得る、ダイレクト製版を好適に行うことが可能な印刷版露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus of a printing plate, which is preferably direct platemaking with easy operation and improving safeness for white light without increasing the running cost even when the apparatus is used for a printing original plate having no oxygen shielding layer to be subjected to formation of a latent image by photopolymerization and then to alkali development. - 特許庁

基板１上に被エッチング膜２を形成し、被エッチング膜２上にレジストを形成し、レジストに対し露光及び現像を行ってレジストパターン３を形成し、ハロゲンを含むエッチングガスによりプラズマを発生させてレジストパターン３をマスクとして被エッチング膜２をエッチングするエッチング方法を用いる。例文帳に追加

The etching method performed by forming a film 2 to be etched on a substrate 1, forming the resist on the film 2 to be etched, exposing and developing the resist to form a resist pattern 3, generating plasma with an etching gas containing halogen and using the resist pattern 3 as a mask to etch the film 2 to be etched is used. - 特許庁

作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシステムに適合し、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な走査露光用平版印刷版等の画像記録材料として用いることができ、広く３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系を用いる感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive composition using a new photopolymerization initiation system having high sensitivity to a wide wavelength range of 350-450 nm, excellent in work efficiency and economical efficiency, adaptable to a CTP system, and usable as an image recording material mainly of a lithographic printing plate for scanning exposure having high sensitivity to the oscillation wavelength of an inexpensive shortwave semiconductor laser. - 特許庁

主パターン１０と補助パターン１２とが形成されたフォトマスクを用いて露光した際にフォトレジスト膜上に転写されるパターンをシミュレートするシミュレーション方法であって、補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行う。例文帳に追加

The simulation method aims to simulate a pattern to be transferred onto a photoresist film upon exposing the film by using a photomask comprising a main pattern 10 and an auxiliary pattern 12, wherein data prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern are used as dimension data of the auxiliary pattern. - 特許庁

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance). - 特許庁

アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、２００〜４００ｎｍの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ４５ｎｍ以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。例文帳に追加

To provide a low-reflective photomask which essentially consists of aluminum, has high light-shielding property and excellent pattern processability, exhibits a low reflectance at an exposure wavelength, is relatively gradual in reflectance variation in a wavelength range from 200 to 400 nm, and is suitable for lithographic techniques aiming to a half pitch of 45 nm and beyond (smaller) on a wafer, and to provide a photomask blank. - 特許庁

マスタークロックの周波数の変更によって固体撮像素子の動作の基準となるクロックの周波数が変わると、同じシャッターゲイン量から計算して求めたライン設定値等でも、クロック周波数の変化に応じてシャッター速度が変化するため、露光時間が異なるものとなってしまう。例文帳に追加

To solve the problem wherein an exposure time gets different because a shutter speed is varied corresponding to a change in clock frequency even while a line setting value etc are obtained from the same shutter gain volume through calculation, when a clock frequency which serves as the standard of the operation of a solid-state image sensor is varied with a frequency change in a master clock. - 特許庁

ＲＧＢ３色のＬＥＤをストロボ光源とするストロボ装置を備え、動画撮影と静止画撮影を選択的に行うことができるデジタルスチルカメラにおいて、動画撮影時、被写界の色温度と同じ色温度の光をＣＣＤの露光期間に同期させてストロボ装置から発光させる。例文帳に追加

In a digital still camera which is provided with a stroboscope device that uses a three-color LED of RGB as a stroboscopic light source and can selectively perform moving picture photographing and still picture photographing, light of the same color temperature as the color temperature of a field is synchronized for an exposure period of a CCD and made to emit from the stroboscopic device in a moving picture photographing mode. - 特許庁

分散安定性に優れ、透明性に優れ、また塗布膜を形成してもピンホールの発生が低減される顔料、分散安定性に優れた顔料分散組成物、保存安定性、塗布性、感度、未露光部現像性、基板密着性、パターン形状等に優れた硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pigment excellent in dispersion stability, excellent in transparency and capable of reducing generation of a pinhole even if a coating film is formed, a pigment dispersion composition excellent in dispersion stability, a curable composition excellent in storage stability, coatability, sensitivity, non-exposure part developability, substrate adhesion property and a pattern shape, a color filter, and its manufacturing method. - 特許庁

