「Distribution Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

The headlight device for a vehicle 10 selectively forms a light distribution pattern among a plurality of them by selectively changing over light-shielding states of light irradiated from a bulb 30 and reflected by a reflector 32 with the use of a first shade 38 and a second shade 40.例文帳に追加

車両用前照灯装置１０は、バルブ３０から放射されリフレクタ３２で反射した光を第１シェード３８および第２シェード４０を用いて遮光状態を選択的に切り替えることにより複数種類の配光パターンの中からいずれかの配光パターンを選択的に形成する。 - 特許庁

Information transferees, required for transferring the information presented to the consumers side from the enterprise side and the information sent to the enterprise side from the consumers side and a stored program for smoothly promoting information transfers are converted into pattern information, printed on distribution objects, and distributed to consumers.例文帳に追加

企業側が消費者側に提示する情報、消費者側から企業側へ情報を伝達する際に必要となる情報の伝達先、情報の伝達を円滑に進める為の格納プログラムを、パターン情報に変換して配布物に印刷して消費者に配布する。 - 特許庁

Since a reflector 1 is divided into plural blocks in a radiating direction around a light source 2 and at least part of them are tilted inward by θ, the reflected light corresponding to the tilted blocks is diffused in a form separated from an optical axis X, so that the preferable light distribution pattern can be provided.例文帳に追加

リフレクタ１を光源２を中心とした放射方向で複数のブロックに分割し、そのうちの少なくとも一部を、θ分だけ内側に傾けたたため、傾けたブロックに相当する反射光は、光軸Ｘから離れた状態で拡散し、好ましい配光パターンが得られる。 - 特許庁

To clearly form a cut-off line and secure the sufficient amount of light in the vicinity of the cut-off line for enhancing the distant visibility, in a vehicle headlight that carries out low-beam irradiation in a light-distribution pattern having a prescribed cut-off line, even if the right-to-left width of its reflector is small.例文帳に追加

所定のカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行う車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもカットオフラインを明瞭に形成するとともにカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁

To provide a method and a device for inspecting patterns and a mask manufacturing device using thereof correcting effects to pattern inspection caused by polarization of intensity distribution due to beam shape, size, and optical axis deviation of an illumination light source illuminating a body to be inspected for obtaining a constantly stable inspection result.例文帳に追加

被検査体を照明する照明光源のビーム形状、サイズ、光軸ずれによる強度分布の偏りから生ずる、パターン検査への影響を補正して、常に安定した検査結果が得られるパターン検査方法とその装置およびそれを用いたマスク製造装置を提供すること。 - 特許庁

Main flash lamp groups 48A to 48D of a flash fixing unit 46 have light emission periods adjusted so that an area (overlap area) to be irradiated with main flash light having a small quantity of light may be irradiated twice with main flash light having a small quantity of light in the main light distribution pattern of the recording medium.例文帳に追加

フラッシュ定着ユニット46の主フラッシュランプ群48A〜48Dは、記録媒体のうち主フラッシュ光の配光パターンにおいて、低光量の主フラッシュ光が照射される領域(重複領域)には、低光量の主フラッシュ光が２回照射されるように発光周期が調整されている。 - 特許庁

The pattern recognition method for approximating distribution or class boundary of a vector group in a vector space based on a base function comprises defining a directive (not omnidirectionally symmetric) base function between two base vectors, and performing approximation by linear combination thereof.例文帳に追加

この発明は、ベクトル空間でのベクトル集合の分布やクラス境界を基底関数に基づいて近似するパターン認識方法において、２つの基底ベクトルの間に方向性のある（全方位に対称でない）基底関数を定義し、それらの線形結合で近似するものである。 - 特許庁

The emission position and the luminance level of each stripe of the emission phosphor are calculated from the picked-up image and the luminance distribution of the test pattern in units of stripes (luminescent-non- luminescent-luminescent parts) is calculated by rearranging the luminance levels, based on the light emission position and a display device 52 displays the result of calculation.例文帳に追加

