「Distribution Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

An image is scanned sequentially in a horizontal direction, then a histogram having a line segment length by measuring each length and the number of line segments which are continuous in a scan (vertical or horizontal) direction is produced after each pixel is binarized, then feature amount such as radius etc. is calculated from the histogram and probability distribution of each line segment length of each image pattern to be measured.例文帳に追加

画像を順次横方向に走査し、画素を２値化して走査（縦または横）方向に連続する線分の長さおよび個数を計測して線分長のヒストグラムを作成し、このヒストグラムおよび計測する画像パターンの線分長の確率分布から、半径などの特徴量を算出するようにした。 - 特許庁

The mask is equipped with a light absorption layer having light absorption characteristics appropriate for light intensity distribution with inverted peak pattern, a light scattering layer having light scattering characteristics, a light reflection layer having light reflection characteristics, a light refraction layer having light refraction characteristics, or a light diffraction layer having light diffraction characteristics.例文帳に追加

マスクは、逆ピークパターンの光強度分布に応じた光吸収特性を有する光吸収層、光散乱特性を有する光散乱層、光反射特性を有する光反射層、光屈折特性を有する光屈折層、または光回折特性を有する光回折層を備えている。 - 特許庁

To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

To facilitate vapor deposition for forming a main reflection face, to reduce the thickness of a module as a whole, to secure an expanded light emission area per an LED, and to effectively use light in the acquisition of a desired light distribution pattern as vehicle signal light.例文帳に追加

主反射面を形成するための蒸着が容易であると共に、モジュール全体の薄型化が可能であるばかりでなく、ＬＥＤの１個当たりの拡大した発光面積を確保することができると共に、車両信号灯としての所望の配光パターンを得るときの光の有効利用をも図ることができること。 - 特許庁

An information aquiring system for fetching information on the shape, pattern, temperature distribution, etc., of an object from the object is provided with a sensor 14 for detecting a relative positional relation with the object and a setting supporting means 20 for guiding setting of a fetching object range in accordance with the output D2 of the sensor 14.例文帳に追加

対象物からそれがもつ形状、模様、温度分布などの情報を取り込む情報取得システムにおいて、対象物との相対位置関係を検出するセンサ１４と、センサ１４の出力Ｄ２に応じて取込み対象範囲の設定を案内する設定支援手段２０とを設ける。 - 特許庁

The crystallization apparatus forming the crystalline semiconductor film is equipped with a lighting system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that light is reduced to a minimum in intensity at a point corresponding to the phase shifting part of the phase-shifting mask.例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加

基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁

Thereby, a low beam light distribution pattern P is formed such that a horizontal cutoff line CL1 on the oncoming lane side formed by reflected light from its own lane side reflective area 20aR is lowered relatively to a horizontal cutoff line CL2 on its own lane side formed by reflected light from an oncoming lane reflective area 20aL.例文帳に追加

これにより、対向車線反射領域２０ａＬからの反射光により形成される自車線側の水平カットオフラインＣＬ２に対して、自車線側反射領域２０ａＲからの反射光により形成される対向車線側の水平カットオフラインＣＬ１が段下がりとなったロービーム配光パターンＰを得る。 - 特許庁

To provide a resin having a uniform composition distribution, to provide a production method for supplying the same in excellent reproducibility, to provide a positive type photosensitive composition having an improved resist performance (LER (line edge roughness), further exposure latitude) by a positive type photosensitive composition containing the resin and to provide a method for forming a pattern, using the same.例文帳に追加

組成分布が均一な樹脂、およびそれをを再現性良く供給できる製造方法を提供し、さらに、それを含有するポジ型感光性組成物によってレジスト性能（ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）・露光ラチチュード）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

The signal intensity of a pixel is acquired while changing the size of a spot recognizing region and a spot recognizing parameter is calculated from the mean value and average value of a signal intensity distribution while a pattern changed in the spot recognizing parameter according to a change in the size of the spot recognizing region is used to recognize the spot image.例文帳に追加

スポット認識領域のサイズを変化させながら画素のシグナル強度を取得し、シグナル強度分布の中央値及び平均値からスポット認識パラメータを計算し、スポット認識領域のサイズの変化に従がって前記スポット認識パラメータが変化するパターンを用いて、スポット画像を認識する。 - 特許庁

