「露光する」に関連した英語例文の一覧と使い方(381ページ目) - Weblio英語例文検索

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism. - 特許庁

顔料を高濃度で含む場合でも優れた現像性を示し、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣を生じることがなく、かつ基板および遮光層への密着性並びに表面平滑性に優れた画素を与える新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a radiation sensitive composition for a color filter which exhibits superior developability even when a pigment is contained at a high concentration, produces no residue on the unexposed part of a substrate and on a light shielding layer when it is developed and gives a pixel having excellent adhesion to the substrate and the light shielding layer and excellent also in surface smoothness. - 特許庁

基板搬送装置ＨＣＤに、コータ・デベロッパ装置Ｃ／Ｄとの間で基板Ｐの受け渡しを行うＣＤ側ロボット２２と、露光装置ＥＸとの間で基板Ｐの受け渡しを行うＥＸ側ロボット２４と、ＣＤ側ロボット２２とＥＸ側ロボット２４との間で基板Ｐを中継する中継テーブル２３とを設ける。例文帳に追加

The substrate transfer apparatus HCD is provided with: a CD side robot 22 for delivering a substrate P between itself and a coater/developer C/D; an EX side robot 24 for delivering the substrate P between itself and an exposure apparatus EX; and a relay table 23 for relaying the substrate P between the CD side robot 22 and the EX side robot 24. - 特許庁

印刷物に近似し、かつ現像処理後のマゼンタ色調の経時変動が改良され、黒色画像が均一に再現されるハロゲン化銀カラー写真感光材料及び、濃度に関係なく一定の色相を保ち、かつ網点画像情報に基づく露光・出力する際の網点再現性に優れたシアン色画像を与えるハロゲン化銀カラー写真感光材料の提供。例文帳に追加

To provide a silver halide color photographic sensitive material which provides color reproducibility approximate to that of print ensures a suppressed change of a magenta tone after development with the lapse of time and uniformly reproduces a black image and a silver halide color photographic sensitive material which keeps a uniform hue independently of concentration and gives a cyan image excellent in dot reproducibility in exposure and output based on dot image information. - 特許庁

画像形成装置は、ポリゴンミラーを有する露光手段と、ポリゴンミラーを第１の回転速度と第１の回転速度よりも遅い第２の回転速度の２つの速度で選択的に回転させる制御手段と、モノクロ画像の作成に対応した第１のモードとカラー画像の作成に対応した第２のモードのいずれかを選択できるモード選択手段とを備える。例文帳に追加

The image forming apparatus includes: an exposure means that includes the polygon mirror; a control means that allows the polygon mirror selectively to rotate at first rotational speed and second rotational speed lower than the first rotational speed; and a mode selection means that selects either a first mode corresponding to formation of a monochrome image or a second mode corresponding to formation of a color image. - 特許庁

そして、露光作動終了時には、シャッタ地板１の軸１ｚに取り付けられている緩衝部材８に、二つの当接部３０ｅ，３５ａが略同時に当接するようになっているので、当接時に、二つのアーム２９，３０の間隔が小さくなりにくく、アームや羽根に変形や破壊が生じにくくなっている。例文帳に追加

Then, since two abutting parts 30e and 35a are made substantially simultaneously to abut on the buffer member 8 fitted to the shaft 1z of the board 1 when the exposure actuation is finished, an interval between two arms 29 and 30 becomes hard to be narrowed and the arms and the blades become hard to be deformed and broken at abutting times. - 特許庁

本発明は、上部表面のＬ^* が少なくとも93.5であるミクロボイド化二軸配向ポリマーシートを含む支持体と、シアン記録の関数としてのステータスＡ反射濃度の肩部の損失が８％以下である場合の露光域が 125ナノ秒〜 0.5秒である像形成層とを含んでなる反射型ベース写真要素に関する。例文帳に追加

This invention relates to a reflective base photographic element including a base including a biaxially oriented polymer sheet having a micro void layer whose upper surface has L* of at least 93.5 and an image forming layer whose exposure range is 125 nsec to 0.5 sec when the loss of the shoulder of status A reflection density as the function of cyan recording is ≤8%. - 特許庁

