「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(380ページ目) - Weblio英語例文検索

活性エネルギー線に対して高感度であり、特にレーザー光の直接描画による露光硬化性に優れ、且つ、現像性、指触乾燥性、はんだ耐熱性、無電解金めっき性、耐アルカリ性、ＰＣＴ及びＰＣＢＴ耐性に優れソルダーレジストとして有用なアルカリ現像型の光硬化性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an alkali-developable photocurable resin composition having high sensitivity to active energy rays, excellent in curability under exposure by direct drawing especially with laser light, excellent in developability, drying property to set to the touch, resistance to the heat of soldering, suitability to electroless gold plating, alkali resistance, PCT and PCBT resistances, and useful as a solder resist. - 特許庁

ライトガイド３１ａとライトガイド３１ｂとは合流用治具３８においてライトガイド３５に合流されるため、２つの光源ユニット４０ａ，４０ｂから出射されたそれぞれの光は結局ライトガイド３５によってレンズ系２９まで導かれ、スピンチャック１３に保持された基板Ｗの端縁部に向けて出射されてエッジ露光処理が進行する。例文帳に追加

Since the light guide 31a and the light guide 31 are joined at a joining jig 38 into a light guide 35, each light from two light source units 40a and 40b being guided after all through the light guide 35 to a lens system 29 and cast to an edge part of a substrate (W) held by a spin chuck 13 to carry out an edge exposing process. - 特許庁

帯電、露光、現像、転写を行った後に除電手段を設けることなく次帯電を行う電子写真装置において、電子写真感光体が導電性支持体上に感光層を設けてなる有機光導電性感光体であり、該感光層がポリアリレート樹脂を含有し、該感光層中の硫黄含有量が質量で０．５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする電子写真装置。例文帳に追加

The electrophotographic apparatus in which electrostatic charge, exposure, development and transfer are performed and then next electrostatic charge is performed without disposing a charge eliminating device, is characterised in that an electrophotographic photoreceptor is an organic photoconductive photoreceptor obtained by disposing a photosensitive layer on a conductive support, the photosensitive layer contains a polyarylate resin, and a sulfur content of the photosensitive layer is 0.5-50 ppm by mass. - 特許庁

本発明の課題はフォトリソグラフィー法を用いたカラーフィルターの製造にあたり、本来の目的である色フィルターの性能を劣化せず、パターン形成時の露光量を低下し、作業効率の向上できるカラーフィルター用感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin compsn. for color filters which does not deteriorate the performance of the performance of the color filters and capable of decreasing the quantity of exposure and improving working efficiency at the time of pattern formation at the time of producing the color filters using a photolithography method and a process for producing the color filters using the same. - 特許庁

露光された前記フォトレジスタを現像し、２層に真空蒸着されたゴールド（白金）、チタニウム（クロム）をパターニングされたフォトレジスタを中心に順次にエッチングした後、ガラス表面をエッチングして所望のパターン表面を滑らかにし、チタニウム（クロム）、ゴールド（白金）を除去してからガラス基板にニッケル鍍金層を積層し、ニッケル鍍金層を離型させてマスターを製作する。例文帳に追加

The exposed photoresistor is developed, and the vacuum-deposited two layers of gold (platinum) and titanium (chromium) around the patterned photoresistor are etched in order, and then the desired pattern surface is made smooth by etching the glass surface, and after removing titanium (chromium) and gold (platinum), a nickel plating layer is laminated on a glass substrate, and the nickel plating layer is released from a mold to produce a master. - 特許庁

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。例文帳に追加

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition. - 特許庁

帯域制限化回路２０において、入力された戻り光量Ｓ１の周波数帯域をギャップ制御帯域内に制限して、記録用レーザー光ＬＢ１の情報源１による変調の影響や、ガラス原盤１７の面荒れ、露光装置の共振等の影響を受けない帯域制限後の戻り光量Ｓ２を出力する。例文帳に追加

In a band-limited circuit 20, the frequency band of an inputted return light quantity S1 is limited within a gap control band, and a return light quantity S2 after a band limitation not influenced by a modulation by the information source 1 of a laser beam LB1 for recording, the surface roughness of a glass master disk 17, the resonance of an exposure device, etc., is outputted. - 特許庁

ピクセルクロックの周波数を下げた場合、１画素を露光する時間が長くなるため、また、ポリゴンミラー１８の回転速度を速めると、ポリゴンミラー１８からの反射光が単位時間で主走査方向に振られる範囲が広がるため、いずれも、印画紙上に形成すべき各ドットが主走査方向に広がる。例文帳に追加