酸脱離反応により保護基が脱離して親水性となる疎水性のベースポリマーと、光により酸を発生する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１にマスク１２を介してＦ_2 レーザ光１３を照射してパターン露光を行なう。例文帳に追加

A resist film 11 consisting of a chemical amplification type resist material including a hydrophobic base polymer which is made hydrophilic by elimination of a protective group by an acid elimination reaction and an acid generating agent to generate an acid with light is formed and thereafter this resist film 11 is irradiated with an F_2 laser beam 14 across a mask 12 and is thus exposed with patterns. - 特許庁

補正倍率調整が容易で、補正倍率調整を行なうときに結像性能を劣化させることなく、また、補正できる幅が広く、さらに、補正倍率調整を安定した構成を維持して行なうことができる投影光学系、および、補正倍率調整などの作業効率に優れた投影露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a projecting optical system in which correction magnification is easily adjusted, a deterioration in image forming performance at the time of adjusting the correction magnification is prevented, width to be corrected is wide and the correction magnification is adjusted while maintaining stable constitution, and to provide a projecting exposure device excellent in the operation efficiency of correction magnification adjustment or the like. - 特許庁

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same. - 特許庁

この現像装置は、画像情報に基づいて露光された感光材料を搬送しながら現像処理し出力し、動作モード切替機能により、通常の現像処理を行う通常モード５１と、感光材料の搬送速度を速くし処理時間を短くすることで通常モードよりも速く現像処理を行う迅速モード５２と、に切替可能である。例文帳に追加

The developing device performs development processing of the photosensitive material exposed based on image information while conveying the material and outputs the same and can be switched by an operation mode switching function to an ordinary mode 51 of performing the ordinary development processing and a fast mode 52 of performing the development processing faster than the ordinary mode by making the conveyance speed of the photosensitive material faster and making the processing time shorter. - 特許庁

本発明の目的は、高感度、高コントラストであり、かつ圧力性等の諸特性が改善された、また、露光から現像までの時間の変化によらず安定した性能を得ることができる、ハロゲン化銀写真乳剤、ハロゲン化銀写真乳剤の製造方法およびハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。例文帳に追加

To prepare a silver halide photographic emulsion having high sensitivity, high contrast and various improved characteristics such as pressure sensitivity and capable of ensuring stable performance regardless to changes in the time from exposure to development, to obtain a silver halide photographic sensitive material and to further prepare a silver halide photographic emulsion most suitable for high illuminance exposure with lasers or light emitting diodes. - 特許庁

最表面の電荷輸送層がフッ素含有樹脂微粒子を含有する機能分離型感光体、記録ドット密度が４００ドット／インチ以上のデジタル像露光装置、および体積平均粒径が２〜５．５μｍであり、かつ体積粒径１μｍ以下の粒子の含有割合が１．０体積％以下であるトナーを備えた画像形成装置。例文帳に追加

The image forming apparatus comprises a function separated photoreceptor whose charge transport layer in an outermost surface contains fine fluororesin particles, a digital image exposure device with a recording dot density of ≥400 dot/in, and a toner having a volume average particle diameter of 2-5.5 μm and including ≤1.0 vol.% of particles whose volume particle diameter is ≤1 μm. - 特許庁

例えば、液晶表示装置のＴＡＢとＩＴＯ端子の接続を行う場合、液晶パネルのガラス基板上１に形成された各ＩＴＯ電極２の接続される端部のみに上記組成物を塗布し、乾燥、露光、現像を行って異方性導電パターン３を電極上のみに形成する。例文帳に追加

For example, when a TAB of a liquid crystal display device is connected to a terminal of each ITO electrode 2, only the terminal to be connected of the ITO electrode 2 formed on a glass substrate 1 of a liquid crystal panel is coated with the composition, and drying, exposure and development are then carried out to form the anisotropic electroconductive pattern 3 only on the electrode 2. - 特許庁