非露光部における溶解抑止効果が高く、高感度で現像性に優れるとともに、支持体への塗工性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、半導体レーザーやＹＡＧレーザー等を用いた直接製版に好適なポジ型感光性平版印刷版及び該ポジ型感光性平版印刷版を用いた製版方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive resin composition having a high dissolution inhibiting effect in a non-exposed part thereof, high sensitivity, excellent developability and excellent coating properties to a support, a positive photosensitive lithographic printing plate suitable for direct plate making using a semiconductor laser, a YAG laser or the like, and to provide a plate making method using the positive photosensitive lithographic printing plate. - 特許庁

導電性基板上に、液状フォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成し、次いでフォトレジスト層上にフィルムをラミネートしプリント配線板用積層板を作製し、次いで回路パターンの露光、該フィルムの除去、アルカリ現像、エッチングを行うことを特徴とするプリント配線板の作製方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the printed circuit board comprises the steps of forming the photoresist layer by coating a liquid-like photoresist on the conductive board, laminating a film on the photoresist layer to manufacture a laminate for the printed circuit board, then exposing the circuit pattern, removing the film, alkali developing, and etching the pattern. - 特許庁

イメージワイズに露光されたハロゲン化銀写真感光材料を、有機ホウ素化合物、有機ケイ素化合物、有機スズ化合物、有機ゲルマニウム化合物及び有機アルミニウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の光ラジカル発生剤の存在下で光照射するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。例文帳に追加

In the method for treating a silver halide photographic sensitive material, an imagewise-exposed silver halide photographic sensitive material is irradiated with light in the presence of at least one photo radical generator selected from the group comprising organoboron compounds, organosilicon compounds, organotin compounds, organogermanium compounds and organoaluminum compounds. - 特許庁

多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。例文帳に追加

To provide a resist undercoat-forming material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process or for a three-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly to short-wavelength exposure light, that is, has high transparency, optimum n value and k value, and excels in etching resistance in substrate processing. - 特許庁

リソグラフィに用いる露光光の波長における吸収率が高い第一の有機材料と、膜密度が大きく且つ光安定性が高い第二の有機材料とを含む反射防止膜４をゲート電極膜３の上に形成し、リソグラフィにより前記反射防止膜４の上にレジストパターン５ａを形成する。例文帳に追加

After the reflection preventing film 4 containing a first organic material having high absorption factor at the wavelength of exposing light used for lithography and a second organic material having a large film density and high light stability is formed on a gate electrode film 3, the resist pattern 5a is formed on the reflection preventing film 4 by lithography. - 特許庁

ステッパーによりウエハを露光した場合においても、当該ウエハを個片化して得られた、ガラス基板で封止された半導体チップの製造歩留まりを向上させ、また、当該半導体チップを含む半導体装置の障害発生を減少させてその信頼性を向上させることができる接合ウエハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a fabrication method of a joined wafer, which improves production yields of semiconductor chips sealed with a glass substrate into which the wafer is divided after exposed by a stepper, and reduces the occurrence of a failure in semiconductor devices comprising the semiconductor chips, thus improving their reliability. - 特許庁

現像ラチチュード、溶解識別性及び耐刷性に優れ、且つ、像様露光後、現像処理に至るまでに経時した場合でも現像性の低下が抑制された赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive lithographic printing plate precursor for infrared laser excellent in development latitude, solution discriminability, and printing durability and that suppresses the reduction in developability after a time lapse from imagewise exposure to development processing; and a manufacturing method of a lithographic printing plate using the positive lithographic printing plate precursor for infrared laser. - 特許庁

半導体素子上にアルミパッド電極を設けさらにこの上に金属電極を形成した上に、感光性熱硬化性樹脂層を設け、マスクと露光現像工程とによって金属電極上の樹脂層が除去し、金属電極表面と感光性熱硬化性樹脂表面に異方導電性樹脂層を形成する。例文帳に追加

