「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, an action start signal Sb is output to instruct the lighting of the LED 55 from the CPU 110 during an engine process (for example E1) which is before the engine processing (for example E2) which is the subject and the LED 55 has lighting started delayed only by a first set time t1.例文帳に追加

そのため、ＣＰＵ１１０からは対象となるエンジン処理（例えばＥ２）より先のエンジン処理（例えばＥ１）中にＬＥＤ５５の点灯を指示するべく動作開始信号Ｓｂが出力され、ＬＥＤ５５は、これから第一設定時間ｔ１だけ遅らせて点灯が開始される。 - 特許庁

In the crossover amount increasing process, a control section 50 seals a first anode sealing valve V1, opens a second anode sealing valve V2, increases a discharge rate of an oxidized gas blower P2, adjusts a valve-opening angle of a cathode valve V3 or closes it, and thus increases a cathode pressure.例文帳に追加

クロスオーバー量増大処理において、制御部５０は、第１アノード封止弁Ｖ１を封止し、第２アノード封止弁Ｖ２を開弁し、酸化ガスブロワーＰ２の吐出量を増大させると共にカソード弁Ｖ３の開弁角度を調整または閉弁してカソード圧力を増大させる。 - 特許庁

When an adsorption preparing process in step S10-S13 is completed and an absorber (tip of an air tube) pressure becomes constant, a shift signal for performing output determination on one side based on a first threshold for adsorption detection by a shift pressure is inputted from PLC into this pressure sensor 1.例文帳に追加

ステップＳ１０〜Ｓ１３の吸着準備工程が完了して吸着器（導気管の先端）が一定の圧力になると、ＰＬＣから圧力センサ１に、吸着検出のための第１しきい値に基づく一方の出力判定をシフト圧で行うシフト信号が入力される。 - 特許庁

The primary reforming processing is carried out successively, on the preliminary reforming process; second ion implantation is performed with energy higher than that of the first ion injection to reform the organic SOG film to the target depth; and thus a lower reformed SOG film 52d is formed below the upper reformed SOG film 52u.例文帳に追加

予備改質工程に続いて本改質工程が行われ、第１のイオン注入より高いエネルギーで第２のイオン注入を行い、目的深さまでの有機ＳＯＧ膜を改質して、上部改質ＳＯＧ膜５２ｕの下に下部改質ＳＯＧ膜５２ｄを形成する。 - 特許庁

This washing apparatus is provided with a first washing tank 1S for washing using a detergent containing an anionic or non-ionic surfactant, a second washing tank 2S for removing the surfactant using alkaline electrolytic water, and rinsing tanks 3S, 4S, 5S for performing rinsing process using pure water.例文帳に追加

アニオン系又は非イオン系の界面活性剤を含む洗浄剤を用いて洗浄を行う第一の洗浄槽１Ｓと、アルカリ性電解水を用いて界面活性剤を除去することができる第二の洗浄槽２Ｓと、純水を用いてリンス工程を行うリンス槽３Ｓ，４Ｓ，５Ｓを設ける。 - 特許庁

In the multistage bleaching process including ≥2 chlorine dioxide bleaching stages, bleaching efficiency of the final chlorine oxide bleaching stage is enhanced by treating pulp with an acid, subsequently carrying out the first stage of the chlorine dioxide bleaching stages at 80-110°C high reaction temperature and in acidic pH after finishing the reaction.例文帳に追加

二酸化塩素漂白段を２つ以上含む多段漂白工程において、パルプを酸処理した後、二酸化塩素漂白の初段を反応温度80〜110℃の高温で、且つ、反応終了後のpHが酸性で行うことにより、後段の二酸化塩素段の漂白効率を高めることができる。 - 特許庁

The measurement object 15 is configured to be tiltable, and adjustments of the levelness values or the tilt angles of the flat surface to be measured 15a in the two directions which are the longitudinal and cross directions relative to the process measurement surface 12, are shared on sides of the first support leg 13 and the second support leg 14.例文帳に追加

被計測部材１５を傾動可能に構成し、加工計測面１２に対する被計測平面１５ａの長手方向及び幅方向の２方向の水平度あるいは傾斜角度を、第１支持脚１３側と第２支持脚１４側とに分担して調整するように構成する。 - 特許庁

