Defectを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18303件
The sections 10, 20 each transmit a mask notification signal for inhibiting defect detection in a transient state to the section 30, and the section 30 stops detecting a defective state for a prescribed time, according to the mask notification signal and detects a defective state for the sections 10, 20 after the mask is released.例文帳に追加
被監視機能部10,20は過渡状態における不良検出を禁止するマスク通知信号を監視制御部30に送信し、監視制御部30は該マスク通知信号に従って不良状態検出を所定時間停止するが、マスク解除後に被監視機能部10,20に対する不良状態の検出を行う。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus for picking up the optical image of an object using a solid state image sensor and outputting a video signal in which a white blemish is corrected immediately upon occurrence in a working solid state image sensor to create a video signal of good image quality in which defect due to the white blemish is inconspicuous.例文帳に追加
固体撮像素子を用いて被写体光像を撮像し映像信号を出力する撮像装置において、使用中の固体撮像素子に白キズが新たに発生しても、直ちに補正して、この白キズによる欠陥が目立たない良好な画質の映像信号を生成する撮像装置を提供する。 - 特許庁
To provide an excellent positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, having excellent resolution, and causing little development defect and scum (development residue).例文帳に追加
160nm以下、特にF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、解像性に優れ、現像欠陥、スカム(現像残渣)の発生が少ない、優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加
特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide polishing cloth processing a base board for a recording disk with excellent productivity, by checking sticking of a titanium compound represented by titanium dioxide to a disk surface, by realizing uniform processing by restraining a scratch being a defect of the disk, in texture processing of a magnetic disk requiring highly accurate finishing.例文帳に追加
高精度の仕上げを要求される磁気ディスクのテクスチャー加工において、ディスクの欠点となるスクラッチを抑制して均一な加工を実現するとともに、ディスク表面への二酸化チタンに代表されるチタン化合物の付着を阻止することで、記録ディスク用基板を生産性よく加工できる研磨布を提供する。 - 特許庁
To provide a broadcast receiver which receives a plurality of programs transmitted by using are frequency, that sequentially outputs a plurality of the programs while automatically selecting them so as to display information with respect to each program in scanning and causes no defect for the display of the information during the scanning operation.例文帳に追加
1つの周波数で複数の番組が送信される放送の放送受信機であって、複数の番組を自動的に切り換えて順次出力しつつ番組に関する情報を表示するスキャン動作を行い、さらに前記スキャン動作中の情報の表示に不具合が発生しない放送受信機を提供することである。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus adaptable to continuous paper which can achieve excellent transfer free from an image defect even in transfer to rough surface paper whose surface is largely roughened and also transfer to the second surface of a web which is wrinkled by heat when fixing a toner image on its first surface even when it is the web whose surface is comparatively flat.例文帳に追加
表面の凹凸の大きな粗面紙への転写や表面が比較的平坦なウェブであっても、第1面のトナー画像定着時の熱によるシワの発生したウェブの第2面に転写においても、画像欠陥のない良好な転写が可能な連続紙対応の画像形成装置を提供する。 - 特許庁
Consequently, the real-time data can be recorded and/or reproduced by not performing linear replacement, when the real-time data are recorded while maintaining compatibility with defect-managing method by a method prescribed by the current DVD-RAM standards, i.e., while giving notice of the presence of a block which is not replaced linearly.例文帳に追加
これにより、現在のDVD−RAM規格で定まっている方法による欠陥管理方法と互換性を維持しながら即ち、線形置換されないブロックがあるということを知らせるようにしながら、リアルタイムデータを記録する場合には線形置換しないことによってリアルタイムデータが記録及び/または再生できる。 - 特許庁
To obtain a projection type cathode-ray tube device formed by combining a projection type cathode-ray tube and a deflection device including a deflection yoke, restraining anode leak defect caused by unnecessary discharge at a neighboring area of a high-voltage lead-in anode terminal, excellent in a displaying property, and to obtain a projection display device.例文帳に追加
投射型陰極線管と、偏向ヨークを含む偏向装置とを組み合わせた投射型陰極線管装置で、高圧引き込み陽極端子近傍の不要放電による陽極リーク不良を抑制し、表示特性の優れた投射型陰極線管装置及びプロジェクション表示装置を得る。 - 特許庁