Aluminum pad electrodes are provided on a semiconductor element, metal electrodes are formed thereon, a photosensitive thermosetting resin layer is provided, the resin layer on the metal electrodes is removed through a mask and in an exposure-developing process, and an anisotropically conductive resin layer is formed on the metal electrodes surfaces and the photosensitive thermosetting resin layer surface. - 特許庁

現像時の未露光部凝集物の発生を抑制し、ポリイミド樹脂及びポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物、該フェノール樹脂組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有して成る半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a phenolic resin composition that suppresses generation of aggregates in an unexposed part during development and can be used as an alternative for a polyimide resin and a polybenzoxazole resin, and to provide a method for producing a cured relief pattern using the phenolic resin composition, and a semiconductor device comprising the cured relief pattern. - 特許庁

そして、半導体露光処理等のような通常のレーザ運転時に、エタロン分光器３２で計測されるスペクトル波形ｆ（λ）の線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、予め求めた相関とを用いて、スペクトル線幅Ｗに対応するスペクトル線幅Ｗやスペクトル純度Ｅ９５やコントラストロスＣＬが求められる。例文帳に追加

At the time of the general laser operation such as a semiconductor exposing treatment, the spectral line width W, spectral purity E95 or contrast loss LC corresponding to the spectral line width in the line width threshold Thresu of the spectral waveform f(λ) measured by the etalon spectrometer 32 is determined by use of this spectral line width and the predetermined correlation. - 特許庁

固体撮像装置は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された複数の画素であって、各画素が電気的に分離された第１の光電変換素子と第２の光電変換素子とを含む複数の画素と、前記半導体基板上方に形成され、各画素の上方に１つの開口を有する遮光膜と、を有し、第１の光電変換素子と第２の光電変換素子とは飽和露光量が異なる。例文帳に追加

The solid-state imaging apparatus includes: a semiconductor substrate; a plurality of pixels formed on the semiconductor substrate and each including first and second photoelectric conversion elements which are electrically isolated; and a light shield film having one opening above each pixel, and the saturation exposure amount of the first photoelectric conversion element differs from that of the second photoelectric conversion element. - 特許庁

フォーカス測定用の露光マスクとして、＋１次光と−１次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン１０と、非対称回折格子パターン１０の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン２０とで構成されたテストマーク７を含むものを用いる。例文帳に追加

The exposure mask including a test mark 7 composed of an asymmetric diffraction grating pattern 10 varying in diffraction efficiency with +1st order light and -1st order light and a reference pattern 20 for obtaining an image which is a reference when measuring the deviation of the image of the asymmetric diffraction grating pattern 10 is used as the exposure for focus measurement. - 特許庁

露光工程を実施して形成されるフォトレジストパターンを用いたエッチング工程によって前記ハードマスク膜を部分エッチングし、ハードマスク膜１０４をエッチングマスクとして用いたエッチング工程を進行して、トレンチ酸化膜１０３、エッチング防止膜１０２および間絶縁膜１０１を順次部分エッチングしてダマシントレンチを形成する。例文帳に追加

The hard mask film is partially etched by an etching process using a photoresist pattern formed by performing the exposure process, a damascene trench is formed by progressing the etching process with the hard mask film 104 as an etching mask to sequentially perform a partial etching on the trench oxide film 103, the etching preventive film 102, and the interlayer insulating film 101. - 特許庁

位相反転マスクに形成される透光領域のパターンの各方向の配列ピッチが異なる場合に、従来の露光波長を使用して、ウエハに形成される透過光パターンの限界寸法を各方向に亘って同じにし、半導体素子の歩留まり及び信頼性を向上し得る位相反転マスク及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a phase inversion mask which can improve the yield and reliability of a semiconductor element by equalizing the limit sizes of a light transmission pattern formed on a wafer in respective directions by using conventional exposure wavelength when the pattern of a light transmission area formed on the phase inversion mask is different in array pitch with the direction and its manufacturing method. - 特許庁

