Defectを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18303件
To obtain a resin composition for a light scattering sheet, which keeps luminous intensity necessary for improvement in contrast of liquid crystal display, has excellent adhesivity to a substrate sheet and heat resistance, namely controls discoloration being a defect of a copolyester obtained by using a titanium compound as a polymerization catalyst and has excellent transparency.例文帳に追加
液晶ディスプレイのコントラスト向上に必要な光度を維持し、なおかつ基材シートとの密着性と耐熱性すなわち、チタン化合物を重合触媒にした共重合ポリエステルの欠点である着色を抑制し透明性に優れた光散乱シート用樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁
To provide an optical member inspection method for inspecting quality of an optical member such as a lens in an image inspection apparatus and capable of exactly evaluating defect factors of an object to be inspected whose shot image indicates a parallel stripe density pattern.例文帳に追加
レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、撮影した画像に平行縞状の濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁
Consequently, the male type terminal 11 and female type terminal 2 can be prevented from being engaged with each other in an incomplete state or not engaged, thereby preventing trouble such as heat generation of an engagement part between both the terminals or failure in supplying electric power to electric equipment mounted with the terminal block 1 due to a contact defect.例文帳に追加
これにより、雄型端子11と雌型端子2との嵌合が不完全な状態、あるいは、嵌合できていない状態となることを防ぐことができ、接触不良による両端子の嵌合部の発熱や、端子台1が搭載された電気機器に電力供給が行えないといった不具合発生を防ぐことができる。 - 特許庁
A silicon single crystal ingot 20 which does not include COP (Crystal-Originated Particles) and dislocation clusters is grown by a CZ (Czochralski) method, a silicon wafer is cut out from the silicon single crystal ingot 20, and the silicon wafer as-grown is subjected to reactive ion etching, thus a grown-in defect including silicon oxide is actualized as a projection on an etching face.例文帳に追加
CZ法によってCOP及び転位クラスタを含まないシリコン単結晶インゴット20を育成し、シリコン単結晶インゴット20からシリコンウェーハを切り出し、as-grown状態のシリコンウェーハに対して反応性イオンエッチングを施すことにより、酸化シリコンを含むgrown-in欠陥をエッチング面上の突起として顕在化させる。 - 特許庁
Thus, adverse effects of a crystal defect and ununiform thickness of the SOI caused in the vicinity of a border can be excluded between the SOI region 1 and the non SOI region 5 given onto the inner SOI region 1a of the field insulation layer 2 and the non SOI region 5a at the outside of the field isolation layer 4.例文帳に追加
これにより、SOI領域1と非SOI領域5の境界近傍に生じる結晶欠陥及びSOI厚の不均一さがフィールド分離層2の内側のSOI領域1a及びフィールド分離層4の外側の非SOI領域5aに悪影響を与えることを排除できる。 - 特許庁
To provide a color filter efficiently applying coloring material to a specified area by an ink jet method, including a light shielding area having sufficient light shielding property and a transmission area having no color mixture, free from the defect of a pixel or the unevenness of a color tone and having high contrast, and also to provide its manufacture method, and an electrooptical device and electronic equipment.例文帳に追加
インクジェット法により所定領域に色材を効率的に付与し、しかも、十分な遮光性を有する遮光領域と、混色がない透過領域とを含み、画素欠陥や色調むらのないコントラストの高いカラーフィルタ、およびその製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することにある。 - 特許庁
As the adhesion layer is formed on the back surface of the light transmitting plate and there is no need for forming a coating layer on the light receiving plane of the solar battery, there is no need for considering compatibility to the light receiving plane or for disposing of or replacing the solar battery one by one due to a defect in the coating layer.例文帳に追加
