「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(98ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for manufacturing a sealing substrate and a process for manufacturing an organic EL panel which, in the case where an organic EL panel is manufactured by multiple panel formation, suppresses a deviation between a formation position of an organic EL element formed on a first substrate and formation positions of individual housing parts formed on a sealing substrate, and can improve the yield of an organic EL panel.例文帳に追加

多面取りによって有機ＥＬパネルを製造する場合において、第一の基板に形成される有機ＥＬ素子の形成位置と封止用基板に形成される各収納部の形成位置とにズレが生じることを抑制し、有機ＥＬパネル歩留まりを向上させることが可能な封止用基板の製造方法及び有機ＥＬパネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the normal symbol variable process started in the special game state continues even after the special game state and also a state is shifted from the special game state to the probability variable normal game state, a digestive timing of special start storage data to be digested first in the probability variable normal game state is adjusted simultaneously with or after the expiration of the normal symbol variable process.例文帳に追加

特別遊技状態で開始された普通図柄変動行程が当該特別遊技状態後も継続し且つ当該特別遊技状態から確変通常遊技状態へ移行する場合に、当該確変通常遊技状態で最初に消化する特別始動記憶データの消化タイミングを、当該普通図柄変動行程の満了と同時又は満了後とするようにタイミング調整するようにしたものである。 - 特許庁

The method for preparing the acrylic rubber-reinforced thermoplastic resin comprises the steps of: performing a following first polymerization process and a following second polymerization process in this order in an aqueous medium in the presence of a sulfonic acid-based surfactant and/or a sulfate-based surfactant to obtain an acrylic rubber polymer (a); and polymerizing a vinyl monomer containing an aromatic vinyl compound and a vinyl cyanide compound in the presence of the acrylic rubber polymer (a).例文帳に追加

水性媒体中でスルホン酸系界面活性剤及び／又は硫酸エステル系界面活性剤の存在下に下記第１重合工程及び下記第２重合工程をこの順で行うことによってアクリル系ゴム質重合体（ａ）を得た後、該アクリル系ゴム質重合体（ａ）の存在下に、芳香族ビニル化合物及びシアン化ビニル化合物を含有するビニル系単量体を重合する。 - 特許庁

This method for producing the ferrite magnetic material having a hexagonal W-type ferrite as a main phase comprises a forming process for making a formed body containing a main ingredient and the first accessory ingredient comprising one, two or more selected from the ingredients of Ga, Al, W, Ce, Mo and Cr and a firing process for firing the resultant formed body.例文帳に追加

六方晶Ｗ型フェライトが主相をなすフェライト磁性材料の製造方法であって、主成分とＧａ成分、Ａｌ成分、Ｗ成分、Ｃｅ成分、Ｍｏ成分及びＣｒ成分から選択される１種又は２種以上からなる第１副成分を含む成形体を作製する成形工程と、成形体を焼成する焼成工程と、を備えることを特徴とするフェライト磁性材料の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electrode for the fuel cell, a mixture body Y is made through a first process of chemically reducing cation containing a platinum-group metal absorbed in a mixture body X, and a second process of chemically reducing cation which contains a platinum-group metal other than the one above absorbed in the mixture body Y.例文帳に追加

燃料電池用電極の製造方法において、陽イオン交換樹脂とカーボン粒子とを含む混合体Ｘに吸着させた白金族金属を含む陽イオンを化学的に還元する第１の工程を経ることにより混合体Ｙを作製し、前記混合体Ｙに吸着させた、前記白金族金属とは異なる白金族金属を含む陽イオンを化学的に還元する第２の工程を経る。 - 特許庁

This method comprises a first decomposition process for decomposing the polyhalogen organic compounds by putting oxygen and graphite adsorbate into the molten metal and by the catalytic effect of the molten metal of separating carbon; and a second decomposition process for decomposing by completely decomposing and deoxigenating the polyhalogen organic compounds by heating at 800-900°C and at a normal pressure in a non-oxygen and non-hydrogen atmosphere.例文帳に追加