加工用または検出用の集光ビームの位置とレーザ測長器から出射されるレーザ光の位置との相対的な位置関係を高精度に計測できるようにしてアッベ誤差を無くしてビームを被対象物に対して高精度に照射できるようにしたビーム照射装置および電子線露光装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a beam radiation device and electron beam aligner wherein a beam is radiated to an object at high precision by measuring, at high precision, a relative positional relationship between the position of condense beam for work or detection and the position of laser beam emitted from a laser length-measuring device for eliminated Abbe error. - 特許庁

近赤外波長域のレーザーに露光感応して該感応部が現像液に可溶になる近赤外波長域レーザー感応性を有し、バーニング温度を低くしても銅メッキ面又は銅合金メッキ面に対する密着性が極めて良好であり現像が良好にできて高感度であるポジ型感光性組成物。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition which has near IR wavelength region laser responsiveness to make responded portions soluble in a developing solution by exposure to and response with a laser of a near IR wavelength region, is extremely good in adhesion properties to a copper plating surface or copper alloy plating surface even at a lowered burning temperature, is well developed, and has high sensitivity. - 特許庁

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、耐めっき性が良好で、アルカリ現像型プリント回路板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, less liable to scum in a developing step, having good plating resistance and useful as alkali-developable DFR (dry film resist) for manufacturing substrates for a printed wiring board, for a lead frame and for a semiconductor package. - 特許庁

本発明の目的は、発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し、感度及び網点再現性に優れる感光性平版印刷版材料、この感光性平版印刷版材料を与える感光性組成物および平版印刷版材料の画像形成方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a photosensitive lithographic printing plate material suitable for exposure with laser light, having an emission wavelength in a range of 350-450 nm and superior in sensitivity and dot reproducibility, a photosensitive composition giving the photosensitive lithographic printing plate material, and to provide an image forming method for a lithographic printing plate material. - 特許庁

透明な支持体上に導電性金属部と可視光透過性部から構成されるメッシュ状の透光性導電性膜においてハロゲン化銀感光材料の露光、現像により導電性を有する金属部を形成し、めっきによりさらに導電性を高める製造方法において現像処理後、定着処理前に乾燥工程を導入し、めっき前の導電性銀メッシュの導電性を高める製造方法。例文帳に追加

In order to further increase conductivity by plating in this manufacturing method, after a developing process, a drying process is introduced before fixing treatment to enhance conductivity of a conductive silver mesh before plating. - 特許庁

３８０〜６００ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない耐久性に優れる電子写真感光体、および該感光体を用いて３８０〜６００ｎｍの波長範囲のレーザ光を露光光源とし、高感度かつ高解像力を有して安定した画質が得られる画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity characteristics in the wavelength region from 380 to 600 nm and excellent durability which does not fatigue or deteriorate by light and to provide an image forming device which uses the above photoreceptor and laser light in the wavelength range from 380 to 600 nm as the exposure light source, which has high sensitivity and high resolution and which can give stable picture quality. - 特許庁

また、３フィールド分のフリッカ補正量の最小値と露光制御によるシャッタ速度とを加算して最小シャッタ速度以下になった場合には、最小シャッタ速度になるように算出されたオフセット量をフリッカ補正量に加算して現フィールドのフリッカ補正量とする（図８Ｂ）。例文帳に追加

Besides, when the minimum value of the flicker correction quantities for three fields and a shutter speed under exposure control are added and the result is equal to or lower than a minimum shutter speed, an offset quantity calculated so as to provide the minimum shutter speed is added to the flicker correction quantity and defined as the flicker correction quantity of the present field. - 特許庁

アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。例文帳に追加

When manufacturing an outer lens 14, a photolithography process comprising respective processes of resist coating, exposure and development is performed on a bilayer substrate 23 consisting of a flat surface substrate 21 and a flexible substrate 22, thereby, a dot pattern of a photomask 25 is accurately transferred to a resist layer 24 and a resist fine structure 24a assured of forming accuracy can be manufactured. - 特許庁

半透過型液晶表示装置用カラーフィルタで、カラーフィルタの表面に平坦性をもたせるために、着色層が欠落した部分（透明部）に無色透明フォトレジストを用いて無色透明樹脂パターンを形成しても、露光装置の合わせのバラツキに起因した突起のない半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。例文帳に追加