透光性板の背面上に被着層が形成されていることにより、太陽電池の受光面上に被覆層を形成する必要がないために受光面に対する適合性を配慮する必要がなく、被覆層の欠陥によって太陽電池毎廃棄或いは交換する必要もなくなる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a single crystal, by which the control of the diameter of the single crystal and the ratio V/G can be stably performed, and the single crystal having a predetermined crystal diameter and a desired defect area can be easily manufactured at a high yield when the single crystal is grown by a Czochralski (CZ) method.例文帳に追加
CZ法により単結晶を育成する際に、単結晶の直径制御とV/Gの制御とを安定して行うことができ、所定の結晶直径と所望の欠陥領域を有する単結晶を簡便にかつ高歩留まりで製造することのできる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electro-optical device for improving productivity by preventing a shading layer from electrifying, preventing defect of a semiconductor layer of a thin film transistor, and facilitating removal of particles of the surface of the shading layer, and to provide its manufacturing method, and electronic equipment using the electro-optical device.例文帳に追加
遮光層が帯電することを防止して薄膜トランジスタの半導体層の欠陥を防止すると共に、遮光層表面のパーティクルの除去を容易にして生産性を向上させることができる電気光学装置とその製造方法、およびその電気光学装置を用いた電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a glass chopped strand mat which can ensure rigidity needed for GFRP, can sufficiently control a defect called a sink mark, and can prevent damages caused, when the mat is pulled out from a mat roll, to provide a method for producing the same, and to provide an automotive molded ceiling material using the mat.例文帳に追加
GFRP成形品に必要な剛性を確保し、ひけと呼ばれる欠点の発生を十分に抑制することができ、かつマットロールから引き出す際に損傷を防止することができるガラスチョップドストランドマットと、その製造方法及びそのマットを使用する自動車成形天井材を提供する。 - 特許庁
To provide an epoch-making thin film coating machine capable of excellently preventing defective coating caused by an entrained fluid by sucking the air to reduce the entrained fluid, also preventing a coating liquid together with the air as much as possible, and stably and definitely exerting a coating defect preventive effect.例文帳に追加
空気を吸入し同伴流を減殺することで、この同伴流の影響による塗布不良を良好に阻止でき、しかも空気と一緒に塗工液を吸入することも可及的に阻止でき、安定して確実に塗布不良阻止効果を発揮できる画期的な薄膜塗布装置を提供する。 - 特許庁
To enhance the production efficiency of a thermoplastic resin sheet mainly comprising an aliphatic polyester without forming a defect to the sheet by suppressing the deposition of an oligomer on the surface of a cooling drum for molding a thermoplastic resin into a sheetlike shape at the time of molding of the thermoplastic resin sheet.例文帳に追加
本発明の課題は、脂肪族ポリエステルを主成分とする熱可塑性樹脂シートを成形するに際し、熱可塑性樹脂をシート状に成形する冷却ドラム表面へのオリゴマ堆積を抑制し、シートに欠点を生じさせずに生産効率の良い熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
The nozzle of the droplet discharge type dispenser is dipped in a solvent pot when not used and is pulled up from the solvent pot when used and wiped and then used to prevent the discharge defect caused by the liquid accumulation at the tip of the nozzle.例文帳に追加
非使用時に液滴吐出型ディスペンサのノズルを溶剤ポット内に漬け置きしておき、使用時に溶剤ポット内より引き抜いた液滴吐出型ディスペンサのノズルに拭き取り処理を施し、その後使用するようにし、それによって、ノズルの先端における溶剤の液溜まりに起因した吐出不良を未然に防止することができる。 - 特許庁
Furthermore, it becomes possible for the imaging device, to cope with an interpolation of an acquired defect with which the imaging device has not been able to cope and dust, without mounting a mechanistic system in which the dust has been mechanistically removed.例文帳に追加
動的構成制御装置101を用いることで、再構成ロジック装置105を撮像素子に対して時分割、かつ空間的に分割適用することで低コスト化を実現しつつも、従来対応できなかった後天性の欠陥補間への対応や、ゴミは機構的に取り除いていた機構的なシステムを搭載せずに対応が可能となる。 - 特許庁