さらに、溶解金属中に酸素とグラファイト吸着物を入れ、溶解金属の持つ炭素を脱離する触媒作用効果により多価ハロゲン有機化合物を分解する第１分解工程と、無酸素水素雰囲気中、常圧下で８００℃以上から９００℃以下の範囲で加熱することで多価ハロゲン有機化合物を完全分解脱酸素化して分解する第２分解工程とから成る。 - 特許庁

The method for producing the coated paper comprises forming a coated layer containing pigment and an adhesive on base paper, forming a first layer by a film transfer coating process, then forming a second layer and a third layer by a blade coating process and using a hot-air drier utilizing hot air at ≥190°C and <270°C for drying after forming the third layer.例文帳に追加

原紙上に、顔料および接着剤を含有する塗工層を形成した塗工紙の製造方法において、フィルム転写塗工方式で第一層目を形成した後に、ブレード塗工方式で第二層、第三層を形成し、第三層目の乾燥に熱風温度が１９０℃以上２７０℃未満の熱風を用いた熱風乾燥機を使用することを特徴とする印刷用塗工紙の及びその製造方法。 - 特許庁

The subject method for treating the soil of combined pollution has: a first process of extracting an organic halogen compound by immersing the soil of combined pollution containing the organic halogen compound and heavy metals into alcohol; and a second process of eluting the heavy metals by subjecting the organic halogen compound extracted by addition of hydrogen peroxide and an iron compound thereto to oxidation decomposition and simultaneously deriving an acid from the alcohol.例文帳に追加

有機ハロゲン化合物および重金属を含有する複合汚染土壌をアルコールに浸漬することで前記有機ハロゲン化合物を抽出する第１の工程と、過酸化水素と鉄化合物を添加して抽出された前記有機ハロゲン化合物を酸化分解し、同時に前記アルコールから酸を誘導し前記重金属を溶出する第２の工程とを有する複合汚染土壌の処理方法によって処理する。 - 特許庁

The manufacturing method of the piezoelectric element includes processes of forming a lower electrode 20 above a base 10; forming the dielectric layer by carrying out a pair of a first process of forming a laminar portion 311a above the lower electrode 20 and a second process of making the laminar portion 311a thin by chemical polishing once or a plurality of times; and forming an upper electrode above the dielectric layer.例文帳に追加

本発明にかかる圧電素子の製造方法は、基体１０の上方に下部電極２０を形成する工程と、下部電極２０の上方に層状部３１１ａを形成する第１工程、および、層状部３１１ａを化学的機械研磨により薄くする第２工程の組を１または複数回行い、誘電体層を形成する工程と、誘電体層の上方に上部電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor closure body 7 composed of components same as the semiconductor, and closing a discharge opening formed on a bottom portion of a crucible for melting the semiconductor, comprises a first process for melting a semiconductor material 8 by the crucible or the like in advance and supplying the melt to a prescribed mold 1, and a second process for crystallizing the melt of the semiconductor.例文帳に追加

半導体を溶融する坩堝の底部に形成された排出口を閉栓する前記半導体と同成分からなる半導体栓体の製造方法であって、予め坩堝などにより半導体原料８を溶融させ、その融液を所定の型１へと供給する第一工程と、前記半導体の融液を結晶化させる第二工程と、を備えた半導体栓体７の製造方法。 - 特許庁

A first moisture removing process for bringing the content of moisture in the hydrophobic organic solvent the moisture content of which is saturated moisture concentration or more to the vicinity of the saturated moisture concentration using a coalescer 14 and a second moisture removing process for further reducing the content of moisture in the organic solvent the moisture content of which is around a saturated moisture concentration to 100 ppm or less using a distillation column 15 are provided.例文帳に追加

コアレッサー１４を用いて水分含有量が飽和水分濃度以上である疎水性の有機溶剤の前記水分含有量を飽和水分濃度近辺にする第１水分除去工程と、蒸留塔１５を用いて水分含有量が飽和水分濃度近辺である有機溶剤の前記水分含有量をさらに低減させて１００ｐｐｍ以下にする第２水分除去工程とを有する。 - 特許庁

This method for evaluating the carcinogenesis degree of the specimen originated from the mammal is characterized by having (1) the first process for measuring the methylation frequency of G protein-coupled receptor 7 gene contained in the specimen originated from the mammal, and (2) the second process for judging the carcinogenesis degree of the specimen on the basis of a difference obtained by comparing the measured methylation frequency with a control.例文帳に追加