撮像画像から発光螢光体の各縞における発光位置と輝度レベルとが算出され、その発光位置に基いて輝度レベルを並べ替えることでテストパターンの縞単位（発光−非発光−発光の部分）の輝度分布が算出され、その算出結果が表示器５２に表示される。 - 特許庁

In a pattern drawing device, an alignment mark on a substrate is captured at a low resolution for acquiring a target image, thus acquiring a plurality of target profiles, namely, the distribution of pixel values on a plurality of straight lines crossing a plurality of positions of each edge in the alignment mark in the target image.例文帳に追加

パターン描画装置では、基板上のアライメントマークが低解像度にて撮像されて対象画像が取得され、対象画像中のアライメントマークの各エッジの複数の位置を横断する複数の直線上の画素値の分布である複数の対象プロファイルが取得される。 - 特許庁

By using an element which can respectively set light intensity distribution emitted in the direction of giving parallax as a minimum unit constituting a pixel, pixels are arrayed nearly in the state of stripe or nearly in the state of matrix to form a three-dimensional pattern consisting of a (first) segment group.例文帳に追加

画素を構成する最小単位として、視差を持たせる方向に射出する光強度分布を個別に設定することが可能な素子を用い、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる３次元パターンを形成する。 - 特許庁

The light module (10) includes a light source (12), a primary optical system (18) for converging light, a secondary optical system (20) for projecting the converged light on a road surface as a light distribution pattern (202), and a shield unit (26) which is arranged in an optical path between the primary optical system (18) and the secondary optical system (20).例文帳に追加

ライトモジュール（１０）は、光源（１２）と、光を集光する一次光学系（１８）と、集光された光を配光パターン（２０２）として路面に投光するための二次光学系（２０）と、一次光学系（１８）と二次光学系（２０）との間の光路に配置されたシールドユニット（２６）とを含む。 - 特許庁

To provide an optical module capable of obtaining a desired light distribution pattern and a lighting fixture for illumination in the optical module in which an LED light source to carry out surface light emission is used, and a lens focal distance is equal or shorter against a light-emitting face size of the LED light source.例文帳に追加

面発光するＬＥＤ光源を使用した光学モジュールであってＬＥＤ光源の発光面サイズに対してレンズ焦点距離が同等若しくは短い光学モジュールにおいて、所望の配光パターンを得ることができる光学モジュール及び照明用灯具を提供する。 - 特許庁

And also, temperature/ stress/distortion are estimated from the inputted on-line measurement data by using temperature/stress distribution pattern matching, the lifetime is evaluated from the estimated temperature/stress/distortion and the characteristics of materials constituting the prime mover and the operation limit of the prime mover is judged/displayed on the basis of the evaluated lifetime.例文帳に追加

また、入力されたオンライン計測データから温度・応力分布パターンマッチングを用いて温度・応力・ひずみを推定し、これと原動機を構成する材料の特性とから寿命を評価し、これに基づき原動機の運転制限について判定・表示する。 - 特許庁

The image of a display pattern generator 102 is optically reduced and projected to the spatial optical modulator 101 having optical sensitivity by a multi-lens image-formation optical system 103, and a phase or amplitude distribution corresponding to a projected image group 104 is formed on an electrooptical medium.例文帳に追加

光感度を有する空間光変調器１０１に表示パターン発生器１０２の画像が多眼結像光学系１０３によって光学的に縮小投影され、この投影画像群１０４に対応した位相あるいは振幅分布が電気光学媒体に形成される。 - 特許庁

To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.例文帳に追加

車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

The image forming apparatus and the image forming method are characterized by controlling either the amount of affixed ink per unit area or a dot distribution pattern in an overlapping region in accordance with input gradation when the printing data are distributed into the nozzles in the overlapping region.例文帳に追加

オーバーラップ領域において、印字データを前記ノズルに分配するとき、入力階調に応じて、前記オーバーラップ領域の単位面積当たりのインク付着量及びドット分配パターンのいずれかを制御することを特徴とする画像形成装置、及び画像形成方法である。 - 特許庁