Even though the prior art constitutes an incomplete expression or there is a defect in some of the prior art, it can be cited in assessing the novelty and the inventive step, when the person skilled in the art can readily understand the technical features of the claimed invention based on common technical knowledge or empirical rules. 例文帳に追加
先行技術に不完全な表現が含まれるか又は一部の先行技術に瑕疵があったとしても、当業者が技術常識や経験則に基づき容易に発明の技術的特徴を理解することができる場合は、新規性及び進歩性を判断する際に引用することが可能である。 - 特許庁
On the other hand, irrespective of any defect in specific statements pointed out in a final notice of reasons for refusal, amendments to limit the matters used to specify the invention stated in claims or amendments to state new technical matters in claims, etc. do not fall under "the amendments which are related to the matters stated in the reasons for refusal." 例文帳に追加
これに対し、最後の拒絶理由通知で指摘された特定個所の記載不備とは無関係に、請求項に記載された発明特定事項を限定する補正や、新たな課題を解決するための新たな技術的事項を請求項に記載する補正等は、「拒絶の理由に示す事項についてするもの」に該当しない。 - 特許庁
(8) Where the decision declares the absence of one of the requirements to be met for granting protection as a utility model, as stated in a brief of opposition, the Registry shall allow the applicant a further period to be determined in the Regulations to rectify the defect or to put forward the arguments he deems relevant.例文帳に追加
(8) 当該決定が異議申立書に述べる実用新案として保護を認めるために充足すべき要件を欠如している旨を宣言する場合は,産業財産登録庁は,当該瑕疵を除くため又は出願人が関連する意見書を提出するため,所定の追加の答弁期間を出願人に与えるものとする。 - 特許庁
(1) Similarly, the Spanish Patent and Trademark Office shall examine ex officio whether a trademark application infringes any of the prohibitions envisaged in Articles 5 and 9(1)(b). If, in carrying out the examination, the Office observes any defect in the application, this shall be notified to the applicant in accordance with Article 21(1).例文帳に追加
(1) 同様に,スペイン特許商標庁は,商標出願が第5条及び第9条(1)(b)において想定する禁止事由の何れかに抵触するか否かについても,職権をもって審査する。審査を実施する際に,同庁が出願において何らかの瑕疵を認めた場合は,これを第21条(1)に従い出願人に通知する。 - 特許庁
In KIPO, even though the prior art constitutes an incomplete expression or there is a defect in some of the prior art, it can be cited in assessing the novelty and the inventive step, when the person skilled in the art can readily understand the technical features of the claimed invention based on common technical knowledge or empirical rules. 例文帳に追加
KIPOでは、先行技術が不完全な表現が含まれるか又は一部の内容に欠陥があるとしても、当業者が技術常識や経験則により直ちにクレームに係る発明の技術的特徴を理解することができるならば、新規性及び進歩性を判断する際に引用することができる。 - 特許庁
To provide an ink jet recorder which can achieve stabilized image formation by enhancing the bonding strength of a recording medium and a functional liquid material with no dullness of coloring which becomes a defect in design or beauty or no adverse effect on the intrinsic physical properties of the functional liquid material.例文帳に追加
意匠上或いは美観上の欠陥となる発色のくすみを招くことがなく、しかも、機能性液状体の本来の物性に悪影響を与えることがなく、記録媒体との機能性液状体との接着強度を高めて、安定した画像形成を実現することができるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁
To detect an required molten part such as a hole or dent generated on the laser-welding-side surface of an object to be inspected as well as a through hole generated at the object, and to automatically judge degradation in welding strength due to molten part, for precision inspection of the defect of an object to be inspected.例文帳に追加
検査対象物に生じた貫通孔だけでなく、検査対象物のレーザー溶接側の表面に生じた穴アキや窪みなどの不要な溶解部分を検出することができ、さらに溶解部分による溶接強度の低下を自動的に判定することができ、高精度に検査対象物の欠陥検査を行える。 - 特許庁