本発明は、哺乳動物由来の検体の癌化度を評価する方法であって、（１）哺乳動物由来の検体に含まれるG protein-coupled receptor 7遺伝子のメチル化頻度を測定する第一工程、及び（２）測定された前記メチル化頻度と、対照とを比較することにより得られる差異に基づき前記検体の癌化度を判定する第二工程を有することを特徴とする評価方法等に関する。 - 特許庁

In obtaining a micro three-dimensional convex shape object such as the microlens array, a workpiece part other than a convex shape machining predetermined part is machined for elimination by a machining method of high elimination speed and large elimination area to form a primary workpiece with rough convex shape parts as a first process, and three-dimensional machining is performed to the individual convex shape parts of the primary workpiece as a second process.例文帳に追加

マイクロレンズアレーなどの微細３次元凸形状体を得るにあたり、第１工程として除去速度および除去面積の大きな加工法にて凸形状加工予定箇所以外の被加工材部分を除去加工して粗凸形状部を有する一次加工品を作り、第２工程として、一次加工品の個々の粗凸形状部に対してビーム加工法により３次元加工を行う。 - 特許庁

Even the cleaning method for cleaning the semiconductor substrate by a chemical liquid comprises a first cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by a mixed solution containing fluorine-ozone water in a composition for preventing fluorine from remaining, and a second cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by the ozone water in a composition for successively making the surface of the semiconductor substrate hydrophilic.例文帳に追加

半導体基板を薬液で洗浄する洗浄方法であって、半導体基板表面にフッ素が残留しない組成のフッ酸−オゾン水を含む混合溶液で該半導体基板を洗浄する第１の洗浄工程と、引き続き半導体基板表面を親水性化する組成のオゾン水で該半導体基板を洗浄する第２の洗浄工程とを有することを特徴とする半導体基板の洗浄方法である。 - 特許庁

The data processor 1 of a copying machine installed in the city stores acquired image data in a memory 14 processes the image data such as image copying and facsimile sending, then makes the image data stored in the memory 14 unavailable by deleting the image data, etc., and executes a second charging process for making the image data unavailable in addition to a first charging process for processing the image data.例文帳に追加

市中に設置された複写装置であるデータ処理装置１は、取得した画像データを記憶部１４に記憶し、画像の複写およびファクシミリ送信などの画像データの処理を行った後で、画像データを消去する等して記憶部１４が記憶している画像データを無効化し、画像データの処理に対する第１課金の処理に加えて画像データの無効化に対する第２課金の処理を行う。 - 特許庁

The control means 5 is so constituted, when a rice cooking course without burnt deposit is selected by the menu selecting means 4, as to finish the boiling process when the temperature detected by the pot temperature detecting means 3 reaches a first predetermined temperature close to the boiling and then reaches a second temperature lower than a regular boiling finish temperature, and set a subsequent steaming process time longer than the usual.例文帳に追加

制御手段５は、メニュー選択手段４によって焦げなし炊飯コースを選ばれたとき、鍋温度検知手段３によって検知した温度が沸騰付近である第１の所定温度に達しその後通常の炊き上げ終了温度よりも低い第２の温度に達したときに炊き上げ行程を終了するようにし、その後のむらし工程時間を通常より長めに設定するよう構成する。 - 特許庁

A first process of welding a lead part 11a of a plurality of positive electrodes to a collector 13 with a plurality of welding parts 13a to 13f and welding a plurality of negative electrodes to a collector 15 with a plurality of welding parts, and a second process of determining welding quality by measuring resistance between a plurality of welded parts with at least one of the collectors 13, 15 are included.例文帳に追加

複数の正極のリード部１１ａを複数の溶接部１３ａ〜１３ｆで集電体１３に溶接し、複数の負極を複数の溶接部で集電体１５に溶接する第１の工程と、集電体１３および集電体１５から選ばれる少なくとも１つについて、複数の溶接部間の抵抗値を測定することによって溶接の良否を判断する第２の工程とを含む。 - 特許庁

