「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an automatic defect classifying device for small automatic defects inspecting device by shortening a processing time necessary for inspecting and classifying the defects, and by reducing human intervention to a minimum, and an automatic defect inspecting device having the automatic defect classifying device.例文帳に追加

小型で、欠陥検査及び分類を通した処理時間を短縮させ、人間の介在を最小限に抑える、自動欠陥検査装置用の自動欠陥分類装置及び自動欠陥分類装置を備える自動欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate, with which fine dislocation defects or the like present in a source silicon carbide substrate can be sufficiently terminated and production of new micro-defects can be suppressed, and to provide a semiconductor substrate manufactured by using the method.例文帳に追加

原炭化珪素基板に内在する微細な転移欠陥等を十分に終端すると共に、新たな微細欠陥の発生を抑制することのできる半導体基板の製造方法およびそれによって製造される半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous casting method by which the defects on the below the surface in the vicinity of the center in the width direction of a cast slab are reduced without lowering the service life of a nozzle or increasing the defects on and below the surface in the vicinity of the edge parts in the width direction of the cast slab.例文帳に追加

ノズル耐用回数の低下や鋳片幅方向端部付近の表面ないし表皮下欠陥の増加を伴わずに鋳片幅方向中央付近の表面ないし表皮下欠陥を低減しうる連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stuck substrate manufacturing device capable of manufacturing a stable and high-quality stuck semiconductor substrate without generating defects such as voids, transfer defects and slips, and to provide a stuck substrate manufacturing method using the device.例文帳に追加

ボイド、転移欠陥、スリップ等の欠陥不良が発生せず、安定した高品位な貼り合わせ半導体基板を製造することのできる、貼り合わせ基板の製造装置及びこの装置を用いた貼り合わせ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To grow a very high quality, every high performance and large-size SiC single crystal with good productivity without causing crystal defects, micropipe defects or the like due to the influence of a contamination by impuri ties and thermal strain in the growth process.例文帳に追加

成長過程での不純物の混入及び熱歪みの影響による結晶欠陥やマイクロパイプ欠陥等の発生がなく、非常に高品質、高性能で、かつ、大型の単結晶ＳｉＣを生産性よく育成することができるようにする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor without image defects such as cleaning defects, filming, ghost images, and decrease in density, by using a specific stilbene compound as a charge transport material in combination with a polycarbonate resin having a specific structure.例文帳に追加

電荷輸送物質として特定のスチルベン系化合物を、特定構造のポリカーボネート樹脂と組み合わせて電子写真感光体に用いることにより、クリーニング不良、フィルミング、ゴースト、濃度低下等の画像欠陥のない電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive planographic printing plate material which ensures little sludge in development, good printing resistance, good suitability to coating with an oxygen intercepting layer, high sensitivity, and few image defects (coating defects), and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

現像スラッジが少なく、耐刷力が良好で、酸素遮断層の塗工性もよく、高い感度が得られ、画像欠陥（塗工欠陥）の少ない、優れた感光性平版印刷版材料及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Two species are implanted of which one is adapted to form defects and the other is adapted to occupy those defects, and the detachment is made at a temperature lower than that for which detachment could be obtained with solely the dose of the first species.例文帳に追加

２つの種が注入され、その一方は欠陥を形成するようになされ、他方はこれらの欠陥を占有するようになされ、上記分離が、上記第１の種の用量単独で分離が起こると予想される温度より低い温度で行われる。 - 特許庁

A defect classification processing section 222 classifies the defects, by what a position of the defect is included in which region of the defined regions with regard to defect data 133 (233) sampled from the defects obtained at a defect-reviewing device 10.例文帳に追加

欠陥分類処理部２２２は、欠陥レビュー装置１０で取得された欠陥からサンプリングしたサンプリング欠陥データ１３３（２３３）について、その欠陥の位置が前記定義された領域のどの領域に含まれるかによって、欠陥を分類する。 - 特許庁

To provide a plasma welding method of an aluminum alloy plate, capable of suppressing welding defects such as blow holes in welding parts, thereby obtaining an excellent welding joint without defects, even in the case of direct-current-plasma-welding the aluminum alloy plate.例文帳に追加

アルミニウム合金板材を直流プラズマ溶接する場合であっても、溶接部におけるブローホール等の溶接欠陥が抑制でき、欠陥の無い良好な溶接継手を得ることが可能なアルミニウム合金板材のプラズマ溶接方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control device that can improve tracking and focusing of an optical disc drive against defects by correcting errors in servo signals based on the tracking or focusing errors caused by the defects.例文帳に追加