While performing defect inspection of a disk based on whether a read error occurs or not after data are recorded into the disk, the HDC 10 checks quality of the DRAM by detecting presence of an error while sequentially overwriting test data from the DRAM 124 into SRAM 18 by setting the system ECC host 12 to the test mode.例文帳に追加
HDC10は、ディスクにデータを記録して読出しエラーが発生するか否かによりディスクの欠陥検査を実行する間、システムECCホスト12をテストモードとしてDRAM124からのテストデータをSRAM18に順次上書きしながらエラーの有無を検出することでDRAMの良否を判定する。 - 特許庁
When conducting build-up welding to a casting 1, a build-up welding section 1W of the casting is softened by generating friction heat with rotating a rod 2 to enable plastic flow, further by pressurizing plastic flow enabled section and imparting reduction, a casting defect is eliminated beforehand.例文帳に追加
鋳造品1に肉盛溶接を行うに際し、鋳造品1の肉盛溶接部位1Wでロッド2の回転による摩擦発熱を生じさせて軟化させることにより塑性流動可能にすると共に塑性流動可能部分を加圧してリダクションを付加することにより鋳造欠陥を前もってなくす。 - 特許庁
In addition, since a processing section 23 of a home gateway 200 transmits address information of an IP terminal 100 to a support terminal 300, a connection can be immediately made from the support terminal 300 to the IP terminal 100 through the home gateway 200, and checking and handling the defect can be immediately performed from the WAN side.例文帳に追加
また、ホームゲートウェイ200の処理部23がIP端末100のアドレス情報をサポート端末300に送信するので、ホームゲートウェイ200を介してサポート端末300からIP端末100に即時的に接続可能であり、WAN側から即時的に検査や不具合を対処することが可能となる。 - 特許庁
Facets 1 are formed as inclined surfaces over an arranged surface of an underlying semiconductor layer 2 on which a plurality of the facets 1 are arranged, and a semiconductor device body is formed in a low defect density region formed in a selective growth embedded semiconductor layer 3 covering an underlying semiconductor layer 2, to improve the characteristics.例文帳に追加
複数のファセット1が配列された下地半導体層2の配置面に対して、ファセット1が傾斜面として形成され、下地半導体層2を覆う選択成長埋込み半導体層3に形成される低欠陥領域に半導体素子本体が形成され特性の改善が図られる。 - 特許庁
The method comprises the steps of forming a strained Ge-containing layer on the front surface of an Si-containing substrate, implanting ions into the interface of the Ge-containing layer/the Si-containing substrate or under the interface, and forming the substantially-relaxed SiGe alloy layer, in which the flat surface defect density is decreased.例文帳に追加
本発明の方法は、Si含有基板の表面上に歪みGe含有層を形成するステップと、Ge含有層/Si含有基板の界面にまたは界面の下にイオンを注入するステップと、加熱を行って、平面欠陥密度が低下した、実質的に緩和したSiGe合金層を形成するステップと、を含む。 - 特許庁
To provide a controlling method for an unmanned helicopter, which deals with an occurrence of a defect in receiving a control signal from a transmitter by landing an airframe with the most optimum method corresponding to a state of the airframe and immediately controlling the airframe from the transmitter when the receiving state is restored, even if the helicopter has no automatic hovering function.例文帳に追加
送信機からの操縦信号の受信不良が発生したときに、機体の状態に応じて最適な方法で着地可能であって、受信状態が回復したときには直ちに送信機から操縦可能とし、自動ホバリング機能がない場合にも対応可能な無人ヘリコプタの制御方法を提供する。 - 特許庁
By using the composition for chemimechanical polishing containing at least one kind of a compound (acyl compound) having at least two each of acyl groups and hydrophilic groups inside a molecule, the dispersion of a conventional chemimechanical polishing composition is improved, the chelate capability is provided as well, and thus the defect of the polishing surface is prevented.例文帳に追加
分子内にアシル基と親水基とを2個以上づつ有する化合物(アシル化合物)の1種以上を含有する化学機械研磨用組成物を用いることで、従来の化学機械研磨組成物の分散性を向上させ、キレート能力も持たせることで、より研磨面の欠陥を抑制できる。 - 特許庁