In the lithographic equipment, in which each of an individually controllable elements provides a pattern to beam of radiation 6 respectively, then the beam is projected on a substrate 9, a detector 20 for detecting intensities of radiation measures the loss of radiation in a radiation distribution system 7, determines the amount of loss, and feeds back the information to a compensating system.例文帳に追加

個々に制御可能な素子のそれぞれは放射のビーム６にパターンを付与し、その後ビームが基板９上に投影されるリソグラフィ装置であって、放射線強度の検出器２０は放射分配システム７における放射の損失を測定し、損失量を決定し、この情報を補償システムにフィードバックする。 - 特許庁

To provide a vehicle head lamp device with a lighting fixture unit whose light source is a discharge lamp, which can form a light distribution pattern for a low beam without hindrance utilizing instant lighting property of a semiconductor light emitting element, even in case that power control or the like is not employed for shortening a starting time of the discharge lamp after its starting.例文帳に追加

放電灯を光源とする灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、放電灯の起動後に始動時間を短縮するための電力制御等を行わなくとも、半導体発光素子の瞬時点灯性を利用してロービーム用配光パターンの形成に支障を来たさないようにする。 - 特許庁

The learning support program downloaded from a server 10 to each of the terminals 21, 22 by a distribution means 12 contains a program enabling acquisition of contents from the server 10 in response to requirement, display of the contents, acquisition of annotations from the server 10 in response to requirement, and selection operation of a display pattern of the contents and annotations.例文帳に追加

配信手段１２によりサーバ１０から各端末２１、２２にダウンロードされる学習支援プログラムには、サーバ１０からの必要に応じたコンテンツの取得と、コンテンツの表示と、サーバ１０からの必要に応じたアノテーションの取得と、コンテンツとアノテーションの表示パターンの選択操作とを可能とするプログラムが含まれている。 - 特許庁

To provide an alignment mark, a forming method of the alignment mark and the detecting method of the alignment mark by accurately detecting the edge part of the alignment mark by suppressing the asymmetry of the intensity distribution of a reflected signal caused by the difference of the thickness of a metal film formed on the side wall surface of a mark pattern.例文帳に追加

マークパターンの側壁面に形成される金属薄膜の膜厚の差に起因する、反射信号の強度分布の非対称性を抑制して、アライメントマークのエッジ部を精度良く検出することができるアライメントマーク及びアライメントマークの形成方法並びにアライメントマークの検出方法を提供する。 - 特許庁

A measuring surface S1 is scanned by an electron beam B2 and the detection of an electron beam back scattering diffraction pattern by a detection part 6 and the analysis of data D1 by a data processing part 9 are performed in relation to the respective pixels in the measuring surface S1 to obtain the two-dimensional distribution data K1 of a crystal orientation related to the measuring surface S1.例文帳に追加

電子ビームＢ２によって測定面Ｓ１を走査し、測定面Ｓ１内の各ピクセルに関して、検出部６による電子線後方散乱回折パターンの検出、及び、データ処理部９によるデータＤ１の解析を行うことにより、測定面Ｓ１に関する結晶方位の二次元分布データＫ１が得られる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.例文帳に追加

ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a fine vehicular lighting fixture structured so as to form a prescribed light distribution pattern by light radiation from a lighting fixture unit having a semiconductor light emitting element as a light source, and so as not to produce glare even if its surface shape goes around toward the rear side of a vehicle.例文帳に追加

半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用灯具において、その表面形状が後方へ回り込んでいる場合においても、グレアを生じることがない良好な車両用灯具を提供する。 - 特許庁

Thermal distribution 11 corresponding to a desirable pattern is given to a raw material substrate 10, which is formed by adding a second material composed of a catalyst metal such as iron (Fe) in a first material formed of a semiconductor of silicon (Si) with radiation of the energy beam 12 using a diffraction grating 13 to melt a surface of the raw material substrate.例文帳に追加

シリコン（Ｓｉ）などの半導体からなる第１の物質中に、鉄（Ｆｅ）などの触媒金属からなる第２の物質が添加された素材基板１０に対して、回折格子１３を用いたエネルギービーム１２の照射により所望のパターンに応じた熱分布１１を与え、素材基板１０の表面を溶融させる。 - 特許庁