The method for communicating by connecting a computer and a plurality of devices via serial communication ports features the following processes: a process to control a switch via a first serial communication port of the computer and to connect a port corresponding to a device to be communicated and a second serial communication port of the computer; and a process to communicate with a device to be controlled via the second serial communication port.例文帳に追加

コンピュータと複数の装置とを直列通信ポートを通じて接続して通信する方法において，コンピュータの第１直列通信ポートを通じて切替スイッチを制御して通信しようとする装置に相応するポートとコンピュータの第２直列通信ポートとを接続する過程と，第２直列通信ポートを通じて制御しようとする装置と通信する過程と，を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The depositing method of an inert coating on a substance surface includes a first process to expose the surface to plasma discharge for an enough time to activate the surface in the presence of an inert gas, and a second process to bring the activated surface into contact with a gaseous org. silicon material without plasma and to carry out vapor deposition of the org. silicon material on the activated surface.例文帳に追加

物質表面に不活性コーティングを付着させる方法において、不活性ガスの存在下で表面を活性化するのに十分な時間前記表面をプラズマ放電に曝す第１工程、およびプラズマがない状態で、活性化された表面と、ガス状有機珪素物質とを接触させ、この活性化された表面に有機珪素物質を蒸着させる第２の工程を含む前記方法。 - 特許庁

To improve delivery efficiency by simply reducing leak of working fluid with a small number of components in a trochoid pump provided with an intake port communicating with a pump chamber in expansion process and a delivery port communicating with the pump chamber in compression process in a pump case which consists of a first case member and a second case member forming a rotor storage recess part storing an inner rotor and an outer rotor.例文帳に追加

インナーロータおよびアウターロータを収容するロータ収容凹部を形成する第１ケース部材および第２ケース部材が結合されて成るポンプケースに、膨張過程に在るポンプ室に通じる吸入ポートならびに圧縮過程に在るポンプ室に通じる吐出ポートが設けられるトロコイド型ポンプにおいて、簡単かつ少ない部品点数で作動液の漏れを少なくし、吐出効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer of a semiconductor memory device, capable of filling a fluid first insulating film on the bottom surface of a trench, forming a second insulating film, then performing a dry etching process and a wet etching process and reducing the amount of fluorine (F) included in the second insulating film while expanding the top width of the trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの底面に流動性の第１の絶縁膜を満たし、第２の絶縁膜を形成した後に乾式エッチング工程及び湿式エッチング工程を行ってトレンチの上部の幅を広げながら第２の絶縁膜に含まれるフッ素(Ｆ；fluorine；フローリン)の量を減少させることができる半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

This method includes a process 216 wherein conductive material having one work function is so formed as to cover an insulated semiconductor substrate, and a process 218 wherein part of the conductive material is reformed to change the work function of the conductive material, a first gate electrode is formed with the conductive material, and a second gate electrode is formed with the reformed part of the conductive material.例文帳に追加

本方法は、半導体基板を覆って、１つの仕事関数を有する伝導性材料を絶縁して形成する工程（図２の工程２１６）、および伝導性材料の一部を改質して伝導性材料の仕事関数を変化させることによって、伝導性材料が第１ゲート電極を、また改質された伝導性材料が第２ゲート電極を形成するようにする工程（図２の工程２１８）を含む。 - 特許庁

This manufacturing method for an electrode material including a cation exchange resin, a carbon particle, and a catalyst metal comprises a first process for adsorbing cations in cation exchange resin by ion exchange reaction of paired ions of the cation exchange resin with cations including a catalyst metal element, and a second process for reducing the absorbed cations in the atmosphere containing gaseous hydrogen at 130 to 150°C.例文帳に追加

陽イオン交換樹脂、カーボン粒子および触媒金属を含む電極材料の製造方法であって、陽イオン交換樹脂の対イオンと触媒金属元素を含む陽イオンとのイオン交換反応によって、前記陽イオンを陽イオン交換樹脂に吸着させる第１の工程と、吸着した陽イオンを１３０℃以上、１５０℃以下の水素ガスを含む雰囲気中で還元する第２の工程を経ることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated structure for the disk driving suspension assembly comprising using the multilayered lamination sheet having the first layer 50 consisting of the metallic spring material, the intermediate second layer 90 consisting of the electrical insulating material and the third layer 70 consisting of the conductive material and performing the dry etching process after wet etching as a process step of molding the second layer 90 and the laminated structure thereof are provided.例文帳に追加