To provide a color filter for a transflective liquid crystal display device which is free from any protrusion caused by variation of alignment of an aligner even when a colorless transparent resin pattern is formed by using a colorless transparent photo resist on a portion where a coloring layer has been lacked (a transparent portion), for the purpose of imparting flatness to the color filter surface. - 特許庁

光源と、光学系と、レティクルを保持可能としたレティクルステージと、前記レティクルの位置を調節可能とした第１の位置調節機構と、ウェーハを載置可能としたウェーハステージと、前記レティクルと前記ウェーハとの間に設けられた収差補正用プレートと、前記収差補正用プレートの傾斜角度を調節可能とした角度調節機構と、を備えたことを特徴とする投影露光装置が提供される。例文帳に追加

The projection aligner comprises a light source, an optical system, a reticle stage for retaining reticle, a first position adjustment mechanism for adjusting the position of the reticle, a wafer stage for placing a wafer, a plate for correcting aberration provided between the reticle and the wafer, and an angle adjustment mechanism for adjusting the tilt angle of the plate for correcting aberration. - 特許庁

優れた光透過率と機械的特性および耐薬品性を有し、気泡などの欠陥がなく背面露光感光ドラムの透明支持体あるいは転写、定着など電子写真方式の画像成形装置等の部材に有用な透明なポリイミド複合管状物、及びこのポリイミド複合管状物を低コストで簡易的に製造できる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a transparent polyimide composite tubular body excellent in light transmittance, mechanical characteristics and chemical resistance, having no defect such as a bubble and useful for a transparent supporting body of a back exposure type photoreceptor drum or a member of electrophotographic system image forming devices for transferring, fixing, etc., and a production method capable of producing the polyimide composite tubular body simply and at a low cost. - 特許庁

高感度で熱現像時のカブリ、あるいは長期保存したときに生ずる未露光部の濃度上昇が少なく、且つ熱現像ドラム表面の凹凸むらに対して変形しにくい安定性に優れた熱現像感光材料、その製造方法及び前記熱現像感光材料を用いる画像記録方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable sensitive material having high sensitivity, nearly free of fog in heat development or the rise of the density of the unexposed part in long-term storage, less liable to deformation against the surface ruggedness of a heat developing drum and having excellent stability and to provide a method for producing the sensitive material and an image recording method using the sensitive material. - 特許庁

感光体１０の周りに帯電器１１とＬＥＤアレイヘッド１２とが配置され、帯電器１１からの放電により帯電された感光体１０の外周面をＬＥＤアレイヘッド１２で露光することにより静電潜像の書き込みを行うようにした画像形成装置において、帯電器１１とＬＥＤアレイヘッド１２との間が仕切り部材１５で仕切られている。例文帳に追加

In the image forming device in which the electrifier 11 and the LED array head 12 are arranged around a photoreceptor 10, the peripheral surface of the photoreceptor 10 electrified by discharge from the electrifier 11, is exposed by the LED array head 12, thereby writing an electrostatic latent image, the electrifier 11 and the LED array head 12 are separated by a partition member 15. - 特許庁

高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１５０ｍＪ/ｃｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, making it possible to obtain a satisfactory spacer shape and thickness under an exposure energy of ≤150 mJ/cm^2, and capable of forming spacers for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc. - 特許庁

ペリクル膜が枠体に接着されてなる露光処理用のペリクルであって、ペリクル膜が式ＣＸ^１Ｘ^２＝ＣＸ^３（ＣＦ_２）_ｎＯＣＸ^４＝ＣＦ_２の環化重合により形成されたモノマー単位を必須とする含フッ素重合体からなるペリクル（ただし、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、およびＸ^４は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を示し、少なくとも１つは水素原子である。ｎは１または２を示す。）。例文帳に追加

The pellicle for exposure has a pellicle film adhered to a frame body, wherein the pellicle film comprises a fluorine-containing polymer essentially having a monomer unit and prepared by cyclopolymerization of CX^1X^2=CX^3(CF_2)_nOCX^4=CF_2. - 特許庁