To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加
本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity and low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining these characteristics at a high level with time.例文帳に追加
表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に、感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁
To remove the defect that the horizontal and vertical joints of the punched aluminum panels adjoining one another to form the screen look like obtrusive white stripes to the viewers watching the screen in the half-light, in order to install a video projection projector system besides the existing projection system for the planetarium.例文帳に追加
既設の投影方式のプラネタリウムにビデオ投影プロジェクター方式を併設するためにスクリーンを構成する横方向及び上下方向に隣り合うパンチングアルミパネル同士の左右・上下方向の継ぎ目部が薄明かりの中でクリーンを観る観客にとって大変目障りな白いスジとなって見えると云う欠点が出ないようにする。 - 特許庁
To obtain a two-stage curing resin composition capable of forming a finely shaped molded article without causing a product defect which has sufficient strength and heat resistance and of which the fine form is shaped precisely, the finely shaped molded article and to provide its manufacturing method and precision equipment using the finely shaped molded article.例文帳に追加
製品不良を引き起こすことなく、微細な形状を精密に賦形された十分な強度と耐熱性を有する微細賦形成形物を形成できる2段階硬化型樹脂組成物、該微細賦形成形物およびその製造方法、ならびに該微細賦形成形物を用いた精密機器を提供すること。 - 特許庁
When an increase of loss in the wavelength of 630 nm band caused by bonding defect of silicon and oxygen in the quartz glass is limited to 4 dB/km or less, an increase of loss in the wavelength of 1380 nm band caused by the diffusion of oxygen into the quartz glass can be limited to 0.1 dB/km or less.例文帳に追加
この石英ガラス中のシリコンと酸素との結合欠陥によって生じる波長630nm帯での損失増加分を4dB/km以下とすることにより、石英ガラス中への水素拡散によって生じる波長1380nm帯での損失増加分を0.1dB/km以下とすることができる。 - 特許庁
To provide a silicon single crystal pulling-up apparatus capable of producing a silicon single crystal ingot having a prescribed shape and no defect by suppressing the occurrence of a flushed burr in a growth process for the crown part of single crystal ingot which is the most important step in the pulling-up process for silicon single crystal by a Czochralski method.例文帳に追加
本発明は、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の引上げ過程で最も重要とされる単結晶インゴットのクラウン部成長工程においてフラッシュアウトの発生を抑制し、所望形状で欠陥のないシリコン単結晶インゴットを製造することができるシリコン単結晶引上装置を提供する。 - 特許庁
This acrylic resin film comprises an acrylic resin containing glutaric anhydride units and acrylic elastomer particles, and has a total light transmittance of ≥91%, a haze of ≤1.5%, a Tg of ≥120°C, pore defects of ≤10 defects/m^2, and bumping defects of ≤one defect/100 m^2.例文帳に追加
グルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂に、アクリル弾性体粒子を配合したアクリル樹脂フィルムであって、全光線透過率が91%以上、ヘイズが1.5%以下、Tgが120℃以上、気泡欠点が10個/m^2以下かつ突沸欠点が1個/100m^2以下であるアクリル樹脂フィルムとする。 - 特許庁
To provide a method for molding a spectacle lens from a fast-curing composition using a vertically arranged split mold constituted so as to eliminate a defect such as an optical flaw or the like generated when a polymerizable synthetic composition is introduced from the nozzle provided to the upper part of a conventional vertically arranged split mold.例文帳に追加
従来の垂直に配置した二分割型金型の上部に設けたノズルから、重合性合成組成物を導入した場合に生じる光学的欠陥などの欠点を解消した、垂直に配置された二分割型金型を用いて、速硬化性組成物から、眼鏡レンズを成形する方法の提供。 - 特許庁