Besides, by arranging a variable transmissivity filter in the flash device 3 and changing the transmissivity distribution pattern stepwise in synchronism with the emission of the flash light, such risk can be prevented that the subject positioned at a close distance with reference to the camera 1 is overexposed by emitting light several times.例文帳に追加

また、フラッシュ装置３に透過率可変フィルタを設けてその透過率分布パターンをフラッシュ発光と同期させて段階的に変化させることにより、カメラ１から近距離に位置する被写体が複数回発光によって露出オーバーになってしまうのを防止できる。 - 特許庁

The distribution server controls a synchronous code of high efficiency coding to be included in a head packet of a set provided with a correction code packet without fail in matching with a pattern of attaching an error correction code packet for immunity to packet missing to a set of packets in a network in units of packets in compliance with the communication protocol.例文帳に追加

通信プロトコルのパケット単位でネットワークでのパケット欠落耐性用の誤り修正コードのパケットを付加するパターンに合わせて、修正コードパケットが付与される組の先頭パケットの中に、高能率符号化の同期コードが必ず含まれるように制御する。 - 特許庁

This vehicular headlamp is so structured as to be provided, between a projection lens 28 and a reflector 24, with a first shade 32 for forming the cut-off line as a shade for shading a part of reflected light from a reflector 24, and a second shade 34 for forming a dark part at a lower end center part of the light distribution pattern.例文帳に追加

投影レンズ２８とリフレクタ２４との間に、該リフレクタ２４からの反射光の一部を遮蔽するシェードとして、カットオフラインを形成するための第１シェード３２と、配光パターンの下端中央部に暗部を形成するための第２シェード３４とを備えた構成とする。 - 特許庁

An intensity component of a diffraction line generated by a specific crystal phase and a specific lattice plane index is separated from other background intensity components by numerical processing by using numerical data of the azimuth distribution of the diffraction line intensity acquired by the measurement processing or a diffraction pattern.例文帳に追加

この測定処理によって得られた回折線強度の方位分布又は回折パターンの数値化データを用い、特定の結晶相と特定の格子面指数によって生じている回折線の強度成分を、数値処理によってそれ以外の背景強度成分から分離する。 - 特許庁

By the two-dimensional code for representing information by a distribution pattern of cell dot D differently painted in a cell 2 and visual sense, logo marks for representing a character are superimposed and at least a part of a colored area of the cell dot is smaller than that of the cell.例文帳に追加

セル２に塗り分けられたセルドットＤの分布パターンにより情報を表現する二次元コードと視覚によりキャラクターを表現するロゴマークを重ね合わせるとともに、少なくとも一部の前記セルドットの着色面積はセルの面積よりも小さいことを特徴とする。 - 特許庁

If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.例文帳に追加

そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁

By rotating the movable reflector 6 on both sides horizontally, the light distribution pattern given from the movable reflector 6 moves towards the direction to be rotated and then the end part made to rotate warps upward because the rotating axis R of the movable reflector 6 is offset backwards than the luminous source center 4a.例文帳に追加

可動リフレクタ６の回転軸Ｒが、光源中心４ａよりも後方へオフセットしているため、可動リフレクタ６を左右に回転させると、可動リフレクタ６による配光パターンは、回転させた方向へ移動しながら、回転させた方の端部が上方へそり上がる。 - 特許庁

In a pattern drawing apparatus, the alignment mark on an object side of a substrate which is a drawing object is imaged on an image pick-up portion 15 via the optical system for drawing by the observation light with a wavelength different from that of the drawing light, and the alignment mark is memorized in a memory 31 as a mark image intensity distribution 311.例文帳に追加

パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。 - 特許庁

The light distribution pattern for the high beam is formed, by condensing the light from the LED 35 to the spot near the rear-focal point F of the projector 31, on the condition that the leading end edge 39a of the cutoff line forming member 39 be set relatively remote from the rear focal point F of the projector lens 31.例文帳に追加

カットオフライン形成部材３９の先端縁３９ａと投影レンズ３１の後方側焦点Ｆとを相対的に離した状態で、ＬＥＤ３５からの光を投影レンズ３１の後方側焦点Ｆ近傍に集光させることにより、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