対象物体にパルス光を投射し、対象物体からの反射光を複数の光電変換素子からなる撮像エリアセンサで受光し、パルス光の投射に同期したタイミングで撮像エリアセンサの露光制御を行い、撮像エリアセンサの出力に基づいて光電変換素子毎に距離を測定する。例文帳に追加

Pulse light is projected on an object, reflection light from the object is received by a photographing area sensor consisting of a plurality of photoelectric transfer elements, light exposure control of the photographing area sensor is done with a timing with the projection of pulse light, and a distance is measured by each photoelectric transfer element based on an output of the photographing area sensor. - 特許庁

ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジスト等のライン系等のレジストパターン上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターン等を低コストで簡便に効率良く形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。例文帳に追加

To provide a thickening material of a resist pattern, the material allowing ArF laser light to be used, capable of thickening a resist pattern without depending on the size only by applying the material on a resist pattern such as lines of an ArF resist or the like, and capable of efficiently and easily forming a fine space pattern beyond the exposure limit at a low cost. - 特許庁

従来はサンプルを固着させるスポット状のウェルを形成するために、レジスト塗布→露光→開口部エッチング→アノーダイジング処理→レジスト除去などの工程が必要であったが、本発明では全面へのアノーダイジング処理１工程だけで済むため、作製工程や作業時間、製造コストの面で有利である。例文帳に追加

Conventionally, processes for resist coating→exposure→the etching of the opening parts→anodizing treatment→the removal of a resist are required in order to form the spot like well for fixing the sample but, since one anodizing treatment process to the whole surface may be performed, this sample plate is advantageous from an aspect of a manufacturing process, a working time, and a process cost. - 特許庁

発振波長が３５０〜５００ｎｍの半導体レーザ又は発光ダイオードの像露光光源で形成された有機感光体上の静電潜像を高細密に形成し、該高細密に形成された静電潜像を忠実にトナー像として再現し、印刷分野に適した高細密の電子写真画像を形成できる有機感光体、画像形成方法、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide an organophotoreceptor, an image forming method and an image forming apparatus by which a highly minute electrostatic image suitable for a printing field can be formed by highly minutely forming an electrostatic latent image on an organophotoreceptor with an image exposure light source comprising a semiconductor laser or a light emitting diode having an oscillation wavelength of 350 to 500 nm and by faithfully reproducing the highly minutely formed electrostatic latent image into a toner image. - 特許庁

基盤１ａ上の架橋性層２ａの上にレジスト突起１１を形成してスタンパー５１とするブランク盤５０において、上記架橋性層２ａの厚さをレーザビームの定在波の１／２波長とし、上記レジスト突起１１の底辺での露光強度を抑え、大きな断面傾斜角を得る。例文帳に追加

The blank disk to obtain the stamper 51 by forming the resist projection 11 on a crosslinkable layer 2a on a substrate 1a is specified in the thickness of the crosslinkable layer 2a to the wavelength half the standing wave of a laser beam, by which the exposure intensity at the base of the resist projection 11 is suppressed and the large angle of the sectional inclination is obtained. - 特許庁

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。例文帳に追加

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step. - 特許庁

また、第１特定レンズエレメントＬＳ７に露光光ＥＬの光軸方向において隣り合う第２特定レンズエレメントＬＳ６と、第２特定レンズエレメントＬＳ６の光射出面側の空間１６に純水ＬＱを供給する第２ノズル部材２１との間の隙間Ｓ１には、シール材２８が設けられている。例文帳に追加

Further, a seal member 28 is provided on a gap S1 between a second specific lens element LS6 adjacent to the first specific lens element LS7 in an optical axial direction of an exposure light EL and a second nozzle member 21 for supplying pure water LQ to a space 16 on the light emitting surface side of the second specific lens element LS6. - 特許庁