光ディスク装置において、ディフェクトの影響により生成される誤ったトラッキングあるいはフォーカス誤差信号に基づく各サーボ信号を補正することで、ディフェクトに対してトラックあるいはフォーカス追従性能を向上させた制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TFT array inspection device which detects defects of a gate drive circuit on a substrate having two gate drive circuits in a TFT array region, even in the case that one of the gate drive circuits has the defects.例文帳に追加

１つのＴＦＴアレイ領域に２つのゲート駆動回路が設けられた基板においてゲート駆動回路の検査を行う場合において、いずれか一方のゲート駆動回路に欠陥がある場合でもゲート駆動回路の欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

Then, the number of pixels while defects continuously continue is counted, a count number when continuity ends is retained in the memory, and the previous start position and the count number are retained as image information of the defects and are written in a memory for performing transfer to a terminal PC.例文帳に追加

次に、欠点が連続して続く間の画素数をカウントし、連続性が途切れた時点のカウント数をメモリに保持し、先の開始位置と、このカウント数を欠点の画像情報として保持し、端末ＰＣへ転送するためのメモリに書き込む。 - 特許庁

To provide a defect detecting method which enables the easy distinguishment of stains from defects by solving the problem that it has been difficult to distinguish stains from defects by conventional defect detecting methods using light transmitted through a plate-like body and light reflected its surface.例文帳に追加

板状体を透過する光と表面で反射する光とを用いる従来の欠陥の検出方法では、欠陥と汚れの区別が困難であり、汚れと欠陥とを容易に区別することができる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which prepares a means for restricting a fact that micro-pipe defects in a substrate are inherited to an SiC film, decreases the micro-pipe defects, and comprises an SiC thin film having superior crystallinity; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

基板中のマイクロパイプ欠陥がＳｉＣ膜に引き継がれることを抑制する手段を講じ、マイクロパイプ欠陥が少なく、結晶性が良好なＳｉＣ薄膜を備えた半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a inspecting method of a semiconductor substrate surface for reducing defects therein that affect semiconductor integrated circuit device manufacturing quality, and to provide a method for manufacturing a semiconductor substrate that contains less defects.例文帳に追加

本発明は、半導体集積回路製造品質に影響する半導体基板表面の欠陥を低減するための半導体基板表面検査方法および欠陥の少ない半導体基板製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device inspection method which automatically specifies flaws, defects, or the like, of the back of a semiconductor substrate constituting a semiconductor device and can specify a semiconductor chip which corresponds to the flaws, defects, or the like.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体基板の裏面の傷や欠陥等を自動的に検出し、前記傷や欠陥等に対応する半導体チップを自動的に特定することができる半導体装置の検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a color filter manufacturing method and a defect removing apparatus for a color filter, capable of removing defects, irrespective of the kind and size of defects, and then, capable of manufacturing a color filter with sufficient yield.例文帳に追加

本発明は、欠陥の種類および大きさによらず除去することが可能であり、歩留まり良くカラーフィルタを製造することができるカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの欠陥除去装置を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a treating agent which is used to decrease the surface defects, so-called, defects, caught by a specific inspection apparatus relating to the resist patterns formed by using a chemical amplification type positive resist and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストを用いて形成したレジストパターンについて、特定の検査装置によりキャッチされる表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させるために用いられる処理剤、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a retreaded tire for an aircraft which can produce a retreaded tire for an aircraft capable of securely suppressing production defects and appearance defects, and to provide a mold for regeneration used when a retreaded tire for an aircraft is produced.例文帳に追加

製造不良及び外観不良を確実に抑制することができる航空機用更生タイヤを製造する航空機用更生タイヤ製造方法、及び、該航空機用更生タイヤを製造する際に使用される更生用モールドを提供する。 - 特許庁

A reflectance of light may be increased in the point defect in the case that the distance L is selected, and the optical resonator resonating light between the two point defects 14 and the optical reflector reflecting light with the two point defects 14 can be used.例文帳に追加

距離Lの選択によっては、点欠陥１４における光の反射率が増大し、２個の点欠陥１４間で光が共振する光共振器や、２個の点欠陥１４で光を反射する光反射器として用いることができる。 - 特許庁

To present only true defects to a user by inspecting the whole surface of the substrate of an object with uniform sensitivity so as to detect the true defects.例文帳に追加

パターン検査装置ではステージ走査を繰返して画像を取得し、検出した順に検出画像を記憶しておいた同一のパターンが期待できる場所同士の画像を比較して異なる場所を欠陥候補とし、２回欠陥候補となった場所を真の欠陥とする。 - 特許庁

To provide an electromagnetic ultrasonic flaw detection method and an electromagnetic ultrasonic flaw detection apparatus for measuring defects with an improved S/N ratio and setting a high evaluation even if reflection waves by separate defects spread in the direction of a time axis in ultrasonic flaw detection using an electromagnetic ultrasonic sensor.例文帳に追加