When either controlled object reaches a final teaching point after each controlled object has reached the destination teaching point simultaneously, the third process part instructs the controlled object that has reached the final teaching point first to wait until the other controlled object reaches a final teaching point.例文帳に追加

第３工程部は、各制御対象を移動目標教示点に同時に到達させた後、いずれか１の制御対象が最終教示点に到達したときは、残りの制御対象が最終教示点に到達するまで、先に最終教示点に到達した制御対象を待機させる。 - 特許庁

In order to correctly obtain effective absorption rate on a surface of a semiconductor substrate, an angular distribution of irradiation light intensity (angular intensity distribution) by a first light source used for calculation of the effective absorption rate is adapted to an angular intensity distribution by a second light source used for an annealing process.例文帳に追加

半導体基板の表面における実効吸収率を正確に求めるべく、当該実効吸収率の算出に用いる第１の光源による照射光強度の角度分布（角度強度分布）を、アニール処理に用いる第２の光源による角度強度分布に適合させる。 - 特許庁

The forming of a contact piece 25 becomes simple as the building of the piece 25 can be accomplished by one time bending process to form platelike member because the piece 25 which consists of a first piece part 23 and a second piece 24 which composes a fixed side terminal 21 of push button is formed roughly in the L shaped form.例文帳に追加

押釦スイッチの固定側端子２１を構成する接点片２５が、第１片部２３と第２片部２４とからなる略Ｌ字形に形成されているので、この接点片２５の形成を板状部材を１回曲げ加工することにより行え、接点片２５の形成が容易になる。 - 特許庁

At the time of forming a BPSG film in an atmospheric pressure CVD system 100, a settling process is performed at first such that TES gas, TMOP gas and TEB gas, among film deposition gases, are supplied at a high concentration to a dispersion head 152 and O_3 gas is not supplied to the dispersion head 152.例文帳に追加

常圧ＣＶＤ装置１００において、ＢＰＳＧ膜を形成する際、まず、安定化工程として、ディスパージョンヘッド１５２に対して、成膜ガスのうち、ＴＥＯＳガス、ＴＭＯＰガス、ＴＥＢガスを高濃度で供給し、Ｏ_3ガスについてはディスパージョンヘッド１５２に供給しない。 - 特許庁

A thermal oxidation process is carried out in a dry atmosphere, whereby a silicon oxide film 161 of thickness 3 nm is formed on the surface of the first region 11a of the silicon board 11, and a silicon oxide film 171 of thickness 6 nm is formed on the surface of a second region 11b of the silicon board 11 where no nitrogen ions are implanted.例文帳に追加

乾燥雰囲気中で熱酸化を行い、第１の領域１１ａのシリコン基板１１の表面には厚さ３ｎｍのシリコン酸化膜１６_1 が形成され、窒素イオンが注入されていない第２の領域１１ｂには厚さ６ｎｍのシリコン酸化膜１７_1 が形成される。 - 特許庁

Next, after the hard bias film 20 is magnetized in the height direction being orthogonal to the track width direction, processing for magnetization in the track width direction is performed at least once, the alternating electric field is applied with the same condition as the first time and the head output property is measured (second measuring process).例文帳に追加

次に、ハードバイアス膜20をトラック幅方向と直交するハイト方向に着磁した後、トラック幅方向に着磁する処理を少なくとも１回実行し、第１回目と同一条件で交番電界を印加してヘッド出力特性を測定する（第２回目の測定工程）。 - 特許庁

The gas separation device 50 is used for a film deposition system 10 provided with: a first vaporizer 40 where a liquid raw material L1 pressure-fed by an inert gas G1 is vaporized, so as to produce a gaseous starting material G2; and a process chamber 20 for performing film deposition using the gaseous starting material G2.例文帳に追加

ガス分離装置５０は、不活性ガスＧ１によって圧送される液体原料Ｌ１を気化して原料ガスＧ２を生成する第１の気化装置４０と、原料ガスＧ２を用いて成膜を行うためのプロセスチャンバ２０とを備える成膜装置１０に用いられる。 - 特許庁

To provide an image forming method which reduces residual potential, prevents a rise of residual potential due to repeated use, and can fully prevents a reduction of first-cycle charging without causing adverse effects on electrostatic characteristics or image quality, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