When the frequencies of the pixel clocks are lowered, the time for exposing one pixel is longer and when the rotating speed of the polygon mirror 18 is increased, the range where the reflected light from the polygon mirror 18 is swung in the main scanning direction is widened in a unit time and therefore in both cases, the respective dots to be formed on the photographic paper spread in the main scanning direction. - 特許庁

導電性支持体及び該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体の回転過程において、帯電、露光、現像及び転写を含む電子写真プロセスが繰り返し行われる際に、電子写真プロセスが所定回数繰り返されたときに前記感光層表面の帯電電位を低下させる。例文帳に追加

In the rotation process of an electrophotographic photoreceptor comprising a conductive support and a photosensitive layer formed on the support, when an electrophotographic process including electrostatic charge, exposure, development, and transfer is repeatedly carried out, surface potential of the photosensitive layer by electrostatic charge is lowered after the electrophotographic process is repeated for a prescribed number of times. - 特許庁

基板ＳＵＢ１上に、狭いギャップＧＰ１で離間されたゲート電極ＧＥ２と補助パターンＡＰ２を含む導体パターンＣＰ３を形成してから、それを覆うようにゲート絶縁膜用の絶縁膜ＧＩＦ２を形成し、その上にレジスト膜ＲＰ４を形成し、基板ＳＵＢ１の裏面側からレジスト膜ＲＰ４を露光する。例文帳に追加

A conductor pattern CP3 including a gate electrode GE2 and an auxiliary pattern AP2 spaced apart by a narrow gap GP1 is formed on a substrate SUB1, an insulating film GIF2 for a gate insulating film is formed so as to cover the same, a resist film RP4 is formed thereon, and the resist film RP4 is exposed from the back surface side of the substrate SUB1. - 特許庁

少なくとも帯電手段、画像露光手段、反転現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段及び電子写真感光体を具備してなる電子写真画像形成装置における電子写真感光体として、黒斑点、黒ポチなどの異常画像の発生が低減された電子写真感光体を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor reduced in an abnormal image such as a black spot and a black dot as the electrophotographic photoreceptor in an electrophotographic image forming apparatus provided with at least an electrifying means, an image exposing means, a reverse developing means, a transfer means, a cleaning means, a discharge means and the electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

残留電位の上昇と画像ボケの発生を共に改善し、短波光源による露光においても問題を生ぜず、極めて高画質画像が得られる、耐摩耗特性に優れた電子写真感光体を提供し、該電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor improved in both of an increase of a residual potential and generation of image blur, free from problems even in exposure by a light source at a short wavelength, capable of forming an image of extremely high picture quality, and excellent in wear resistance characteristics; and to provide an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

このフォトマスクは、ウェハＳＢ上に形成すべき回路パターンの設計情報に基づいて、４つのメインパターンＭＰ１〜ＭＰ４を環状に配置し、４つのメインパターンＭＰ１〜ＭＰ４の内側の４つの頂点によって形成される四角形Ｑの２本の対角線Ｌ１，Ｌ２の交点Ｏに、露光パターンの焦点深度を増大させるためのサブパターンＳＰを配置する。例文帳に追加

The photomask has four annularly arranged main patterns MP1-MP4 based on design information of a circuit pattern to be formed on a wafer SB, and a sub-pattern SP is arranged at an intersection point O of two diagonal lines L1 and L2 of a quadrangle Q formed by four vertices inside the four main patterns MP1-MP4 in order to increase a depth of focus of an exposure pattern. - 特許庁

Ｘ線撮影装置中の散乱防止グリッドの移動は、その時間座標が前記露光時間（ＴＰ）の半分に等しく、かつそれについての時間変数の空間微分が、グリッドの移動範囲の中央を通る対称軸について対称な２つの直線部分を有する点（ＳＰ）について点対称となる連続曲線（ＣＢ）となる。例文帳に追加

Movement of a scattering-proof grid in a radiography instrument results in a continuous curve (CB) wherein its time coordinate is equal to a half of the above decribed exposure time (TP) and space differential of time variable on it is symmetric with respect to a point (SP) with two straight parts being symmetric with respect to a symmetric axis passing through the center in the range of movement of the grid. - 特許庁

このようにして加工したワークを、例えば露光装置のワークステージとして用いる場合には、加工したときの固定式支持体１の配置と同じ位置関係になるように支持体を配置して、加工したときと同じ支持状態を再現させることにより、ワークの表面が平坦になるように設置する。例文帳に追加