電磁超音波センサを用いた超音波探傷において、単独の欠陥による反射波が時間軸方向に広がっていてもＳＮ比良く欠陥の測定と評価が得られるようにした超音波探傷方法と装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for a charge generating layer having high sensitivity, little image defects and excellent stability of the potential during continuous printing and to provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity, little image defects and excellent stability of the potential during continuous printing.例文帳に追加

高感度で、画像欠陥が少なく、連続印刷時の電位の安定性が優れた電荷発生層用組成物及び高感度で、画像欠陥が少なく、連続印刷時の電位の安定性が優れた電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

Because the secondary derivatives do not almost change the sum when the discharge defects occur, the sum when the discharge defects occur is the value closer to zero, and a difference from the time of the normal discharge when the secondary derivatives greatly change before and after the inflection points clearly appear.例文帳に追加

吐出不良発生時の二次導関数はほとんど変化しないため、吐出不良発生時の総和は０に近い値となり、変曲点前後で二次導関数が大きく変化する正常吐出時との差が明確に現れる。 - 特許庁

To provide a method for correcting projection defects to efficiently correct projection defects and to provide a light diffusing member and a transfer film to be used for a diffusing reflector or the like having preferable reflection characteristics obtained by the above method for a reflection type LCD.例文帳に追加

突起欠陥を効率良く修正する突起欠陥の修正方法を提供し、それにより得られる良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等に使用される光拡散部材、転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting defects of a welding gun for a capacitor discharge type stud welding, enabling visual capturing, being capable of carrying out data inspection and being capable of exactly detecting defects in action of the welding gun, and also to provide a defect detection device.例文帳に追加

視覚的に捉えることができ、データ的点検が可能で、しかも正確に溶接ガンの作動良否の判定を行うことができるコンデンサ放電型スタッド溶接用溶接ガンの良否判定方法及び良否判定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a retorted Oden (Japanese hotchpotch) free from characteristic defects caused by retort treatment such as the deterioration of the physical properties of the ingredients, the generation of retort odor and the browning while keeping the characteristic taste of each ingredient and to provide a method for producing a retorted Oden while keeping the characteristic taste of each ingredient without generating the above defects caused by the retort treatment.例文帳に追加

本発明は、レトルト処理により生じる特有の欠点、すなわち具材の物性劣化、レトルト臭の発生、褐変などを解消し、さらに各具材の味の個性を生かした、レトルトおでんを提供することを課題とする。 - 特許庁

An apparatus (100) for evaluating defects in a membrane includes evaluating means (40, 50) for, in a sample (10) obtained by putting metal material on a membrane formed on a substrate, evaluating defects in the membrane based on the state of permeation of the metal material in the membrane.例文帳に追加

膜欠陥評価装置（１００）は、基材上に形成された膜上に金属材料が配置された試料（１０）において、膜における金属材料の透過状況に基づいて膜の欠陥を評価する評価手段（４０，５０）、を備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a DRAW type optical disk substrate which is formed by using a transesterification process polycarbonate, is little in the warpage of the substrate, small in the birefringence of the substrate, free of bright defects and free of defects in dye coating application, and method of manufacturing the DRAW type optical disk substrate.例文帳に追加

エステル交換法ポリカーボネートを使用した、基板の反りが小さく、基板の複屈折が小さく、明欠陥がなく、色素塗布不良がない迫記型光ディスク基板の製造方法及び迫記型光ディスクの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having a developing device including a developer supply mechanism configured to be capable of avoiding deterioration in picture quality, such as "fogging", "black-spot defects", and "void defects", due to a toner aggregate and achieving cost reduction and space saving.例文帳に追加

トナー凝集体を起因とする「かぶり」、「黒点欠陥」、「白抜け欠陥」等の画質劣化を回避できる、低コスト、省スペース化を達成できる構成の現像剤供給機構を配備した現像装置を有する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Further, by regulating an electron emission part with the second interlayer insulation layer 15, defects unevenly existing at a boundary between an electron accelerating layer (a tunnel insulation film 12) and a first interlayer insulation layer 14 are covered, so that, temporary dielectric breakdown defects are restrained.例文帳に追加

さらに、電子放出部を第二層間絶縁膜１５で制限することにより、電子加速層（トンネル絶縁膜１２）と第一層間絶縁層１４の境界に偏在する欠陥を被覆して、経時的な絶縁破壊不良を抑止する。 - 特許庁

The number of defects on the surface (film forming surface) of a quartz substrate 11 to be used for the manufacture of a photomask blank is measured by use of a surface inspection device to obtain the number of defects having a predetermined size (such as a diameter of 0.1 to 0.5 μm) on the film forming surface.例文帳に追加