、残留電位の低減と同時に繰り返し使用による残留電位上昇を抑制し、静電特性あるいは画像品質に副作用を及ぼさずに、一周目帯電低下を十分に抑制できる画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor device including a pattern forming method forms a second thin film on the side wall of a first thin film, and carries out the high precision etch back of the tip of the second thin film formed on that side wall to align the tip according to a planarizing process so that the tip does not become uneven.例文帳に追加

パターン形成方法を含む半導体装置の製造方法として、第１の薄膜の側壁に第２の薄膜を形成し、その側壁に形成された第２の薄膜の先端部が不均一にならないように、平坦化法により、精度良くエッチバックして揃える。 - 特許庁

In the method for manufacturing the lithographic printing plate material using the plastics for a support, the winding directions of the support in a first winding round and a second winding round and thereafter, are opposite to each other, when an aging process is performed at least twice or more after coating and drying.例文帳に追加

プラスチックを支持体とする平版印刷版材料の製造方法において、塗布・乾燥後に少なくとも２回以上エージング処理を行う際、１度目と２度目以降で該支持体の巻き取り方向が反対であることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus, wherein a first seal member and a second seal member different in elasticity with each other are used and a developer is surely prevented from leaking from a gap between the seal members and a developer carrier in an opening of an enclosure.例文帳に追加

互いに弾性の異なる第１シール部材および第２シール部材を用いて、筐体の開口部における現像剤担持体との隙間からの現像剤の漏れを確実に防止することができる現像装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

By moving the first mold 3 during the process wherein the thermoplastic resin solidifies in the cavity 11, to the direction to enlarge the cavity volume and expanding the thermoplastic resin, the sound absorbing material 29 is obtained in which a sound absorbing layer 35 having a lower resin density is formed inside a skin layer 33 having a higher resin density.例文帳に追加

キャビティ１１内で熱可塑性樹脂が固化する過程で第１型３をキャビティ容積が拡大する方向に移動させて熱可塑性樹脂を膨張させることにより、樹脂密度の高いスキン層３３の内側に樹脂密度の低い吸音層３５が形成された吸音材２９を得る。 - 特許庁

A forming process of a resist film on a semiconductor wafer includes first step of coating a resist solution on the wafer, a second step of spreading the resist solution over the entire wafer and adjusting the film thickness to a prescribed level, and a third step of treating the wafer with the resist film by heat at a prescribed temperature.例文帳に追加

半導体ウエハへのレジスト膜の形成工程は、レジスト液をウエハに塗布する第１工程と、レジスト液をウエハ全体に拡げて所定の膜厚に調整する第２工程と、レジスト膜が形成されたウエハを所定の温度で熱処理する第３工程とを有する。 - 特許庁

This method for forming a three-dimensional structure includes a first process of dropping a liquid material with a structure-forming material dispersed or dissolved therein onto a substrate or an object arranged on the substrate, and drying a part or all of a solvent in the liquid material to form a dried body.例文帳に追加

本発明の立体構造物の形成方法は、構造物形成材料を分散または溶解させた液体材料を基板上または基板上に配置された物体に滴下し、液体材料の溶媒の一部または全てを乾燥させて乾燥体を形成する第１の工程を有する。 - 特許庁

A second frame-like recess 100c for the formation of liquid crystal sealing which surrounds the region where the cylindrical recesses 100b are formed, and a first frame-like recess 100d surrounding the second frame-like recess 100c for the formation of the sealing material between substrates are formed in the same process to obtain a plastic master plate 100 as an intaglio printing plate.例文帳に追加

また、円柱形凹部１００ｂの形成領域を囲む液晶封止材成型用の第２枠状凹部１００ｃと、この第２枠状凹部を囲む基板間シール材成型用の第１枠状凹部１００ｄとを同様に形成して、凹版としてのプラスチック版１００を得る。 - 特許庁

When the belt unit is attached to the apparatus body, the distance between the first and second rollers becomes long, and the tension is applied to the belt, so that the tension is not applied to the belt during the next process standby state when manufacturing the belt unit and a shipment standby state or the like, for example.例文帳に追加