本発明の一態様にかかる汚染防止装置は、波長１６６ｎｍ以下の真空紫外光を発生する光源と、光源からの真空紫外光のビームをＥＵＶ露光装置１０１内に収容されたＥＵＶマスク１０８に対して照射させる光学系（ミラー１０４ａ、１０４ｂ等）と、を備えるものである。例文帳に追加

The contamination prevention device comprises a light source generating vacuum ultraviolet light having a wavelength of 166 nm or shorter, and an optical system (mirrors 104a, 104b, and the like) through which an EUV mask 108 housed in an EUV exposure device 101 is irradiated with vacuum ultraviolet light from the light source. - 特許庁

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。例文帳に追加

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured. - 特許庁

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation. - 特許庁

保護基として、ｔ−ブチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基及びｔ−ブチルオキシカルボニルメチル基のうちの少なくとも１つを含むベース樹脂と酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線（１３．５ｎｍ帯）１３を照射してパターン露光を行なう。例文帳に追加

A resist film 11 comprising a chemical amplification type resist material having a base resin containing at least one selected from a t-butyl group, a t-butyloxycarbonyl group and a t-butyloxycarbonylmethyl group as a protective group and an acid generator is formed and patternwise exposed by irradiation with extreme-ultraviolet radiation (13.5 nm band) 13. - 特許庁

干渉露光の際に用いるレーザーの波長として従来用いられている波長より短い波長（例えば、Ｒ領域を５６８ｎｍ、Ｇ領域を４８８ｎｍ、Ｂ領域を４０７ｎｍ）を用い、かつホログラム構造の変調量を最適化する（例えば、１０〜２０％）ことにより、ホワイトバランスと明るさを両立させる。例文帳に追加

The white balance and brightness are both obtained by using the laser light for the interference exposure at a shorter wavelength than the wavelength of conventionally used light (for example, at 568 nm for the R region, 488 nm for the G region and 407 nm for B region) and by optimizing the modulation of the hologram structure (by 10 to 20% for example). - 特許庁

本発明は、パトローネから未露光のフィルムを引き出しながら撮影を行う場合に、巻き上げノブの回転方向を変更せずにパトローネにフィルムを巻き戻す機構を設け、またはフィルム巻き戻し治具を用いることで、明室で容易にフィルムをパトローネに巻き戻し可能なレンズ付フィルムユニットを提供する。例文帳に追加

To provide a film unit with a lens constituted so that a film can be easily rewound to a cartridge in a light room by providing it with a mechanism rewinding the film to the cartridge without changing the rotating direction of a winding-up knob or using a film rewinding jig when a photographing action is executed while drawing out the unexposed film from the cartridge. - 特許庁

本発明の目的は、発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し、感度及び耐刷性に優れかつ網点再現性に優れる感光性平版印刷版材料、この感光性平版印刷版材料を与える感光性組成物および平版印刷版材料の画像形成方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a photosensitive lithographic printing plate material suitable for exposure with a laser light with light emission wavelength in the range of 350 to 450 nm, superior in sensitivity, printing durability, and dot reproducibility, a photosensitive composition providing the photosensitive lithographic printing plate material; and also to provide an image forming method of the lithographic printing plate material. - 特許庁

多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。例文帳に追加

To provide a resist underlayer film material which is for a multilayer resist process, especially for a double layer resist process or a triple layer resist process, which functions as an excellent antireflection film especially against exposure with short wavelength light, that is, having high transparency and most suitable n and k values, and further is excellent in etching resistance in substrate working. - 特許庁

画像記録装置１０は、感光材料Ａの現像処理を行なう現像ユニット１６の上部に現像処理された感光材料Ａを乾燥させる乾燥ユニット１４が配置され、その上部に感光材料Ａに対して入力されたデジタル画像データに基づいて感光材料Ａに走査露光する画像記録ユニット１２が配置されている。例文帳に追加

The image recording device 10 is obtained by disposing a drying unit 14 for drying a photosensitive material A which has been developed on a developing unit 16 for developing the photosensitive material A and further disposing an image recording unit 12 for subjecting the photosensitive material A to scanning exposure on the basis of input digital image data on the drying unit 14. - 特許庁