An address replacement discriminating circuit 100 comprises a node 110 outputting a spare enable-signal SE activating a spare memory cell, regular fuses 120-1 to 120-n provided corresponding respectively to each bit of address decoding signals AD0-ADn, and a spare fuse 150 replacing a regular fuse in which defect is caused.例文帳に追加
アドレス置換判定回路100は、予備メモリセルを活性化するスペアイネーブル信号SEを出力するノード110と、アドレスデコード信号AD0〜ADnの各ビットにそれぞれ対応して設けられる正規ヒューズ120−1〜120−nと、欠陥が生じた正規ヒューズを置換するためのスペアヒューズ150を含む。 - 特許庁
The revolution speed of a barrel bath containing a workpiece and an abrasive is changed from low speed to high speed from an initial stage of a polishing process toward its finishing stage, thereby achieving barrel polishing at high machining efficiency while suppressing a defect rate, irrespective of the types and characteristics of the constituent materials of the workpiece.例文帳に追加
ワークと研磨材を充填収容するバレル槽の公転速度を、研磨工程の初期から仕上期に向けて低速から高速に変更することにより、脆性材料からなるワークを含めて、ワークの構成材料の種類・特性に関わらず、不良率を低く抑えつつ、加工効率の高いバレル研磨加工を実現する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a microfluid device comprising a fine capillary cavity formed as a defect part of a damageable very thin layer and to provide a method in which a microfluid device comprising an especially three-dimensionally formed complicated flow channel is manufactured with high productivity.例文帳に追加
本発明が解決しようとする課題は、破損しやすい非常に薄い層の欠損部として形成された微細な毛細管状の空洞を有するマイクロ流体デバイスの製造方法、特に立体的に形成された複雑な流路を有するマイクロ流体デバイスの生産性の高い製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a photomask detecting device and a photomask detecting method, capable of satisfactorily conducting a performance evaluation and a defect inspection of a large-sized photomask, and to provide a method of manufacturing a photomask for a liquid crystal device using the photomask detecting device and the photomask detecting method, and a pattern transferring method.例文帳に追加
大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁
To easily control the charge amount of toner as a charge amount suitable to develop an electrostatic latent image, to suppress image defect such as the deterioration in image density and fogging, and to develop and form an image of high image quality.例文帳に追加
トナーの帯電量を簡易に静電潜像現像に適する帯電量に制御することができ、画像濃度低下、カブリ等の画像不良を抑制して高画質の画像を現像形成できる現像装置及び該現像装置を搭載することでそれだけ良好な画像を形成できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a high quality die casting having little defect with which in the die casting for gruel-state solidifying type solidification style, good condition of molten metal is supplied into the last solidifying part with a local pressurization and also, the crack and the deformation in the casting generated once in a while caused by the local pressurization, are prevented.例文帳に追加
粥状凝固型の凝固様式をもつ金属のダイカスト鋳造において、局部加圧により最終凝固部に良好に溶湯が補給されるとともに、局部加圧することで発生することがある鋳物の割れや変形が防止された、欠陥の少ない高品質なダイカスト鋳物を提供する。 - 特許庁
To provide a graphic processor capable of improving efficiency of design development business by previously extracting a defect shape in a vertex to reduce a time of trial and error by a user of a three-dimensional CAD (Computer Aided Design), when creating a fillet shape in a three-dimensional model by the three-dimensional CAD.例文帳に追加
3次元CADによる3次元モデルにフィレット形状を作成する場合において、予め、頂点における不具合形状を抽出し、3次元CADの利用者による試行錯誤の時間を削減させ、設計開発業務の効率を向上させることができる図形処理装置を提供する。 - 特許庁
Substance loss by thermal decomposition is substantially suppressed and high-quality silicon carbide powders, a molding, a fiber, a thin film, and a composite material matrix with little defect are prepared since an advanced crosslink-type network structure is generated by a hydrosilylation reaction in a process in which poly[(silylyne)ethynylene] or/and poly[(silylene)ethynylene] are fired.例文帳に追加