ベルトユニットが装置本体に装着されると、第１、第２のローラ間の距離が長くなり、ベルトに張力が加えられるので、例えば、ベルトユニットの製造時における次工程待ち、出荷待ち等の間においては前記ベルトに張力が加わらないようにすることができる。 - 特許庁

Each process unit 16 detached from the main body casing 2 can be stably placed in a vertical state by having a first contact portion 48a brought into contact with an installation surface and can be stably placed in a horizontal state by having second contact portions 48b and 39 brought into contact with the installation surface.例文帳に追加

また、本体ケーシング２から取り外された各プロセスユニット１６は、第１当接部４８ａを載置面に当接させることにより縦置きの状態で安定して載置でき、第２当接部４８ｂおよび３９を載置面に当接させることにより横置きの状態で安定して載置することができる。 - 特許庁

The guide control part receives an input from the switching input part in a process where the paper sheet after transfer is discharged to the first paper discharge part to switchingly control the route switching guide so as to discharge one set of the paper sheets to the second paper discharge part (step S38).例文帳に追加

ガイド制御部は、上記第１の用紙排出部に転写後の用紙が排出されている過程で上記切換入力部からの入力を受けて、１セット分の用紙を上記第２の用紙排出部に排出するように上記経路切換ガイドを切換制御する（ステップＳ３８）。 - 特許庁

A base mast 12 is disposed on the side of a steel tower 1 in the process of construction, the base mast 12 is supported on the steel tower 1 using a first mast holder 35, and the middle part of a mast 21 elongated upward from the base mast 12 is supported on the steel tower 1 using second mast holders 51, 51.例文帳に追加

建設途中の鉄塔１の側方にベースマスト１２を配置し、このベースマスト１２を第１のマストホルダ３５を用いて鉄塔１に支持すると共に、ベースマスト１２から上方に伸長するマスト２１の途中部位を、第２のマストホルダ５１，５１を用いて鉄塔１に支持する構成とする。 - 特許庁

In a process of manufacturing the base material for the friction material where segment pieces 3 as part of the wet type friction material 1 are cut out, a step of forming paper making grooves in the surfaces with pressing or cutting work while making paper is first performed, whereby a groove depth can be precisely formed because a paper making body has no elasticity.例文帳に追加

湿式摩擦材１を構成するセグメントピース３が切り出される摩擦材基材の製造工程においては、まず抄紙しながらプレスまたは切削によって表面に抄紙溝を形成する工程が実施され、抄紙体は弾性がないため溝深さ等を精度良く形成できる。 - 特許庁

In the first process, a thrust plate 2F is inserted (a) using a dummy shaft 100 having an outside diameter some smaller than the nominal value of shaft diameter and a groove for generating dynamic pressure is carved (b) by applying a pressure to the end face of the thrust plate 2F using coining dies 102 and 103.例文帳に追加

第１の工程で、例えば正規の軸より外径が僅かに小さくされたダミー軸１００を用いてスラストプレート２Ｆを挿入し〔図２（ａ）〕、そのスラストプレート２Ｆの端面をコイニング金型１０２，１０３で加圧することにより動圧発生用の溝を刻設する〔図２（ｂ）〕。 - 特許庁

For the purpose of removing extremely smaller foreign matters than a component C, which are mixed in a component stored in a component storage case 10, in the alignment process by the first and second disks 24, 25 of a component alignment section 20, a groove 26e is arranged in a movable plate 26 that counters the second disk 25.例文帳に追加

部品収納ケース１０に収納された部品Ｃに混入している該部品Ｃよりも極めて小さな微小異物を、部品整列部２０の第１，第２ディスク２４，２５による整列過程で取り除くための溝２６ｅを、第２ディスク２５と向き合う可動プレート２６に設けた。 - 特許庁

Specifically, in the power supplying port determining process, first the minimum necessary number of the power supplying ports upon testing is determined based on the power consumption information, and the minimum necessary number of the power supply bumps are determined from among the plurality of power supply bumps as the power supplying ports upon testing.例文帳に追加

詳細には、電源供給口決定工程では、まず、消費電力情報に基づいて試験時の電源供給口の必要最小数が求められ、複数の電源バンプの中から必要最小数の電源バンプが試験時の電源供給口として決定される。 - 特許庁