The beam strength distribution of an irradiation pattern of the laser beam L to be irradiated on the overlapped plated steel sheets 1, 2 by cutting the center of the convex side of a condensing lens 15 inside a laser torch 10 concavely is set so that beam strength is made higher in the peripheral part than in the central part.例文帳に追加

レーザトーチ１０内の集光レンズ１５の凸面側中央を凹面状にカットして、重ね合せためっき鋼板１、２上に照射されるレーザビームＬの照射パターンのビーム強度分布を、中心部より周辺部の方でビーム強度が高くなるように設定する。 - 特許庁

The upper stage light source unit 20, the middle stage light source unit 40, and the lower stage light source unit 60 are provided in a lamp body 14 that is a light body through a support member 15, and light from the respective light source units 20, 40, 60 is superposed to form a low beam light distribution pattern in front of a vehicle.例文帳に追加

上段光源ユニット２０、中段光源ユニット４０、下段光源ユニット６０は、支持部材１５を介して灯体であるランプボティ１４に設けられており、各光源ユニット２０，４０，６０からの光が重ね合わせられて車両前方にロービーム配光パターンが形成される。 - 特許庁

An angle θ between the optical axis (z axis) of the object to be measured and the advancing direction of light (the extending direction of a straight line OP) and a far field pattern which is the distribution of light intensity P (θ, Ψ) of the measuring point P with respect to a rotation angle Ψ around the optical axis are obtained.例文帳に追加

測定結果より、被測定物の光軸（ｚ軸）と光の進行方向（直線ＯＰの延在方向）とのなす角度θ、および測定位置Ｐの光軸のまわりの回転角ψに対する光強度Ｐ（θ，ψ）の分布すなわちファーフィールドパターンが求められる。 - 特許庁

To provide a vehicle headlight with an actuator miniaturized and weight-saved and with luminance at irradiation effectively enhanced without adversely affecting on formation of a low-beam light distribution pattern, in a projector type one equipped with a movable shade.例文帳に追加

可動シュードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、すれ違いビーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、アクチュエータの小型軽量化を図ると共に、照射時の光度を効率よく高めることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

The lighting system of vehicles which lights forward a vehicle comprises a plurality of light sources each of which lights different area to form a predetermined light distribution pattern as a whole and a controller which figures out traffic scenes in which the vehicle runs and varies at least one of directions or intensity of the plural light sources independently to form target light distribution patterns preset dependently on the traffic scenes.例文帳に追加

車両の前方を照らす車両用照明システムは、それぞれが異なる照射領域を照らし、全体として所定の配光パターンを形成する複数の光源と、車両が走行する交通シーンを判断し、複数の光源の向き及び光量の少なくとも一方を光源毎に独立して変化させることにより、交通シーンごとに予め設定された目標の配光パターンを形成する制御部とを備える。 - 特許庁

A method for producing the polymer blend material comprises forming the light exposure pattern in two or more kinds of compounds selected from a group consisting of at least two kinds of monomers and/or polymers and simultaneously forming a phase separation structure in the light exposure pattern by irradiating these compounds with light having a light intensity distribution and carrying out oligomerization reaction of these compounds at reaction rate corresponding to the light intensity.例文帳に追加

また、本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のモノマーおよび／またはポリマーからなる群から選ばれる二種類以上の化合物に対して、光強度分布を有する光を照射して、上記光の強度に応じた反応速度で上記化合物を多量化反応させることにより、上記化合物に露光パターンを形成するとともに、上記露光パターン内に相分離構造を形成することにより製造することができる。 - 特許庁

The ultrasonic diagnostic therapeutic apparatus has a monitor for displaying a reference image obtained from volume data, a means of displaying a therapeutic beam pattern, which is superimposed on the position of the ultrasonic beam to be applied and which indicates the distribution of the ultrasonic intensity, on the reference image, and a means of displaying the reference image rotated around an arbitrary axis of the volume data together with the therapeutic beam pattern.例文帳に追加