マイコン２０が出力する、基準白板の密着イメージセンサ８による副走査方向の読み取り範囲を示すＳＬＥＡＤ信号に同期して、原稿の読取開始に先立って露光走査用の光源であるＬＥＤアレイ１１を消灯したまま基準白板を読み取ることで、黒シェーディング補正に用いる黒オフセット補正データの検出を行う。例文帳に追加

Black offset correction data used for black shading correction can be detected by reading the reference white board while extinguishing an LED array 11 being a light source for exposure scanning prior to start reading an original synchronously with an SLEAD signal that is outputted from the microcomputer 20 and denotes a read range of the reference white board by a close contact image sensor 8 in the subscanning direction. - 特許庁

コア層１３ａの上に、紫外線硬化樹脂を塗布してクラッド層１４を形成した後、情報用凹凸部１６に対応した凹凸パターンを有する樹脂スタンパ２３を表面に貼り合せた状態で紫外線照射（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ^2）を行い、クラッド層１４を硬化させる。例文帳に追加

After a UV curing resin is applied onto the core layer 13 to form the clad layer 14, irradiation with UV (1,500 mJ/cm^2 of exposure amount) is performed in such a state that a resin stamper 23 having a rugged pattern corresponding to a rugged part 16 for information is stuck to the surface of the clad layer to cure the clad layer 14. - 特許庁

帯電手段によって潜像形成準備を行い、その後の像露光によって潜像形成を行う電子写真装置に用いる電子写真感光体の画像形成領域において、任意の５ｍｍ以内の領域における電子写真感光体の最大膜厚と最小膜厚との差が１μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体。例文帳に追加

In the image forming region of the electrophotographic photoreceptor used in an electrophotographic device in which preparation for latent image formation is made by an eledrifying means and a latent image is formed by imagewise exposure, the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness of the photoreceptor in an arbitrary region of <5 mm is ≤1 μm. - 特許庁

感光性ガラス１に紫外線マスク露光法によりマスクを用いて紫外光を照射し、現像処理し、酸でエッチングして、格子状の溝をＸ線入射方向に形成し、その溝にタングステン等の重金属粉を充填封入し、縦溝遮蔽１１ａと横溝遮蔽１１ｂを形成する。例文帳に追加

Vertical groove shields 11a and lateral groove shields 11b are formed by irradiating a photosensitive glass 1 with ultraviolet rays with a mask by an ultraviolet-ray mask exposure method, processing the glass, etching it with an acid, making grooves shaped like a lattice in the direction of the incidence of X rays and filling and encapsulating the powder of heavy metal like tungsten into the grooves. - 特許庁

キャリア１０が画像入力装置１１０にセットされた際、又はマガジン２０、３０が画像露光装置１３０にセットされた際には各ＩＤ番号を読み取ってスキャニング条件、又はプリント条件の設定データを取得し、この設定データに基づいてスキャニング条件、又はプリント条件を設定する。例文帳に追加

When the carrier 10 is set to an image input apparatus 110, or the magazines 20, 30 are set to an image exposure apparatus 130, each ID number is read and setting data of the scanning condition or the print condition are acquired and the scanning condition or the print condition is set on the basis of the setting data. - 特許庁

複数のＰＷＭ変調モータードライバーを有する露光装置において、ＰＷＭ変調用クロック発振器は個別に持たずに、外部あるいはマスタースレーブ供給手段を設け、共通クロックあるいは周波数は等しく位相がドライバーごとに異なるクロックによりＰＷＭ変調を行う手段を設ける。例文帳に追加

In the aligner equipped with a plurality of PWM motor drivers, PWM clock oscillators are not separately provided, an external or master/slave feed means is provided, and a means is provided which carries out PWM through a common clock or a clock where frequency is kept the same, but phase is set different for each driver. - 特許庁

たとえば別の基板を露光している間の基板の除去を容易にするために、基板、基板テーブル若しくはその両方の代わりに、たとえば液体を拘束している密閉を損なうことなく、リソグラフィ装置内の液体を含有した空間の境界の一部としてアクチュエーテッド密閉プレートが使用される。例文帳に追加