ポリ[(シリリン)エチニレン]あるいは/ならびにポリ[(シリレン)エチニレン]を焼成する過程において、ヒドロシリル化反応により高度なクロス・リンク型ネットワーク構造が生起するために、熱分解による物質損失が大幅に抑止され、欠陥の少ない高品質の炭化ケイ素の粉末、成形品、繊維、薄膜、複合材料マトリックスが作製できる。 - 特許庁
The load-carrying platform is always maintained to be parallel to the ground by the principles of a parallelogram, and deformable parallelogram as a defect can be turned to be the parallelogram capable of preventing from getting out of shape by fixing one of interior angles, and thereby even the load-carrying platform exclusive for rising can be used for the one exclusive for lowering by changing the direction.例文帳に追加
また平行四辺形の原理で地面と常に平行な荷台を保つもので、四辺形の変形自由な欠点をその内角のひとつと固定することにより形のくずれない平行四辺形を得るもので、これらのカートが昇り専用であっても方向を変えれば下り専用使用にもなる。 - 特許庁
As a result, distortion is not applied to the inside of the semiconductor laser element 2, the generation of crystal defect is suppressed in the inside of the element, more specifically, immediately below a ridge stripe provided inside the semiconductor laser element 2 and in the vicinity of an active layer near the ridge stripe, so that boding work can be executed stably and unfailingly.例文帳に追加
その結果、半導体レーザ素子2の内部に歪が加わらず、そのため素子内部、特に半導体レーザ素子2の内部に設けられるリッジストライプの真下およびリッジストライプ近傍の活性層近傍での結晶欠陥の発生を抑制することが可能となり、安定かつ確実にボンディング作業を行なうことが可能となる。 - 特許庁
In other words, the direction of the growth step flow can be oriented to almost one opposing to the reaction gas flow so that the growth of the single crystal may be stopped, whereby the succession of the defect growth of the micro pipe is suppressed in the seed crystal on its whole faces in the silicon carbide single crystal.例文帳に追加
つまり、成長ステップフローの向きが炭化珪素原料ガスの流れに略対向する向きで炭化珪素単結晶6が成長しないようにでき、種結晶4の全面において、種結晶4の中に存在するマイクロパイプ欠陥が炭化珪素単結晶6の中に継承することを抑制できる。 - 特許庁
To provide an ultraviolet irradiation device which can cure good an ultraviolet curable ink adhered on a recording medium without resulting in the defect of skinning that only a surface of the ink is cured at the time of printing (for example, monochrome color printing) in which a film thickness of the ink adhered to the recording medium becomes relatively thick.例文帳に追加
記録媒体に付着させるインクの膜厚が比較的に厚くなる印刷(例えばモノカラー印刷)の際に、記録媒体上に付着された紫外線硬化型インクを、インクの表面のみが硬化する皮張りという不具合を招くこともなく、良好に硬化させることのできる紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a method for producing a stripe electrode by forming a transparent conductive film on the upper surface side of a substrate and then striping the transparent conductive film in which occurrence of a defect in a reproduced image due to a protrusion formed on the upper surface of the stripe electrode is prevented.例文帳に追加
基板の上面側に透過導電膜を形成し、該透明導電膜をストライプ加工してストライプ電極を形成するストライプ電極製造方法において、透明導電膜の上面またはストライプ電極の上面に形成されている突起物に起因する再生画像の画像欠陥の発生を防止する。 - 特許庁
To provide an array substrate for a display device which is used for a plane display device, such as a liquid crystal display device, is capable of preventing the occurrence of the disconnection or conduction defect of leader wiring and does not exert an adverse influence, such as the interference between wires of the leader wiring and a method of manufacturing for the same.例文帳に追加
液晶表示装置等の平面表示装置に用いられる表示装置用アレイ基板及びその製造方法において、引き出し配線の断線または導電不良が生じるのを防止できるとともに、引き出し配線間の干渉などの悪影響を及ぼさないものを提供する。 - 特許庁
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