To provide a device in which a probe can be used both for observation and correction and which can perform desired processing without injuring a normal portion, even if a next generation photomask having a ultrafine structure is used as an object, in a step of acquiring information about the position and feature of a defect, or without damaging the probe during processing.例文帳に追加
観察用と修正用とでプローブを兼用でき、次世代の超微細構造のフォトマスクを対象としても欠陥部の位置と形状の情報を取得する過程において正常部分を損傷してしまうようなことがなく、また、加工時にもプローブを傷めることなく所望の加工ができる装置を提供する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor and a method of manufacturing the electrophotographic photoreceptor in which an image defect due to pinhole leak is not generated, stable and high sensitivity and excellent potential characteristics are given in all environments extending from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity, and excellent images are constantly formed even when the electrophotographic photoreceptor is repeatedly used.例文帳に追加
ピンホールリークによる画像欠陥の発生を起こさず、低温低湿下から高温高湿下に至る全環境において、安定して高い感度及び優れた電位特性を有し、繰り返し使用しても優れた画像を継続して形成し得る電子写真感光体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To uniformly and excellently perform etching treatment while preventing a silicon wafer from being damaged by eliminating a rotation defect by eliminating the drop of the silicon wafer from a groove of a holding bar, and to improve flatness in the outer periphery of the silicon wafer by suppressing, as small as possible, the area of the outer periphery not in contact with an etching liquid.例文帳に追加
シリコンウェーハの保持バーの溝からの脱落をなくし回転不良をなくすことで、シリコンウェーハの破損を防止しエッチング処理をムラなく良好に行えるようにするとともに、外周部でエッチング液が接触しない面積を極力小さく抑えることでシリコンウェーハの外周部の平坦度を向上させる。 - 特許庁
To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加
液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To reliably hold a cemented carbide material tip by casting metal so as not to separate, slip out and rotate while preventing the formation of a cavity part and a defect part in a crushing tool manufactured by an insertingly casting method for holding a cemented carbide material by casting the casting metal in a state of having the cemented carbide material on the tip.例文帳に追加
超硬材を先端に備えた状態で鋳造用金属を鋳込んでその超硬材を保持する鋳ぐるみ方式によって製造される破砕具において、空洞部や欠陥部を形成することを防止しながら剥離や抜けや回りがないよう超硬材チップを鋳造用金属に確実に保持させる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of preventing the occurrence of a defect due to solder re-fusion and flow-out in reflow heating, in which chip type electronic components are connected and fixed with solder on the main plane of a substrate, and the semiconductor device resin sealed integrally in the main plane side, is soldered to a mounting substrate such as the printed wiring board.例文帳に追加
基板の主面上にチップ型電子部品がはんだで接続、固定され、その主面側が一体に樹脂封止された半導体装置をプリント基板等の実装基板にはんだ付けするリフロー加熱時に、はんだの再溶融流れ出しによる不良発生を防止することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a phase difference modifier and an optical resin composition containing the modifier, and to provide an optical film, formed from the resin composition, that can achieve a large phase difference due to the composition not found in the past, and controls generation of an apparent or optical defect in the preparation or use of the film.例文帳に追加
位相差調節剤と該調節剤を含む光学用樹脂組成物および該組成物から形成される光学フィルムであって、従来にない組成により、大きな位相差を実現できるとともに、製造時および使用時における外観上あるいは光学的な欠点の発生が抑制された光学フィルムの提供すること。 - 特許庁
The ATM network element selects the UTOPIA address (UA2) for the function side transmission concentrated sub layer entity (TCS-W) and the protection side transmission concentrated sub layer entity (TCS-P) for transmission so long as an error message indicating a defect in the transmission concentrated sub layer sub network connection is not received and combines data entered to the network element via both the entities.例文帳に追加
ATMネットワーク要素は、TCS SNCにおける欠陥を指示するエラーメッセージが受信されない限り、機能側送信集中サブレイヤエンティティ(TCS-W)あるいは保護側送信集中サブレイヤエンティティ(TCS-P)のUTOPIAアドレス(UA2)を送信のために選択し、更に、両エンティティを経てネットワーク要素に入るデータを合体する。 - 特許庁