金属ばね材からなる第１層５０と、電気絶縁材からなる中間の第２層９０と、導電材からなる第３層７０とを有する多層合わせシートを使用し、第２層９０の成形工程としてウェットエッチングの後、ドライエッチングプロセスを行うことを特徴とするディスク駆動サスペンションアセンブリ用の積層構造体の製造方法及びその積層構造体を提供する。 - 特許庁

(A-i) The propylene-ethylene block copolymer is polymerized sequentially with 30-95 wt.% of propylene-ethylene random copolymer component A1 containing 0.3-7 wt.% of ethylene, in the first process, and with a propylene-ethylene random copolymer component A2 containing ethylene more by 3-20 wt.% than an ethylene content of the component A1, in the second process, using a metallocene catalyst.例文帳に追加

（Ａ−ｉ）メタロセン系触媒を用いて、第１工程で、０．３〜７重量％のエチレンを含有するプロピレン−エチレンランダム共重合体成分（Ａ１）を３０〜９５重量％、第２工程で、成分（Ａ１）のエチレン含量より３〜２０重量％多いエチレンを含有するプロピレン−エチレンランダム共重合体成分（Ａ２）を５〜７０重量％、逐次重合してなるプロピレン−エチレンブロック共重合体。 - 特許庁

This cured concrete investigation method comprises: a first process for drilling cured concrete by a drill hammer 1 having a suction device and an airtight dust collection container stored with drilled powder sucked by the suction device, and collecting the drilled powder generated by the drilling in an airtight state; and a second process for measuring the total salt content included in the cured concrete by absorptiometry with the drilled powder as the sample.例文帳に追加

硬化コンクリートを、吸引装置と当該吸引装置により吸引された削孔粉が収納される気密な集塵容器とを備えたドリルハンマー１により削孔し、削孔により生じた削孔粉を気密状態で採取する第１の手順と、当該削孔粉を試料として吸光光度法により硬化コンクリート中に含まれる全塩分量を測定する第２の手順とからなる。 - 特許庁

A multi-thread processor provided with a plurality of hardware threads being a unit of hardware allocated for execution of one thread is provided with an interrupt management part 105, when one of the hardware threads further receives a second interrupt command while executing a process caused by interruption of a first interrupt command, for making other hardware thread execute a process to be executed by the second interrupt command.例文帳に追加

一つのスレッドの実行に割り当てられるハードウェアの単位であるハードウェアスレッドを複数備えるマルチスレッドプロセッサに対し、ハードウェアスレッドのうちの一のハードウェアスレッドが、第１の割込命令によって割込まれた処理を実行している間にさらに第２の割込み命令を受けたとき、第２の割込命令によって実行される処理を他のハードウェアスレッドに実行させる割込み管理部１０５を設ける。 - 特許庁

In the case where the first recording material ejected onto the paper ejection tray 31 is an OHP sheet, the control part 40 alters the rotating speed of the paper ejection motor 35 from v1 matching the image forming process speed to v2 that is higher than v2 after the trailing end of the OHP sheet is passed through a fixing unit 7.例文帳に追加

制御部４０は、排紙トレイ３１に排出される１枚目の記録材がＯＨＰシートである場合に、ＯＨＰシートの後端が定着ユニット７を通過した後に、排紙モータ３５の回転速度を画像形成プロセス速度に応じたｖ１からより高速のｖ２に変更する。 - 特許庁

Four 2-chip sub-blocks 100, 101 are formed by laminating pairs of all chips 1 in the first laminating process without sequential lamination of the chips 1 and thereafter the two-chip sub-blocks 100, 101 are further laminated to form two 4-chip sub-blocks 102, 103.例文帳に追加

チップ１を順次積層せずに、最初の積層工程において、全てのチップ１がペアを組み互いに積層されることで、４つの２チップサブブロック１００、１０１を形成し、その後、２チップサブブロック１００、１０１どうしを更に積層して、２つの４チップサブブロック１０２，１０３を形成する。 - 特許庁