フォトマスクブランクの製造に用いる石英基板１１の表面（成膜面）の欠陥数を表面検査装置を用いて計測し、成膜面上の所定のサイズ(例えば、直径０．１〜０．５μｍ)の欠陥数を求める（基板検査工程）。 - 特許庁

In addition, a peak filter 88, which is placed in a control loop 72, detects the defects 18 of the spindle bearing 12 by detecting the amplitude of a control loop control signal near the impairment frequency related to the defects of the spindle bearing 12.例文帳に追加

さらに、コントロール・ループ７２に設置されたピーク・フィルタ８８は、スピンドル軸受１２の欠陥に関連した外乱周波数の近くのコントロール・ループ制御信号の振幅を検出することによりスピンドル軸受１２の欠陥１８を検出する。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus making highly accurate surface defect inspections without being affected by white defects constantly generating prescribed luminance or greater or white defects having variable luminance and gradually increasing luminance.例文帳に追加

恒常的に所定以上の輝度を発生する白傷ばかりでなく、輝度が変動したり、徐々に輝度が大きくなったりする白傷の影響を受けることなく、精度の高い表面欠陥検査を行うことができるような表面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide semiconductor manufacturing apparatus which can considerably reduce defects of semiconductor substrates by effectively preventing a phenomenon in which semiconductor substrates are warped during processes or mechanical defects such as a slip even when the semiconductor substrates are treated at a high temperature.例文帳に追加

大径の半導体基板が高温で処理されても半導体基板が工程中に湾曲される現象やスリップなどの機械的な欠陥を効果的に防止できて半導体基板の欠陥を大いに低減できる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a release polyester film causing no defects derived from film surface asperities such as pinholes on a green sheet involving the film and capable of preventing occurrence of defects on such a green sheet due to flaows or shaving which may occur in the green sheet's production or processing line.例文帳に追加

グリーンシートにフィルム表面突起由来のピンホール等の欠点を発生させず、かつ製造工程や加工工程で発生する傷や削れに起因するグリーンシートの欠点の発生を抑制することができる離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition which can reduce the number of LPD (light point defects) caused by polishing in the surface of an object to be polished after carrying out polishing by using a composition for polish, and a polishing method using the polishing composition.例文帳に追加

研磨用組成物を用いて研磨した後の研磨対象物表面における研磨加工に起因するＬＰＤ（light point defects）の数を低減することが可能な研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold releasing polyester film wherein defects such a pinhole and the like derived from a film surface projection are not generated in a green sheet, and generation of defects of the green sheet caused by flaws and a working process can be suppressed.例文帳に追加

グリーンシートにフィルム表面突起由来のピンホール等の欠点を発生させず、かつ製造工程や加工工程で発生する傷や削れに起因するグリーンシートの欠点の発生を抑制することができる離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and method capable of easily searching for defects when reviewing the defects detected from the plane to be inspected of a body to be inspected such as a semiconductor wafer by an observing device such as a scanning microscope.例文帳に追加

半導体ウェーハ等の被検査体の被検査面から検出した欠陥を走査型顕微鏡等の観察装置によってレビューする際に欠陥の探索を容易に行うことができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for mending defects capable of surely mending woody materials while detection or mending of defects not followed by a loss of thickness of a surface of the woody material is automatically carried out and a natural condition is kept without unnatural feeling.例文帳に追加

木質材表面の肉の欠損を伴わない欠陥の検出ないし補修を自動的に、かつ違和感なく自然な状態を保ちながら、しかも確実に補修することができる欠陥補修装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the case of Kobac Engineering, its customers often perform additional processing, such as painting, after products are delivered to the customer. Often, if defects occurred during the additional processing, all the products would be returned to Kobac Engineering, regardless of the cause of the defects.例文帳に追加

同社の場合、製品を販売先に引き渡した後、販売先が塗装・加工などの追加加工を行うことが多いが、追加加工の工程で不良が発生した場合、不良原因にかかわらずすべて同社に返品される場合が多かった。 - 経済産業省

To provide a liquid crystal display element using a ferroelectric liquid crystal, in which mono-domain alignment of the ferroelectric liquid crystal is achieved without causing zigzag defects, hairpin defects, and alignment defects such as double-domain, and this alignment is maintained even if the temperature exceeds the phase-transition point, and which is excellent in the alignment stability.例文帳に追加

本発明は、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、ジグザグ欠陥、へアピン欠陥やダブルドメイン等の配向欠陥が形成されることなく強誘電性液晶のモノドメイン配向を得ることができ、相転移点以上に昇温してもその配向を維持することができる配向安定性に優れた液晶表示素子を提供することを主目的とする。 - 特許庁