The line sensor reads the calculated shading correction data at the home position on the shading correction plate, shading is corrected by the means shading correction data on the basis of the obtained read data (S12 in Figure 10), and at least a defect position of the shading correction plate is specified on the basis of the data after the correction (S17).例文帳に追加
シェーディング補正板上のホームポジションにおいてラインセンサにシェーディング補正板を読み取らせ、得られた読取データに対して、前記平均シェーディング補正用データによりシェーディング補正を行い(図10のS12)、この補正後データを基に、少なくともシェーディング補正板の欠陥位置を特定する(S17)。 - 特許庁
To provide a developer regulating member, a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus with which a stable developing thin layer is formed, the set image defect of a developing roller that a sharp line whose density is thick is caused on an image is avoided, and the high-quality image whose density is stable is formed.例文帳に追加
安定した現像薄層を形成することができ、画像に濃度の濃い鋭い線が発生する現像ローラセット画像不良を回避し、画像濃度の安定した、高画質な画像を形成することが可能な、現像剤規制部材、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sheet for solar battery back surface sealing which is excellent in moisture and heat resistant adhesiveness without the appearance defect of the sheet accompanying adhesion defects with a gas barrier base material or performance decline accompanying the decline of a gas barrier performance even under a severe preservation condition under a high temperature and high humidity, and a solar battery module using it.例文帳に追加
高温多湿下における過酷な保存条件においても、ガスバリア基材間の密着不良に伴うシートの外観不良や、ガスバリア性能の低下に伴う性能低下を伴わない、耐湿熱密着性に優れた太陽電池裏面封止用シート及びこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which is suitably used for a light source for exposure of ≤160 nm, particularly, an F_2 excimer laser beam (157 nm), and specifically to provide a positive resist composition which exhibits sufficient transmissibility when used for the light source of 157 nm and has little line edge roughness, development defect and scum.例文帳に追加
160nm以下、特にF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
To provide a visual function disorder improving agent, particularly a visual function disorder improving agent that has the effects of promoting axon extension in retinal gangliocyte and promoting regeneration of optic nerve cells and is useful in treating visual function disorders in association with various eye diseases caused by damage, defect, degeneration, etc., in retina and optic nerves.例文帳に追加
視覚機能障害改善剤の提供、特に網膜神経節細胞の軸索伸展促進作用、視神経細胞の再生促進作用を有し、網膜や視神経の損傷や欠損、変性等に起因する種々の眼疾患に伴う視覚機能障害の治療に有用な視覚機能障害改善剤等の提供。 - 特許庁
The SiC epitaxial wafer is an SiC epitaxial wafer in which an SiC epitaxial layer is formed on a 4H-SIC single crystal substrate made to incline by 0.4°-5° of an off angle, and is characterized in that the defect density of the triangle shape of the surface of the SiC epitaxial layer is at most 1 piece/cm^2.例文帳に追加
本発明のSiCエピタキシャルウェハは、0.4°〜5°のオフ角で傾斜させた4H−SiC単結晶基板上にSiCエピタキシャル層を形成したSiCエピタキシャルウェハであって、前記SiCエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が1個/cm^2以下であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a sputtering composite target forming a transparent conductive film into which a stable fixed amount of oxygen defect can be introduced, and which has satisfactory light transmission, low electric resistance and satisfactory conductivity, to provide a method for producing a transparent conductive film using the same, and to provide a transparent conductive film-fitted base material.例文帳に追加
安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット、これを用いた透明導電膜の製造方法及び透明導電膜付基材を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus such as a printer, a copying machine or an ink jet printer which performs control by automatically selecting an image forming condition in accordance with a medium by a medium detection sensor and which is prevented from causing an image defect or the like even when the medium detection sensor breaks down because of disconnection or short-circuit.例文帳に追加