In the first condition, a deposition gas including silicon or germanium is diluted with the flow rate of hydrogen set to 50 times or more and 1000 times or less relative to the flow rate of the deposition gas, and the pressure in a process chamber is set to 67 Pa or more and 1333 Pa or less.例文帳に追加

第１の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体の流量に対する水素の流量を５０倍以上１０００倍以下にして堆積性気体を希釈し、且つ処理室内の圧力を６７Ｐａ以上１３３３Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

The ECF bleached pulp is preferably is bleached pulp produced by a multistage bleaching process including a chlorine dioxide stage at ≤70°C, wherein the chlorine dioxide additive rate to absolute dry mass of the pulp is ≤0.06 mass% per 1 kappa number before bleaching (JIS P 8211) as a first bleaching step.例文帳に追加

該ＥＣＦ漂白パルプは、温度７０℃以下、二酸化塩素添加率が絶乾パルプ質量に対し、漂白前カッパー価（ＪＩＳ Ｐ ８２１１）１当り０．０６質量％以下である二酸化塩素段を漂白初段として含む多段漂白工程による漂白パルプであることが好ましい。 - 特許庁

The manufacturing process of the metal mask screen plate includes two plating steps suitable for manufacturing the metal mask screen plate 20, one section of the metal plate 2 and the meshes 4 are made of the plating layer of the first layer of the two plating steps, and the second plating layer is laminated on the metal plate 2.例文帳に追加

および、本発明のメタルマスクスクリーン版２０を製造するのに適した、２段階のメッキ処理の工程により１層目のメッキ層で金属板２の１部およびメッシュ４を形成し、２層目のメッキ層で金属板２を積層して完成させるメタルマスクスクリーン版の製造方法である。 - 特許庁

In a process of bonding the bonding portion 34 to the shield member 11, the locking portions 50 and 53 are mutually locked by deforming the first swaging piece 47 so that its bending portion is extended in a state that both the swaging pieces 47 and 48 are made to be close to regular positions in a circumferential direction.例文帳に追加

固着部３４をシールド部材１１に固着する工程では、両カシメ片４７，４８を周方向において正規位置まで接近させた状態で、第１カシメ片４７をその屈曲部が伸びるように変形させることで、係止部５０，５３同士を係止させる。 - 特許庁

In the coating process carrying out a rotating atomization painting by a coating means 1 guiding to a coated surface by surrounding a coating material atomized by the rotation of a bell cup with shaping air, an infrared absorbance of an undried coating film is measured, and a first coating non-volatile value is calculated from the infrared absorbance.例文帳に追加

ベルカップの回転により霧化された塗料をシェーピングエアで包囲して被塗装面に案内する塗装手段１により回転霧化塗装を行う塗装工程内で、未乾燥の塗膜の赤外線吸光度を測定し、該赤外線吸光度から第１の塗着ノンブラ値を算出する。 - 特許庁

A first discharge fluid 33 and a second discharge fluid 34, having different shrinkages in a curing process are successively discharged onto a glass substrate 11 by employing an ink-jet method to form liquid drops on the substrate 11, while the plurality of discharged fluid materials are in an incomplete mixture state.例文帳に追加

インクジェット法を用いて、ガラス基板１１上に、硬化処理における収縮率がそれぞれ異なる第１の吐出流体３３および第２の吐出流体３４を順次吐出し、複数の吐出流体材料が不完全な混合状態にて基板１１上に液滴を形成する。 - 特許庁

The reaction of the non-silicone substance with the silicone substance in the presence of the crosslinker may be initiated with a process of mixing the composition, or of injection molding the composition (formation of the first half shell of and the second half shell of the golf ball), or of compression molding their shells above the central part of the golf ball.例文帳に追加

架橋剤の存在下での非シリコーン物質とシリコーン物質の反応は、組成物の混合、組成物の射出成形（ゴルフボールの第一ハーフシェルと第二ハーフシェルを形成）、またはゴルフボールの中心部分の上でのそれらシェルの圧縮成形の工程によって開始されてもよい。 - 特許庁