The first reflection layer 32 and the second reflection layer 34 are formed by vacuum vapor deposition or sputtering, the light made incident from the translucent window 31 repeats total reflection on the first reflection layer 32, the second reflection layer 34 and the total reflection surface, illumination distribution is equalized and the light is emitted from the translucent pattern 33.例文帳に追加

第１反射層３２及び第２反射層３４は真空蒸着あるいはスパッタによって成膜され、前記透光窓３１から入射した光が、第１反射層３２、第２反射層３４及び全反射面で全反射を繰り返し、照度分布が均一化されて透光パターン３３より出射される。 - 特許庁

By using a control server computer 7 at this time to automatically compute a combination of the impressed voltage and the quantity of flow on the basis of a prescribed pattern table according to a measurement value of the ammeter 10 and creating optimum measuring conditions, it is possible to highly accurately measure the wide-range grain diameter distribution of the ion clusters in the atmosphere.例文帳に追加

このときコントロールサーバコンピュータ７を用いて、印加電圧と流量の組み合わせを電流計１０の測定値に応じた一定のパターンテーブルに基づいて自動的に演算し、最適な測定条件を生成する事により、大気中のイオンクラスタの広範囲な粒径分布を高精度に測定することができる。 - 特許庁

A signal processor 12 normalizes a strength distribution of measured three-kinds of image signals, calculates a change polarity and a change amount of light intensity signals of different polarized lights of a flaw to a normal part, compares the calculated change polarity and change amount respectively with a preliminarily set pattern, thereby discriminating types of flaws.例文帳に追加

信号処理部１２は測定した３種類の画像信号の強度分布を正規化し、正常部に対する疵部の異なる偏光の光強度信号の変化極性と変化量とを算出し、算出した変化極性と変化量とをそれぞれあらかじめ定めたパタ−ンと比較して疵種を判定する。 - 特許庁

The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵ４０は、ナビゲーションシステム１４４によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置１５０の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具２０Ｈを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁

Light which leaks from the side face of the light guide plate is interrupted by a light reflection pattern 220 formed on the light reflective surface of the light guide plate 200 for modification of brightness distribution and the prevention of a moire phenomenon so that an effective display region is not divided into a bright area IV, a boundary area and a dark area V.例文帳に追加

輝度分布の変更及びモアレ現象の防止のために導光板２００の光反射面に形成された光反射パターン２２０により有効ディスプレー領域が明るい領域IV、境界領域、暗い領域Ｖに分割されないように、導光板の側面から漏洩する光を遮断する。 - 特許庁

Then, the front-side surface 14a of the lens 14 is formed with a first free curved surface along a surface shape of a vehicle body 2, and thereafter its rear-side surface 14b is formed with a second free curved surface according to the first free curved surface, whereby the horizontally-long light distribution pattern is accurately formed.例文帳に追加

その際、レンズ１４の前方側表面１４ａを車体２の表面形状に沿った第１の自由曲面で構成した上で、その後方側表面１４ｂをこの第１の自由曲面に応じた第２の自由曲面で構成することにより、横長配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁

The projector type lamp unit has a pair of vertical cutoff lines CLv formed on both right and left sides of a lateral central region which is a dark region PA1a in an additional light distribution pattern PA1 by moving a variable shade of the lamp unit to a first light-shielding position located on the rear focal point surface of a projection lens.例文帳に追加

プロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、その可動シェードを投影レンズの後側焦点面に位置する第１遮光位置に移動させることにより、付加配光パターンＰＡ１において暗部ＰＡ１ａとなっている左右中央領域の左右両側に１対の上下カットオフラインＣＬｖを形成する。 - 特許庁

In such a condition where rotated second image patterns of various sizes include a first image pattern, the whole display area is divided into a plurality of predetermined divided areas, so that non-uniform distribution is adjusted, the image patterns are automatically created, and a variety of games are provided each time.例文帳に追加

このように、種々のサイズ、回転方向の第２の画像パターンの中に第１の画像パターンが混在する状況において、全体の表示領域を予め定められた複数の分割領域に区分することで、偏り具合を調整することを可能とし、自動生成され、毎回、バラエティに富んだゲームを提供することができる。 - 特許庁

The charged particle beam aligner for exposing a work to a pattern with a charged particle beam is characterized in that a region exposed en block has a maximum length of 1 mm or more on the work and the half- value width of an aperture angle distribution over the work is 1 mrad or less.例文帳に追加