To facilitate removal of a substrate while, e.g., exposing another substrate, an actuated sealed plate is used as a part of the boundary of a space containing liquid within lithography equipment instead of a substrate, a substrate table or both of them without, e.g., impairing the sealing for constraining the liquid. - 特許庁

一方、ソフトウェア機能アップデートのアクティベーションの日付および時刻が基板またはロットの第１の露光より前である場合、そのロットまたは基板は古いソフトウェア機能の影響を受けず、すべての基板層のパターン転写の制御に、アップデートされた新しいソフトウェア機能を使用することができる。例文帳に追加

If, on the other hand, the date and time of activation of the software-functionality update is earlier than the first exposure of the substrate or lot, then, for the lot or substrate, an updated, new software-functionality may be used to control the pattern transfer of all of the substrate layers without being affected by the old software-functionality. - 特許庁

プラズマ生成用のＲＦ電源７及びプラズマイオンの入射エネルギ調整用のＲＦ電源２４に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、還元性ガスをラジカル化し、露光によりフォトマスクの遮光層に取り込まれた酸素原子を、酸化還元反応によって引き出すことにより、酸化層を除去する。例文帳に追加

A high-frequency power is applied to an RF power supply 7 for generating plasma and an RF power supply 24 for regulating incident energy of plasma ion to generate plasma, the reductive gas is radicalized, and oxygen atom captured by the exposure in a light-shield layer of the photomask is extracted by an oxidation-reduction reaction to remove an oxide layer. - 特許庁

レーザコントローラ４の指示によりレーザ装置１がステージ上の９つの所定位置に半導体位置検出素子３を配置し、半導体位置検出素子３上の所定の位置にレーザを照射し、各半導体位置検出素子３は実際に露光された照射位置を検出して、その検出位置のデータをレーザコントローラ４へ送信する。例文帳に追加

According to the indication from a laser controller 4, a laser device 1 arranges semiconductor position detection elements 3 at nine prescribed positions on a stage, the prescribed positions on the semiconductor position detection elements 3 is irradiated with laser beams, and each semiconductor position detection element 3 detects the actually exposed irradiation position and transmits the data on the detection position to the laser controller 4. - 特許庁

画像形成装置１００は、副走査方向に並列して配設される２つのＬＥＤヘッド１ａ，１ｂを備え、ラインメモリ２５ａ〜２５ｄに格納した２ライン分の画像データ信号を２つのＬＥＤヘッド１ａ，１ｂに同時に転送して、ＬＥＤヘッド１ａ，１ｂにおいて２ライン分の画像データ信号を同時に露光する。例文帳に追加

The image forming apparatus 100 comprises two LED heads 1a and 1b arranged in parallel in the subscanning direction and transfers image data for two lines stored in line memories 25a-25d simultaneously to two LED heads 1a and 1b where the image data for two lines is exposed simultaneously. - 特許庁

透明基板上に遮光領域を含む領域に形成された遮光膜パターンと、露出された該透明基板上に形成された位相反転膜とを持ち、位相反転膜は、露光光に対して１６０゜ないし２００゜の位相差を持ち、遮光膜パターン及び位相反転膜は、同じエッチング物質によりエッチングされることを特徴とするブランクマスク。例文帳に追加

The blank mask includes a light shielding film pattern formed in a region including a light shielding region on a transparent substrate and a phase inversion film formed on the exposed transparent substrate, and the phase inversion film has a phase difference of 160 to 200° relative to exposure light, and the light shielding film pattern and the phase inversion film are etched with the same etching material. - 特許庁

感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、露光後のコントラスト性に優れ、剥離片サイズが微小であり、硬化膜柔軟性に優れ、アルカリ現像型プリント配線板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution of a resist pattern after development, generating little scum in a developing stage, having excellent contrast after exposure, forming peeled pieces having small sizes, giving a cured film having excellent softness and useful as a DFR for the preparation of a substrate for an alkali-developing printed circuit board, a lead frame and a semiconductor package. - 特許庁