ボリュームデータから得られるリファレンス像を表示できるモニタを備え、 治療用の超音波設定条件の入力により、前記リファレンス像上にて、これから照射しようとする超音波ビームの位置に重ねられかつ超音波強度の分布が示される治療用ビームパターンを表示する手段と、 前記リファレンス像は、前記治療用ビームパターンとともに該ボリュームデータの任意の軸の回りに回転させて表示できる手段と、を備える。 - 特許庁

A solder resist layer 42 is formed on the pad 31a and the distribution layer 31b to form a solder resist pattern 42a through patterning process and plating is effected on the pad 31a and the ball lands 31c to obtain a substrate 100 for semiconductor device having ball lands 51 and pad 52, on which a plating film is formed.例文帳に追加

パッド３１ａ及び配線層３１ｂ面にソルダーレジスト層４２を形成し、パターニング処理してソルダーレジストパターン４２ａを形成し、パッド３１ａ及びボールランド３１ｃ上にめっきを行い、めっき被膜が形成されたボールランド５１及びパッド５２を有する半導体装置用基板１００を得る。 - 特許庁

In a scanning probe microscope, such as a scanning tunnel microscope, one part of the layer 4 is selectively etched away by scanning the surface of the layer 4 with a probe 5 to make the layer 3 partially exposed, and a strain distribution to respond to the shape of the pattern of the layer 4 is formed on the surface of a sample.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡、例えば走査型トンネル顕微鏡において、プローブ５でＧａＡｓ層４の表面を走査することによりＧａＡｓ層４を選択的にエッチング除去してＩｎＧａＡｓ層３を部分的に露出させ、試料表面にＧａＡｓ層４のパターン形状に応じた歪分布を形成する。 - 特許庁

By enlarging the displacement of the fine displacement distance generated by the fine displacement generation part 46 by a displacement enlargement arm 44, the movable shade 38 is made stopped at an arbitrary position in the middle other than a complete advancing position or a complete retreating position to form an intermediate light distribution pattern corresponding to its stopped position.例文帳に追加

微細変位発生部４６により発生した微細変位距離の変位が変位拡大アーム４４により拡大されることによって可動シェード３８を完全進出位置及び完全退避位置以外の中間の任意の位置に停止させて、その停止位置に対応した中間配光パターンを形成する。 - 特許庁

The lamp unit 40 includes a reflector 47 to reflect direct light of an LED 25 arranged backward of a projection lens 45 to the front, and a shade 49 to form a cutoff line of the light distribution pattern by shielding one part of reflected light from the reflector 47 and one part of the direct light from the LED 25.例文帳に追加

灯具ユニット４０は、投影レンズ４５の後方に配置されたＬＥＤ２５の直接光を前方に反射させるリフレクタ４７と、リフレクタ４７からの反射光の一部及びＬＥＤ２５からの直接光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインを形成するシェード４９と、を備える。 - 特許庁

To establish a technology capable of making patterning materials uniformly distribute in a cast molding even when a large-sized patterning material is used, thereby obtaining an artificial marble with a large-sized color pattern of high quality excellent in design, deluxe feeling and natural feeling, and with less distribution of product strength.例文帳に追加

サイズの大きい柄材を使用した場合でも、注型成形体内に該柄材を均一分布させることができ、その結果として、色柄模様が大柄で意匠性、高級感および天然感に優れ、しかも製品強度のバラツキも少ない高品質の色柄模様付き人造大理石を得ることのできる技術を確立すること。 - 特許庁

A pedestal 24 loaded with an aircraft beacon light 12 is rotated continuously following a prescribed light distribution pattern of the aircraft beacon light 12 by a pedestal control part 34, and light from the aircraft beacon light 12 is received by a photodetection part 25, and illuminance or chromaticity is detected by a plurality of optical sensors arranged linearly.例文帳に追加

架台制御部３４により、航空標識灯１２の所定の配光パターンに従って航空標識灯１２を搭載した架台２４を連続的に回動させ、航空標識灯１２からの光を光検出部２５で受光し直線上に配置された複数の光センサで照度や色度を検出する。 - 特許庁