荷電粒子線によってパターンを被露光物上に露光する荷電粒子線露光装置であって、一括露光する領域の大きさが、被露光物上で最大長が１mm以上とされており、かつ被露光物上での開き角分布の半値半幅が１mrad以下とされていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁

To provide an exposure mask, a designing method and a manufacturing method of the exposure mask, an exposure method and equipment, a pattern lithography method, a fabrication method of devices or the like by which mask constitution with electric field distribution peculiar to a near field considered is easily prepared without conducting complicated and a longer time simulation.例文帳に追加

複雑で、長時間を要するシミュレーションを行うことなく、近接場特有の電場分布が考慮されたマスク構成が容易に作製可能となる露光用マスク、露光用マスクの設計方法及び製造方法、露光方法及び装置、パターン形成方法、デバイスの作製方法等を提供する。 - 特許庁

Analysis areas for analyzing shading characteristic are set at a plurality of positions in the read image area of the test pattern (S15), histogram of an image signal in each analysis area is generated, and a gradation value corresponding to the predetermined percentage point of the histogram is obtained, and then distribution information showing the shading characteristics is generated (S44).例文帳に追加

テストパターンの読取画像領域内における複数の位置に、シェーディング特性を解析するための解析領域を設定する（S15）、各解析領域内の画像信号のヒストグラムを生成し、そのヒストグラムの所定パーセント点に対応する階調値を求め、シェーディング特性を示す分布情報を生成する（S44）。 - 特許庁

Since white streaks caused by "end kink" in the first recording element array C1 can be interpolated by the recording elements of the second recording element array SC2, streaks caused by "end kink" can be corrected effectively even if the recording rate distribution of mask pattern in multipass recording is not biased.例文帳に追加

これにより、第１の記録素子列Ｃ１で生じる「端部よれ」に起因する白スジを、第２の記録素子列ＳＣ２の記録素子によって補間することができるので、マルチパス記録のマスクパターンの記録率分布に偏りを持たせなくとも、「端部よれ」に起因する白スジを効果的に補正することが可能となる。 - 特許庁

By laminating and arranging an iris diaphragm mechanism constituted of a plurality of diaphragm blades and the ND filter having a multistage density pattern in one unit, the consecutive control of the f-number, the multistage control of a dimming rate by the ND filter, a nearly circular diaphragm aperture and the uniformity of transmittance distribution in the diaphragm aperture are simultaneously realized.例文帳に追加

複数の絞り羽根で構成される虹彩絞り機構と、多段階濃度パターンを有したＮＤフィルタを１ユニット内に積層配置し、Ｆナンバの連続制御、ＮＤフィルタによる減光率の多段階制御、略円形の絞り開口、絞り開口内の透過率分布一様性を同時に実現した。 - 特許庁

To provide a vehicular head light configured to form a predetermined light distribution pattern having a cutoff line on its upper edge by the light irradiation from a plurality of lighting fixture units, optical axes of which units are adapted to be collectively adjusted while the thickness reduction of the lighting fixtures are achieved without complicating the lighting fixture structure.例文帳に追加

複数の灯具ユニットからの光照射により、上端縁にカットオフラインを有する所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具の薄型化を図った上で、灯具構成を複雑化することなく、複数の灯具ユニットの光軸調整を一括して行えるようにする。 - 特許庁

This headlamp 10 for a vehicle includes a light source array 2 of arranging a plurality of light emitting elements 21, etc. in a plane shape, and a projection lens 3 for projecting the light emitted from the light source array 2 on the vehicle front, and a light distribution pattern of illuminating individual areas by the light emitting elements 21, etc. is formed in front of the vehicle.例文帳に追加

車両用前照灯１０は、複数の発光素子２１，…が平面状に配列された光源アレイ２と、光源アレイ２から出射された光を車両前方に投影する投影レンズ３とを備え、発光素子２１，…が個別の領域を照明してなる配光パターンを車両前方に形成する。 - 特許庁

The crystallization apparatus producing a crystalline semiconductor film is equipped with a lighting optical system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that it is reduced to a minimum intensity at a point corresponding to the phase-shifting part of the phase-shifting mask (1).例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