When the workpiece processed like this is used as a work stage of an exposure device, for example, the support body is disposed so as to be the same positional relationship as the disposition of the fixed type support body 1 when it is processed, and the workpiece is installed so that the surface of the workpiece becomes flat by recreating the same support state when it is processed. - 特許庁

透明板の平坦な主表面に位相シフトパターンを形成し、この位相シフトパターンの端部をＣｒ等の金属膜よりも反射率の小さい誘電体、高抵抗体、又は有機体の遮光膜パターンで被覆したマスクを用いて、被加工物の表面に形成された感光性膜に対してこのマスクパターンを投影露光して転写する。例文帳に追加

The mask formed by forming phase shift patterns on the flat main surface of a transparent plate and coating the ends of the phase shift patterns with light shielding film patterns of a dielectric substance, high resistor or organic material having the reflectivity smaller than the reflectivity of a metallic film of Cr, etc., is used and the mask patterns are transferred by projection exposing to a photosensitive material formed on the surface of a work piece. - 特許庁

パターン固定工程は、感光性有機材料をパターン層内に含浸させる工程と、感光性有機材料が含浸したパターン層を露光する工程と、パターン層表面の感光性有機材料を除去してカーボンナノチューブをパターン層表面に露出させる工程と、パターン層内部の感光性有機材料を硬化させる工程と、を含むことが好ましい。例文帳に追加

The pattern fixing process favorably contains a process in which a photosensitive organic material is impregnated in the pattern layer, a process in which the pattern layer impregnated with the photosensitive organic material is exposed to light, a process in which the carbon nanotube is exposed by removing the photosensitive organic material on the surface of the pattern layer, and a process in which the photosensitive organic material in the pattern layer is cured. - 特許庁

マスク（１２）と基板（１６）とを同期して相対移動させることにより、マスク（１２）に形成されたパターンを基板（１６）に転写する走査型露光装置であって、マスク（１２）が載置されるマスク保持部材（１８）と、マスク保持部材（１８）を移動させるマスクステージ（２０）と、マスク保持部材（１８）に対してマスク（１２）を押し付ける押付け手段（７２、８８ａ、８８ｂ）とを設けた。例文帳に追加

This scanning exposure device which transfers a pattern formed on a mask 12 to a substrate 16 by relatively moving the mask 12 and the substrate 16 in synchronization comprises a mask hold member 18 for placing the mask 12 thereon, a mask stage 20 for moving the mask hold member 18, and pressing means 72, 88a and 88b for pressing the mask 12 against the mask hold member 18. - 特許庁

開閉カバーが作業者によって開かれると、第１の可動部７６は付勢部材８０によって正面側に向けて回転移動させられ、第２の可動部７８は第１の可動部７６によって開口部８２ａ〜８２ｄがそれぞれ露光窓６５ａ〜６５ｄの上方から離れるように正面側に移動して静止する。例文帳に追加

When an operator opens an opening/closing cover, the first movable portion 76 is made to rotate by the energizing member 80 and to move to the front side, and the second movable portion 78 moves to the front side so that the opening portions 82a to 82d move away from the exposure windows 65a to 65d, respectively, and stops. - 特許庁

吸引孔３００を縦吸引溝３０２、放射状吸引溝３０４の定盤１１０中央部側に設けたため、カールしたフォトポリマー版１０２をその中央部から外周部へ向けて順次定盤１１０上面に密着させることができ、画像を露光する際のピントボケ等の画像不良を防止できる。例文帳に追加

Since the suction holes 300 are provided at a central part side of the surface plate 110 of the vertical suction grooves 302 and the radial suction grooves 304, curled photopolymer plate 102 can be closely adhered on an upper surface of the surface plate 110 successively from its central part toward an outer peripheral part and thereby image inferiority such as out of focus at the time of exposing the image can be prevented. - 特許庁

さらに、この金１５とドライフィルム１４の残部から成るパターン含有層ＰＬをマスクとし、ガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、このパターン含有層ＰＬ上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、さらに金１５でその溝部ＤＨを埋める。例文帳に追加

Further, the groove part DH is formed on the dry film 14 on a pattern inclusion layer PL by the photolithography method by which the back face 11r of the glass substrate 11 is exposed to light by using the pattern inclusion layer PL composed of the residual part of the gold 15 and the dry film 14 as a mask, and further the gold 15 is imbedded to the groove part DH. - 特許庁