メディア検知センサにより、メディアに応じた画像形成条件を自動的に選択し制御を行うプリンタ、複写機、あるいはインクジェットプリンタ等の画像形成装置において、メディア検知センサが断線やショートにより故障しても、画像不良等の発生しない画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which a speed difference is provided between an image carrier and an intermediate transfer belt, and in which the removal of discharge products arising from contact charging is securely performed without depending on the size of constituting apparatus or the like, thus the abrasion of the image carrier and the occurrence of an image defect can be prevented.例文帳に追加
像担持体と中間転写ベルトとの間に速度差が設けられた画像形成装置において、構成機器のサイズ等によらず接触帯電に伴う放電生成物の除去を確実に行い、これにより像担持体の磨耗や画像欠陥の発生を未然に防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The defect inspection apparatus is provided with various optical functions according to the type (shapes, materials, close patterns, etc.) of defects to be inspected, accumulates the difference in shade between defects desired to be detected and pseudo-defects desired to be not detected for each optical function, and efficiently selects conditions advantageous for highly sensitive and low-pseudo-rate inspection.例文帳に追加
検査対象となる欠陥種(形状,材料,近接するパターンなど)に対応して、多様な光学機能を備えており、各光学機能別に検出したい欠陥及び検出したくない擬似欠陥の濃淡差などを蓄積し、高感度、低擬似率検査に有利な条件を効率的に選択する。 - 特許庁
In the device for inspecting the defect in the mask blank, a first iris diaphragm is positioned at a light source to limit irradiation angels of light emitting from the light source and a scattering control unit is positioned at the outgoing port of a dark field optical unit so as to control scattering angles of scattered light after being reflected from the mask blank.例文帳に追加
マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。 - 特許庁
To provide a vessel examination method and a vessel examination device that permit, when a vessel is to be examined for any small hole or like defect having arisen therein by irradiating the vessel with light to detect any light leak from the wall part of the vessel, efficient and reliable detection of any small hole irrespective of size.例文帳に追加
容器に光を照射して、容器壁部の漏光を光センサにより検出して、容器に生じた小孔等の欠陥を検査する場合に、容器に生じた大きな小孔から小さな小孔までを、効率的かつ確実に検出可能な容器検査方法及び容器検出装置を提供すること。 - 特許庁
A CPU or the like of the product electrically reads the defect information or the like of the solid state imaging element A via the terminals P1-P5 in an assemble process or the like of the imaging equipment into which the solid state imaging apparatus 100 is incorporated so as to enable the adjustment operations for every product to be automatically executed based on the information.例文帳に追加
固体撮像装置100を組み込んだ撮像機器の組み立て工程等において、その製品のCPU等が、端子P1〜P5を介して固体撮像素子Aの欠陥情報等を電気的に読み取り、それらの情報に基づく製品毎の調整作業を自動的に実施可能にする。 - 特許庁
Regarding this "material weakness" term (Juyo-na-kekkan in Japanese), in this system, it is already established as a term under the standard, but it is pointed out that this invites the misunderstanding that there is a "defect" in the company itself. Therefore, this was changed to "material weakness" (Kaiji-subeki-juyo-na-fubi in Japanese). However, with this history of the Japanese term's replacement, one must keep in mind that there are no changes in the term's definition, nor in the decision criteria of "material weakness," and that this differs from "significant deficiency" as used in a financial statement audit. C.f. The English expression "material weakness" has not been revised. 例文帳に追加
ただし、そうした経緯から用語を置き換えたものであり、用語の定義や「開示すべき重要な不備」の判断基準は変わらないこと、財務諸表監査において使用されている「重要な不備」とは異なること等に留意が必要である。 - 金融庁
To provide a method for evaluating a compound semiconductor substrate where, for producing a gallium nitride based compound semiconductor substrate of high quality, a fine crystal defect regarding a gallium nitride film can be easily confirmed at high precision using Raman spectroscopy, to provide a method for producing the same, and to provide the compound semiconductor substrate.例文帳に追加
高品質の窒化ガリウム系化合物半導体基板を製造するために、ラマン分光法を用いて、窒化ガリウム膜についての微小の結晶欠陥を高精度かつ簡便に行うことができる化合物半導体基板の評価方法および製造方法ならびに化合物半導体基板を提供する。 - 特許庁
As a result, the water tank pump solves large defects generating vibration and noise and a defect causing breakage of inlet and discharge valves in a short time in conventional pumps increasing oxygen dissolved in the water tank for rearing aquarium fishes.例文帳に追加