The apparatus comprises a sensor system for detecting the intensity distribution of the projection radiation pattern and an alignment system, capable of controlling such that the position and/or orientation of at least one of the array of plural elements, the components of the projection system, and the illumination system is adjusted on the basis of the detection result.例文帳に追加

装置は、投影放射パターンの強度分布を検出するセンサ・システム備え、その検出結果に基づいて複数のエレメントのアレイ、投影システムの構成要素及び照明システムのうちの少なくとも１つの位置及び／又は配向が調整されるように制御することができる位置決めシステムとを備える。 - 特許庁

The biometrics authentication apparatus 1 includes a light source 10, a detection part 11a, a transmittance distribution filter 11, a microlens array 12, a near-infrared ray transmitting filter 13, an imaging device 14, an image processing part 15, a pattern holding part 16, an authentication part 17, a light source driving part 181, an imaging device driving part 182 and a control part 19.例文帳に追加

生体認証装置１は、光源１０と、検知部１１ａと、透過率分布フィルタ１１と、マイクロレンズアレイ１２と、近赤外光透過フィルタ１３と、撮像素子１４と、画像処理部１５と、パターン保持部１６と、認証部１７と、光源駆動部１８１と、撮像素子駆動部１８２と、制御部１９とを備える。 - 特許庁

The distributed density mask comprises a plurality of masks formed for separate exposure regions, the exposure region of each of the masks has a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity distribution formed on the transparent substrate and each of the exposure regions is divided by unit cells of appropriate shape and size without leaving a gap.例文帳に追加

この濃度分布マスクは異なる露光領域ごとに作成された複数枚のマスクにより構成され、各マスクの露光領域は透明基板上に２次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、各露光領域は適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されている。 - 特許庁

In the light diffusing body, a light diffusing part, which is made of a foamed body foamed by impartation of radiation energy and thermal energy and in which air bubble density has a prescribed distribution pattern, is provided on a surface of a light translucent support or is held between light translucent supports and the light translucent support has UV absorbency.例文帳に追加

放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡密度が所定の分布パターンを有する光拡散部が透光性支持体の表面上に設けられているか、または透光性支持体で挟まれており、かつ該透光性支持体を紫外線吸収性とする。 - 特許庁

Accordingly, light L1 from light source bulbs 4T, 4S is reflected with an number color and a red color at a reflection surface when the light source bulbs 4T, 4S are lit, and reflection light L2T, L2S that are colored with umber color and red color are irradiated with a prescribed light distribution pattern to the outside through a lens 2.例文帳に追加

この結果、光源バルブ４Ｔ、４Ｓを点灯すると、光源バルブ４Ｔ、４Ｓからの光Ｌ１が反射面１１Ｔ、１１Ｓでアンバー色、赤色に着色されて反射され、アンバー色、赤色に着色された反射光Ｌ２Ｔ、Ｌ２Ｓがレンズ２を経て外部に所定の配光パターンで照射される。 - 特許庁

The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.例文帳に追加

カラーフィルター製造方法は：撮像素子１４の複数の光電変換素１２に対応して緑，青，赤色組成物によりネガ型膜１８を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁

This occupant detection system comprises the seating sensor 20 incorporated in the seat surface of a seat 1 and detecting the load distribution pattern of a load applied to the seat surface, an installation detection device 31 for detecting the installation of a seat belt 3 on the seat 1, and a used portion detection device 32 for detecting the used portion of the seat belt 30.例文帳に追加

この乗員検知システムは、座席１の座面に内蔵され座面にかかる荷重の荷重分布パターンを検出する着座センサ２０と、座席１におけるシートベルト３０の装着を検出する装着検出装置３１と、シートベルト３０の使用量を検出する使用量検出装置３２とを備えている。 - 特許庁

To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.例文帳に追加

エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁

When there are a plurality of specific normalized transient operation modes, a transient test is conducted for a transient operation mode having commonly a change pattern of control value of control factor included in a plurality of transient operation modes, and data are fetched with a limitation of data within distribution in a remarkable data region to form a transient engine model.例文帳に追加

所定の規格化された過渡運転モードが複数有るときには、これら複数の過渡運転モードに含まれる制御因子の制御値の変更パターンを共通に有する一つの過渡運転モードにより過渡試験を行い、着目すべきデータ領域の分布内のデータに限定してデータを取り込み過渡エンジンモデルを作成する。 - 特許庁