プリアライメント装置５０から基板ステージ２に搬送されて該基板ステージ２上に保持された基板Ｗについて、該基板Ｗに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク４０のアライメントカメラ３０の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側で次回の基板Ｗの位置を補正する。例文帳に追加

For a substrate W transported to a substrate stage 2 from a prealignment device 50 and retained on the substrate stage 2, a deviated quantity from the center of a field in an alignment camera 30 of an alignment mark 40 printed by a first exposure on the substrate W is found to compensate the position of a next substrate W on the prealignment 50 side based on the deviated quantity. - 特許庁

レンズ１００を装着すると装着時のレンズ１００の回転によりレンズ側突起１１０は中継リンク曲げ起こし部２５に係合し、この作動によりラック板５４は上方へ移動し、ピニオン歯車５６、増速歯車列５８を介して遮光幕巻取ドラム４６が遮光幕４を巻取り、フィルム６は露光可能となる。例文帳に追加

When the lens 100 is attached, the projection 110 is engaged with the part 25 by the rotation of the lens 100 at the attaching time, a rack plate 54 is moved upward by such actuation, and the curtain 4 is taken up by a light shielding curtain take-up drum 46 through a pinion gear 56 and an acceleration gear train 58, whereby the film 6 can be exposed. - 特許庁

同期検知センサ９１は、有効露光領域外において、ｆθレンズ８５の走査開始側の端部の外側壁面８５ｂで内面反射して導光された第１レーザ光Ｌ１と、ｆθレンズ８５のレンズ部８５ａの走査開始側を透過して導光された第２レーザ光Ｌ２とをそれぞれ検出する。例文帳に追加

The synchronization detection sensor 91 detects first laser light L1 guided by being reflected on the inner face of the outer wall face 85b of the end part on the scanning start side of an fθ lens 85, and detects second laser light L2 guided by passing the scanning start side of the lens part 85a of the fθ lens 85 at the outside of the effective exposure region. - 特許庁

像担持体１、帯電器２、画像露光装置３及び現像器４を含む複数の画像形成部Ｙ、Ｍ、Ｃ及びＫが記録媒体搬送ベルト７に沿って順次配置され、画像形成部ごとに像担持体上トナー像を記録媒体Ｓへ転写する転写器５が設けられている画像形成装置Ｐ。例文帳に追加

The image forming apparatus P sequentially arranges a plurality of image forming parts Y, M, C, K including an image carrier 1, a charger 2, an image exposure device 3, and a developing unit 4 along a recording medium conveying belt 7 and provided with a transfer unit 5 for transferring toner images on the image carrier in each image forming part to a recording medium S. - 特許庁

マルチプロジェクトチップ方式の半導体装置において、ウェーハ上に形成された複数の半導体デバイスは、前記複数の半導体デバイスのパターンの露光順序に合わせて、製造条件とショット数を示す情報とに応じた配置を有し、同じ製造条件の半導体デバイスは近接して、ショット数が多い順又は少ない順に配置されているように構成する。例文帳に追加

In the multi-project-chip semiconductor device, semiconductor elements fabricated on a wafer have a layout that corresponds to an exposure order of a pattern of the semiconductor elements and that is based on information indicating manufacture conditions and the number of shots and are arranged such that the semiconductor elements having the same manufacture condition are adjacent to each other in ascending or descending order of the number of shots. - 特許庁

３５０〜４５０ｎｍの比較的短波に発振波長を有し、かつ安価な半導体レーザーを光源として用いたＤＤＣＰシステムに好適であり、３５０〜４５０ｎｍの発信波長に対して高感度を示し、色再現性、カブリ及び印刷物近似性に優れ、黄色灯下での取扱性及び保存安定性にも優れた、走査露光用の感光性転写シートを提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive transfer sheet for scanning exposure suitable for a DDCP(direct digital color proofing) system using an inexpensive semiconductor laser having its oscillation wavelength in the relatively short wavelength range of 350-450 nm as a light source, having high sensitivity to light of 350-450 nm oscillation wavelength, excellent in color reproducibility, fog and resemblance to a print and excellent also in shelf stability and handleability under a yellow lamp. - 特許庁

露光ラチチュード（ＥＬ）に優れ、パターン形状及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with which a pattern having an excellent exposure latitude (EL) and a good pattern profile and line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition and a method for forming a pattern using the composition. - 特許庁

本発明の液晶装置を製造する際には、焦点距離が異なる複数のマイクロレンズ２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃからなるマイクロレンズアレイ２５を、ポリマー前駆体と液晶との混合液を挟持したセルの外面に配置した状態で光を照射して２光束干渉露光を行い、混合液中のポリマー前駆体を重合させる。例文帳に追加