本発明の電解式水槽ポンプはアルカリ電解液中に複数の電極対を設け、各電極間に直流脈動電流を流し、酸素と水素の混合ガスを発生させ、その発生ガスを多細孔を有する吐出ストーンより魚類を飼育する水槽中や汚水中に吐出させて酸素を供給するようにした。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing sufficiently a monocrystal GaN substrate which is a growing substrate capable of obtaining a semiconductor layer of a good surface morphology or a monocrystal GaN substrate which can be suitably used as a semiconductor substrate, by reducing a defect in a polishing process and shortening a polishing time.例文帳に追加
研磨工程における不良を低減し、研磨時間を短縮して、表面モフォロジーが良好な半導体層が得られる成長用基板である単結晶GaN基板又は半導体基板として好適に用いることができる単結晶GaN基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
When defect happens in an operation of the lithium ion battery body 2, the lithium ion battery body 2 gets high in temperature, and the greater part of the evaporated electrolyte is fixed by quickly being absorbed with the absorption material 4 even if the electrolyte in the lithium ion battery body 2 is spouted by evaporating after the safety valve is cleaved.例文帳に追加
リチウムイオン電池本体2の動作に異常が発生したときは、リチウムイオン電池本体2が高温になり、安全弁が開裂して、リチウムイオン電池本体2内の電解液が気化して噴出したとしても、この気化した電解液の大半は、吸収材4に迅速に吸収されて固定化される。 - 特許庁
To provide a pressurizing and cooling treatment method capable of preventing generation of a defective product in view of the fact that when pressurizing or cooling gas supplied to a treated object after vacuum heating treatment has been completed contains moisture, the moisture adheres to the treated object, and a defect occurs in the treated object.例文帳に追加
真空加熱処理作用が終了した被処理物へ対して加圧又は冷却用の気体を供給するとき、当該気体中に水分が含有されていると、その水分が被処理物に水分が付着することになり、被処理物に不良が発生するので、不良品の発生しない加圧冷却処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method capable of easily exfoliating a grown-up nitride semiconductor layer by a simple method and manufacturing a high-quality self-support nitride semiconductor substrate with little defect, in manufacturing a self-support nitride semiconductor substrate by exfoliating a nitride semiconductor layer epitaxially grown up on a base material.例文帳に追加
基材上にエピタキシャル成長させた窒化物半導体層を剥離する窒化物半導体自立基板の製造において、成長させた窒化物半導体層を簡易な方法で容易に剥離させることができ、欠陥の少ない高品質の窒化物半導体自立基板を製造することができる方法を提供する。 - 特許庁
That is, a foreign substance defect on a photomask is removed and corrected by preparing a plurality of probes, simultaneously bringing at least two probes into contact with a foreign substance on a photomask surface, holding the foreign substance at least at three different positions, and parting the foreign substance away from the photomask surface.例文帳に追加
つまり、複数のプローブを用意し、そのうちの少なくとも2つのプローブをフォトマスク表面上にある異物に対して同時に接触させ、異物を少なくとも異なる3箇所で保持し、保持した前記異物をフォトマスク表面から遠ざけることにより、フォトマスク上の異物欠陥を除去して修正する。 - 特許庁
To prevent non-uniformity of irradiation of a laser beam accompanying a defect of irradiation control, damage by radiation of the laser beam outside a crystallization region and contamination due to generated fine particles when scanning irradiation by driving a substrate stage in crystallization using the continuous oscillation laser beam.例文帳に追加
連続発振レーザー光を用いた結晶化において基板ステージを駆動することによってスキャン照射を行う場合に、照射制御の不良に伴うレーザー光の照射の不均一性や、結晶化領域外へのレーザー光の照射による損傷や発生した微粒子による汚染を抑制する。 - 特許庁
Further, the surface temperature of the semiconductor wafer W supported in point contact is relatively slow in temperature falling speed and the surface temperature is thereby held above an annealing temperature Ta for the time ta, so that the crystal defect introduced in the semiconductor wafer W during the impurity implantation can be recovered.例文帳に追加
さらに、点接触にて支持された半導体ウェハーWの表面温度の降温速度は比較的小さく、その結果表面温度がアニール温度Ta以上に時間ta維持されることとなり、不純物注入時に半導体ウェハーWに導入された結晶欠陥の回復をも行うことができる。 - 特許庁
In this method for determining the presence of a defect in a weld by processing the ultrasonic response signals gathered from a plurality of the measuring places set along the weld, the ultrasonic response signals from the respective measuring places are filtered out to form the response signals filtered with respect to the respective measuring places.例文帳に追加