The image forming apparatus oscillates an oscillation arm 130 in a direction to separate from an LED unit 40 as the front end 45D of a guide part 45 contacts to a door-opening contact part 134 to slide contacting on a first slope 137 in the process that the LED unit 40 is attached.例文帳に追加

画像形成装置は、ＬＥＤユニット４０が装着される過程において、案内部４５の前端部４５Ｄが開扉当接部１３４に当接して第１傾斜面１３７上を摺接することで、揺動アーム１３０をＬＥＤユニット４０から離間する方向に揺動させる。 - 特許庁

In the process of sealing after a liquid crystal is injected, after the sealing material is applied on the injection port in a pressurized state, first pressure reduction is carried out to suck the sealing material into the inside of the injection port, then the sealing material is hardened and then the whole pressure is released by second pressure reduction.例文帳に追加

液晶注入後の封止を行う工程において、加圧状態にて封止材を注入口部分に塗布した後、第１の減圧を行って前記封止材を注入口内に引き込み、その後、前記封止材を硬化させた後、第２の減圧により加圧を全解除する。 - 特許庁

An SiO_2 film 48A is formed by a sputtering process on the surface of a first plate 34 before forming a nozzle for discharging a liquid droplet, then a fluorine-based water repellent film 48B is formed on the SiO_2 film 48A by a vapor deposition method and polymerized by heat to form the water repellent layer 48.例文帳に追加

液滴を吐出するためのノズルを形成する前の第１のプレート３４表面に、スパッタ法でＳｉＯ_２膜４８Ａを形成し、このＳｉＯ_２膜４８Ａの上にフッ素系撥水膜４８Ｂを蒸着法で形成した後、加熱により重合処理して撥水層４８を形成する。 - 特許庁

In an arrangement process, a plurality of divided cores 4 rotatably connected and constituting a stator core are linearly arranged so that a plurality of teeth 4b are parallel with each other, and first and second melted vibration attenuating members 11, 12 are arranged between the teeth 4b wounded with a coil 9.例文帳に追加

配置工程において、回動可能に連結されステータコアを構成する複数の分割コア４を、複数のティース４ｂが平行となるように直線状に配置し、コイル９が巻装されたティース４ｂ間に、溶融した第１及び第２の振動減衰部材１１，１２を配置する。 - 特許庁

In a method for producing a reinforcing fiber sheet 1, first, screen process printing is applied to a cloth layer 13 comprising a longitudinal belt body 11 and a lateral belt body 12 which are the aggregates of numbers of reinforcing fibers, and the reinforcing fibers are bonded together to prevent the cloth layer 13 from coming loose.例文帳に追加

本発明に係る強化繊維シート１の製造方法は、まず、多数の強化繊維の集合物である縦帯体１１と横帯体１２からなるクロス層１３に対してスクリーン印刷を行い、強化繊維同士を互いに接合し、クロス層１３がほどけないようにする。 - 特許庁

A conductive film is processed in a first etching process, and thinned by reprocessing using light ashing, the conductive film is thinly reprocessed, and at the same time, an exposed portion of an insulating film is etched away in the film thickness direction, thereby forming a step on the insulating film, and implanting impurity ions into the semiconductor layer by an ion implantation.例文帳に追加

第１のエッチング工程で導電膜を加工し、ライトアッシングして細く再加工し、導電膜を細く再加工するとともに露出していた部分の絶縁膜を膜厚方向に削り、絶縁膜に段差を作り、イオン注入で不純物イオンを半導体層に注入する。 - 特許庁

In a first winding process, a vertical feed motor 20 is driven rotationally so as to move a vertical feeding device 19, and thus the nozzle 3 is passed between a pole portion (a), where a wire is to be wound and an adjacent pole portion (a), and the tip of the nozzle 3 is moved in the direction of the thickness of a core C.例文帳に追加

第一の巻線工程において、上下送り用モータ２０を駆動回転させ、上下送り装置１９を移動させると、ノズル３が巻線すべき極部ａ及びそれに隣接する極部ａの間を通り抜けるようにして、ノズル３の先端部がコアＣの厚み方向に移動する。 - 特許庁