This is a production system which includes partially variations in presentation pattern by combination of a color material and illumination, and realizes a large color variation by preparing illumination light having a sharp peak of spectral distribution and by selecting and using the illumination light with the peak coinciding with a peak of spectrum reflectance of the color material and the one not coinciding.例文帳に追加

色材と照明の組合せによる表現パターンの変化を一部に含んでなる演出システムであって、照明光に鋭い分光分布のピークを持つものを用意し、そのピークが色材の分光反射率ピークと一致するものとしないものを選択して用いることで大きな色変化を実現する。 - 特許庁

Wave front distribution in the measurement optical system of the wave front sensor is calculated from the light reception results of each calibration pinhole pattern image PHI' and then the wave front aberration determined from light reception results of the CCD under a state where the entire surface of the measurement opening 46 is illuminated is corrected thus calibrating the wave front aberration measuring equipment.例文帳に追加

各較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’の受光結果から波面センサの測定用光学系における波面の分布を算出し、測定用開口４６の全面を照明した状態でのＣＣＤの受光結果から求めた波面収差を補正して、波面収差測定装置を較正する。 - 特許庁

A laser light source 20 emitting a prescribed laser beam LB, an illumination optical system 12 working the laser beam LB into illumination light IL having a uniform illuminance distribution and a projection optical system projecting the image of a pattern formed on a reticle on a wafer by the irradiation of illumination light IL are installed.例文帳に追加

所定のレーザ光ＬＢを出射するレーザ光源２０と、そのレーザ光ＬＢを均一な照度分布を有する照明光ＩＬに加工する照明光学系１２と、その照明光ＩＬの照射によりレチクル上に形成されたパターンの像をウエハ上に投影する投影光学系とを備える。 - 特許庁

By these respectively additional reflectors 20, when the mirror member 18 is at a second position (illustrated position), one part of light heading toward a reflecting face 16a of the reflector 16 from the light-emitting element 14 is shielded, and reflected forward toward an optical axis Ax side, and brightness increase of a hot zone of the light distribution pattern for the high beam is realized.例文帳に追加

そして、これら各付加リフレクタ２０により、ミラー部材１８が第２位置（図示の位置）にあるとき、発光素子１４からリフレクタ１６の反射面１６ａへ向かう光の一部を遮蔽して、これを前方へ向けて光軸Ａｘ寄りに反射させ、ハイビーム用配光パターンのホットゾーンの明るさ増大を図る。 - 特許庁

Intensity of light reaching a resist film on a solid sample has a value suitable even to an upper part and a bottom part of the solid by imparting a function of attenuating light to a liquid for immersion exposure, and a suitable exposure intensity distribution is then formed over the entire sample surface, thereby surely reducing formation of an abnormal pattern due to reflected light.例文帳に追加

液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上のレジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確実に低減できる。 - 特許庁

A density distribution mask 10 in which patterns 6 of a translucent film are provided on a transparent substrate 1, fine dot figures 4 of pattern of a light-shielding film are provided on the patterns 6 of the translucent film and a opening ratio W of gaps between the fine dots figures 4 is set as the square root of a light transmittance T is produced.例文帳に追加

透明基板１の上に半透光膜のパターン６を有し、前記半透光膜のパターン６の上に、遮光膜のパターンの微小網点図形４を有し、前記微小網点図形４間の間隙の開口率Ｗが光透過率Ｔの平方根に設定された濃度分布マスク１０を製造する。 - 特許庁

The two-dimensional code 11-15 is disposed with an article number information code Cd from which an article code is obtained as a reading result, and an RS code Ce from which an RS code for correcting an error of the article number code is obtained as a reading result inside an information code recording area 106 as a distribution pattern of a cell.例文帳に追加

二次元コード１１〜１５は、品番符号が読取り結果として得られる品番情報コードＣｄと、品番符号の誤りを訂正するためのＲＳ符号が読取り結果として得られるＲＳコードＣｅとを、情報コード記録領域１０６内にセルの分布パターンとして配置している。 - 特許庁