溶接部に沿った複数の測定箇所より集められた超音波応答信号を処理して溶接部内の欠陥の存在を決定するための方法は、それぞれの測定箇所からの超音波応答信号をフィルタリングして、それぞれの測定箇所に対するフィルタリングされた応答信号を生成することを含み得る。 - 特許庁
To provide an image processor which can suppress the occurrence of a prescribed image defect phenomenon and can reproduce a high quality image even if an image data which contain an image in which a prescribed image failure may occur regarding transfer in a transfer process of an electrophotographic process.例文帳に追加
電子写真プロセスにおける転写プロセスでの転写にかかわる所定の画像欠陥事象が発生するような画像を含む画像データを取得した場合であっても、当該所定の画像欠陥事象の発生を抑制し高画質の画像を再現することのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a toner having good fixability, improving transfer efficiency, preventing an image defect in each transfer process and capable of outputting an image with good reproducibility for a long period of time in a high-speed full-color image forming method, and to provide a full-color image forming method and a process cartridge, using the toner.例文帳に追加
高速のフルカラー画像形成方法において、定着性が良好で、転写効率を向上させ、各々の転写時に画像欠陥をなくし、長期的に再現性の良い画像を出力することができるトナー、並びに、該トナーを用いたフルカラー画像形成方法及びプロセスカートリッジを提供の提供。 - 特許庁
To provide a letterpress for forming a high definition pattern by which a printing material for performing successful edge detection is obtained, and stable and high definition management of a press plate is performed by further using a defect inspection machine in combination even in the case of the letterpress using a base material such as a metal base material with high reflectance.例文帳に追加
金属基材のような反射率の高い基材を用いた凸版であっても、良好なエッジ検出ができる版材が得られ、さらには欠陥検査機も併用できることで、安定的かつ高精度の印刷用刷版の管理を行うことを可能とする高精細パターン形成用凸版を提供する。 - 特許庁
To provide an ultrasonic oscillator with stable characteristics, which prevents an adhesive from being absorbed by an acoustic matching layer to cause a defect in adhesion when the acoustic matching layer which is porous is bonded.例文帳に追加
本発明は、気体液体などの流体の流量を計測する超音波振動子に用いられる音響整合層に関するものであり、多孔質な音響整合層を接着する場合に、接着剤が音響整合層に吸い上げられ接着不良となるのを防ぎ、安定な特性の超音波振動子を提供することである。 - 特許庁
A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.例文帳に追加
保持手段で基板の加工面を下向きに保持し、基板の下方から基板の加工面に対してレーザ光を照射するとともに、ガス供給手段から供給されるガスをガス導入手段を通じて基板のレーザ照射部に吹き付けて、基板上に膜を形成し、基板上のパターン膜の白欠陥を修正する。 - 特許庁
When the bearing oil has a negative pressure defect due to a failure of the smoke elimination fan 5 or the like, the electromagnetic valve 7 is automatically opened to prevent leakage of the bering oil from the bearing section 2 to the inside of an apparatus.例文帳に追加
排煙ファン5の正常運転時には、電磁弁7を閉じて、排煙ファン5により軸受油を負圧に保って軸受部2からの軸受油の漏れを防止し、排煙ファン5の故障などによる軸受油負圧異常時には、自動的に電磁弁7を開いて、軸受部2から機器内部への軸受油の漏れを防止する。 - 特許庁
To provide a process for producing a mask in which a mask blank having a black/white defect is not discarded but utilized, managing method, program and system of the mask blank for making it possible, and a process for fabricating a semiconductor device employing the process for producing a mask.例文帳に追加
黒/白欠陥が存在するマスクブランクスを廃棄せずに利用することを可能にするマスクの製造方法と、これを可能にするマスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラムおよびマスクブランクスの管理装置、並びに上記マスクの製造方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The superconducting film has a substrate and a superconductor layer formed on the substrate, and nano-grooves are formed on the surface of the substrate on which the superconducting layer is formed in parallel with the current flowing direction, and a planar crystal defect is introduced in the superconductor layer on the nano-groove.例文帳に追加
基板と該基板上に形成された超伝導体層とを有する超伝導膜であって、該超電導層が形成される基板表面に電流通電方向と平行にナノグルーブが形成されており、該ナノグルーブの上の該超伝導体層に面状結晶欠陥が導入されていることを特徴とする超伝導膜。 - 特許庁
To eliminate the danger that etching an LED element layer 2 may progress down to a contact layer (n) 105 directly beneath, and optimally sets the thickness of an etching stop layer 106 to prevent a lattice defect from occurring at the boundary between the etching stop layer 106 and the LED element layer 2.例文帳に追加
LED素子層2のエッチング処理中に直下のコンタクト層(n)105にまでエッチングが進行してしまう危険性を排除し、且つ、エッチング停止層106とLED素子層2との境界に格子欠陥が発生するのを未然に防止するために、エッチング停止層106の層厚を最適に設定する。 - 特許庁
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