When producing the curly noodle, a waving box is adopted and noodle is received by a first-step slow conveyer and transferred to a second-step belt conveyer operated at a speed of about 3 times and clearly separated for each meal at a same time and then, automatic packaging of the noodle in the next process can be carried out.例文帳に追加

また、縮れ麺を製造する際にはウェーブボックスを採用し、まず１段目の遅いコンベアで麺を受け取り、約３倍の速度で運転する２段目のベルトコンベアに乗り移ると同時に、一食毎にはっきりと分離し、次行程での自動包装も可能となった。 - 特許庁

In a third process, a pawl member is inserted into a space between the opposite part of the second substrate and the terminal of the first substrate (a step A30), and the pawl member is moved in a direction including components of a direction vertical to an extension direction of the groove (a step A40).例文帳に追加

さらに、第三工程では、前記第二基板の前記対向部と前記第一基板の前記端子との隙間に爪部材を挿入し（ステップＡ３０）、前記溝の延在方向に対する垂直方向の成分を含む方向に前記爪部材を移動させる（ステップＡ４０）。 - 特許庁

To perform, with a computer, integral operations on an integrated function that is defined by a first variable whose values are given at every calculation time and a second variable to which only an initial value is given, and to calculate a value of the second variable to be used at each calculation time, the following process is performed.例文帳に追加

全ての計算時刻について値が与えられる第１の変数と、初期値のみが与えられる第２の変数とで定義される被積分関数に関する積分演算をコンピュータで実行し、各計算時刻で使用する前記第２の変数の値を算出するために、以下の処理を実行する。 - 特許庁

Alternatively, a means for adjusting the pressure or flow rate of the high-pressure fluid is provided in the process, before the high-pressure fluid is allowed to flow through the membrane filter 52 and a first bypass line 16 is provided to the pressure or flow rate adjusting means.例文帳に追加

または、前記高圧流体を前記メンブレンフィルタ５２に流通させる前の工程で、前記高圧流体の圧力または流量を調整する手段を有し、前記の圧力または流量を調整する手段には第１バイパスライン１６が設けられていることよりなる。 - 特許庁

Whether there is any electronic component that belongs to the first group and has not been mounted in the execution of the scheduled mounting sequence is judged, and if there is such a component, a recovery process is performed to additionally mount those electronic components unmounted (ST5).例文帳に追加

実装開始後には、先行順位の第１のグループから順にグループ単位で実装し、予定実装シーケンスが終了したならば、第１のグループに属する電子部品であって予定実装シーケンスにおいて実装されなかった未実装部品の補充実装を行うリカバリ処理を行う。 - 特許庁

This manufacturing method of the ferroelectric capacitor for which a first electrode 20, a ferroelectric film 30 and a second electrode 22 are laminated is provided with the process of forming a functional thin film (self-organizing film 32a) beforehand, in a region where at least the material of the ferroelectric film is deposited.例文帳に追加

第１電極２０、強誘電体膜３０および第２電極２２が積層された強誘電体キャパシタの製造方法であって、少なくとも強誘電体膜の材料が堆積される領域に、あらかじめ機能性薄膜（自己組織化膜３２ａ）が形成される工程を含む。 - 特許庁

First, insulating films 10 and 11 between the electrodes and an insulating film 12 are formed between transfer electrode-shadowing films by patterning the insulating material layer at the identical process using a common mask on a substrate 1, and the mutual position of the transfer electrode 4 and a photodetecting receiver 3 is decided.例文帳に追加

まず、基板１上に電極間絶縁膜１０および１１と、転送電極−遮光膜間絶縁膜１２とを、共通のマスクを用いた同一工程で絶縁材料層をパターニングして形成し、転送電極部４と光電受光部３の相対位置を確定する。 - 特許庁

In addition, this process of forming the polymer structure 32 is carried out while potentials of a signal wire 15 and a counter electrode 22 are properly adjusted to put an equipotential line EQ to be generated in the liquid crystal layer 30 between a pixel element electrode 12 on a first substrate 10 and the signal wire 15.例文帳に追加

さらに、ポリマー構造物３２を形成する工程は、液晶層３０内に生成される等電位線ＥＱが第１基板１０の画素電極１２と信号配線１５との間に落ち込むように、信号配線１５および対向電極２２の電位が調整された状態で行われる。 - 特許庁