A microlens array 25 consisting of plural microlenses 26A, 26B and 26C varying in focal lengths is arranged on the outside surface of a cell grasping a liquid mixture composed of a polymer precursor and liquid crystals and is irradiated in this state with light, by which two-beam interference exposure is effected and the polymer precursor in the liquid mixture is polymerized in manufacturing this liquid crystal device. - 特許庁

版胴取り付け適性に優れ、自動もしくは半自動版換え装置にも適用可能であり、かつ、吸引ドラムを用いた露光装置への適性も改善された印刷版材料を提供し、特に樹脂基材を用いた印刷版もしくは印刷版材料を用いた見当精度を向上させた印刷方法の提供する。例文帳に追加

To provide a printing plate material which shows excellent suitability for fitting a printing plate and improved suitability for an exposure device using a suction drum and can be applied to an automatic or a semi-automatic plate replacing device, and also a printing method with upgraded registering precision using especially a printing plate or the printing plate material employing a resin base material. - 特許庁

そして、撮像センサ２１によって取得した撮影画像における、外部フラッシュ光により露光された画像をフラッシュ画像特定部３０４によりフラッシュ画像として特定し、光量判別部３０３によって外部フラッシュ光の光量が閾値に達したと判別された場合に、このフラッシュ画像を記録部２５に記録する。例文帳に追加

An image exposed with the external flash light, in a photographed image acquired by an imaging sensor 21, is then specified as a flash image by a flash image specification unit 304 and if it is discriminated by the light quantity discrimination unit 303 that the quantity of the external flash light reaches the threshold, this flash image is recorded in a recording unit 25. - 特許庁

スクリーン印刷法などの孔版印刷法により、制御電極部１４０を覆う感光性樹脂パターン３０１を形成し、感光性樹脂パターン３０１の、制御電極部１４０の最上部を含む所望の領域に露光を施し、これを現像し、制御電極部１４０の最上部を含む所定の領域を覆う保護膜３０２を形成する。例文帳に追加

A photosensitive resin pattern 301 covering the control electrode part 140 is formed by a stencil printing plate method such as a screen printing method, a desired region including the uppermost part of the control electrode part 140 of the of photosensitive resin pattern 301 is exposed, developed and the protective layer 302 covering a predetermined region including the uppermost part of the control electrode part 140 is formed. - 特許庁

写真処理装置３では、制御部３０が、人為的あるいは非人為的な原因により筐体６０内の印画紙Ｐが誤って露光された時の、位置検出部３２において検出される印画紙Ｐの位置を基準として、印画紙Ｐに対応する画像情報の再印画を行なうか否かを自動で判断し処理を行なう。例文帳に追加

In the photographic processing apparatus 3, it is automatically judged by a control part 30 whether or not image information should be reprinted on a printing paper P by taking the position of the printing paper P detected by a position detecting part 32 when the printing paper P in a housing 60 is erroneously exposed due to an artificial or natural cause as a reference, thereafter, the processing is performed. - 特許庁

本発明の目的は、Ｔｅｄが短い、高速のプロセススピードで画像形成を行なうに際し、露光部電位の増加が小さく、十分な画像濃度とカブリのない、良好な画質を得ることができる有機感光体、及び該有機感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。例文帳に追加

To provide an organic photoreceptor in which an increase in a potential of an exposed portion is small and favorable picture with sufficient image density and no fog can be obtained upon forming an image at a high process speed in a short Ted (an interval time between exposure and development), and to provide an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the above organic photoreceptor. - 特許庁

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition capable of achieving improvement of exposure latitude, PEB temperature dependency and profile and reduction of scum, in a process of producing a semiconductor such as IC and in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and a pattern forming method using the positive resist composition. - 特許庁

カラー写真感光材料と共通な現像処理が可能で、かつ赤外効果の描写性及びコントラストに優れ、被写体の再現画像の明度が露光レベルによってばらつかず、プリント作業性に優れたモノトーン画像形成型赤外感光性ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an image forming method using a monotone image forming infrared-sensitive silver halide photographic sensitive material capable of undergoing development common to the sensitive material and a color photographic sensitive material, excellent in delineating property by infrared effect and contrast, giving a reproduced image of a subject whose lightness is even independently of exposure level and excellent in printing work efficiency. - 特許庁

カラー陰極線管の蛍光面形成用露光装置において、光量分布調整フィルター52を、その中心を中心とする２つの同心円の円周と２つの半径とにより囲まれた光を透過しない領域を単位領域とし、この単位領域の１個または複数個の占めるパターン63の面積の割合により透過率が決定される構造に形成した。例文帳に追加

A luminous energy distribution adjusting filter 52 is formed so as to have a structure that a transmittivity is determined by a ratio of an area of a pattern 63 to one or a plurality of unit areas, wherein an area for not transmitting light surrounded by circumferences and two radiuses of two cocentrical circles around a center of the luminous energy distribution adjusting filter 52 is the unit area. - 特許庁

記録メディアに格納されている画像データファイルのうち、ユーザにより指定された画像データファイルに含まれる付帯情報（デジタルカメラのシリアル番号、露光制御モード、撮影年月日）を解析し、ユーザにより格納先として指定されたＨＤＤ側の指定フォルダ内の既存のフォルダのフォルダ名と比較する（ステップ２０６）。例文帳に追加

Attached information (such as the serial number, the exposure control mode, the date of photographing and the like of a digital camera) contained in an image data file designated by a user in image data files stored on the recording medium is analyzed and compared with a folder name of an existent folder within an HDD side designated folder designated as a storage destination by the user (step 206). - 特許庁

レーザービーム等のコヒーレント光を露光してデジタル画像を繰り返し形成した際、干渉縞に基ずく画像ムラを生ずることがなく、かつクリーニング特性が優れていて電子写真感光体の劣化を生ずることなく、高濃度鮮明な画像が安定して得られる電子写真感光体及び該電子写真感光体を用いた画像形成装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of stably obtaining a clear image with high density, being free from causing the image unevenness attributable to interference fringes, at the time of repeatedly forming the digital image by exposing coherent light such as razor beams, and free from generating the deterioration of the electrophotographic photoreceptor resulting from excellent cleaning property. - 特許庁

ゲート電極と電子放出源との距離が設計値に近い値に維持されるため均一な電子放出特性を得ることができ，過露光による電子放出源とゲート電極とのショート現象を防止できる電子放出源，その製造方法及びそれを採用した電子放出素子を提供する。例文帳に追加

To provide an electron emitting source capable of obtaining uniform electron emission characteristics since a distance between a gate electrode and the electron emitting source can be maintained at a value close to a design value, and preventing short-circuiting phenomenon between the electron emitting source and the gate electrode due to excessive exposure, and to provide its manufacturing method, and an electron emitting element adopting it. - 特許庁

ベストフォーカス位置計測用の楔型マーク群の像、及び投影光学系のコマ収差計測用のボックス・インボックスマークの像を、複数のフォーカス位置Ｚ１〜Ｚ５でウエハ上の近接した位置にマイクロ・ステップ方式で露光し、その後の現像によってレジストパターンを形成する。例文帳に追加

An image of a wedge mark group for measuring the best focusing position and images of box and in-box marks for measuring a coma aberration of the projection optical system are exposed at a plurality of focusing positions Z1 to Z5 at positions near a wafer by a micro-step system, and a resist pattern is formed by the following development. - 特許庁

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polymer compound, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance, suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process. - 特許庁

そして、露光時には、当該ｍ個のＤ／Ａコンバータ１２，１２，１２・・・に保持されるｍ値の内の１つを出力画像に基づく選択信号に応じて選択回路２０で切り替えてＬＥＤ駆動回路３０に出力し、ＬＥＤ駆動回路３０は、入力されたｍ値に従ってＬＥＤ４０の駆動を制御する。例文帳に追加

When exposure is performed, one of m levels held in the m D/A converters 12 is switched by a select circuit 20 depending on a select signal based on an output image and delivered to an LED drive circuit 30 where driving of an LED 40 is controlled according to the inputted m level. - 特許庁

薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。例文帳に追加

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22. - 特許庁

３次元像表示用スクリーン１は、表面に塗布されたフォトポリマー感光材料の所定領域毎に参照光と物体光の２光束を干渉させて露光することで湿式現像処理を必要とせずに記録され、照射された光線をそれぞれ特定の方向に回折させる複数の体積位相型ホログラム１１が設けられている。例文帳に追加

The screen 1 for displaying three-dimensional image is provided with a plurality of volume phase holograms 11 which are recorded without wet development processing by causing two luminous fluxes of reference light and object light to interfere with each other to expose each prescribed area of a photopolymer photosensitive material applied to surfaces thereof and which diffract emitted light beams in specific directions respectively. - 特許庁