In a process of forming the well region, a part of a part (silicon oxide film 51) which is formed in the formation scheduled region A2 of the MOS transistor 4 of the silicon oxide film 31 is removed by wet etching and after that, the first ion implantation is performed by using the silicon oxide film 31 as a mask.例文帳に追加

ウェル領域を形成する工程では、シリコン酸化膜３１のうちＭＯＳトランジスタ４の形成予定領域Ａ２に形成されている部分（シリコン酸化膜５１）の一部をウェットエッチングにより除去してから、シリコン酸化膜３１をマスクとして第１のイオン注入を行う。 - 特許庁

After each of modules 101, 102 and 201 is assembled in an assembly process, a module data transferring machine 601 reads out the adjustment value of the first and second modules 101 and 102 stored in the storage part 401, and writes in the EEPROM 201A of the control module 201.例文帳に追加

組み合わせ工程で各モジュール１０１，１０２，２０１が組み合わされた後、モジュールデータ転送機６０１は、上記調整データ記憶部４０１に記憶されている第１及び第２モジュール１０１，１０２の調整値を読み出し、制御モジュール２０１のＥＥＰＲＯＭ２０１Ａへ書き込む。 - 特許庁

This microcomputer includes: a central processing unit 22; and a first monitor means 40 for receiving and transmitting data from/to a second monitor means 62 to determine a primitive command to be executed based on the data received from the second monitor means 62 and for carrying out a process for executing the determined primitive command.例文帳に追加

マイクロコンピュータは、中央処理ユニット２２と、第２のモニタ手段６２との間でデータを送受信し、実行するプリミティブコマンドを第２のモニタ手段６２からの受信データに基づき決定し、決定したプリミティブコマンドを実行するための処理を行う第１のモニタ手段４０を含む。 - 特許庁

To prevent a defect from being generated in a separation process in a method for creating a laminated substrate by laminating first and second substrates with a porous layer and separating the laminated substrate into two substrates at the part of the porous layer for manufacturing an SOI substrate.例文帳に追加

多孔質層を有する第１の基板と第２の基板とを貼り合わせて貼り合わせ基板を作成し、該貼り合わせ基板を基板を多孔質層の部分で２枚の基板に分離してＳＯＩ基板を製造する方法において、分離工程における欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

In turning on the power, the first CPU 301 transfers, to a RAM 309 accessible from the second CPU, its boot program, executes a certain initial process such as checking of inputs from a lot of sensors, and releases the reset of the second CPU 302 through the register 303.例文帳に追加

電源投入時、第１ＣＰＵ３０１は、第２ＣＰＵがアクセス可能なＲＡＭ３０９に、そのブートプログラムを転送し、また多数のセンサからの入力をチェックする等の一定の初期処理を実行し、この初期処理後に、レジスタ３０３を介して第２のＣＰＵ３０２のリセットを解除する - 特許庁

In the manufacturing method of an organic electroluminescent display element in which a luminous layer 12 having light-emitting capability is clipped between a first and a second electrodes 4, 14, ultrasonic vibration is given in the process wherein the luminous layer is formed by applying and drying the material liquid of the luminous layer 12.例文帳に追加

発光能を有する発光層１２が第１および第２電極４，１４間に挟持された有機エレクトロ・ルミネッセンス表示素子の製造方法において、発光層１２の材料液を塗布し乾燥させて発光層を形成する際に、超音波振動を与える。 - 特許庁

The controller 16 puts the spectral width control system 30 in a nonoperating state and oscillates the light source 1 at a first oscillation frequency in the measurement processing, and shifts the spectral width control system 30 to an operating state in the exposure process and makes the light source 1 oscillate at a second oscillation frequency.例文帳に追加

制御部１６は、計測処理ではスペクトル幅制御システム３０を非動作状態にして光源１を第１発振周波数で発振させ、露光処理ではスペクトル幅制御システム３０を動作状態にして光源１を第２発振周波数で発振させる。 - 特許庁

The semiconductor sensor has a structure which is manufactured by a simple process wherein a groove portion 17 is so provided as to separate the centers of a rectangular source portion and drain portion of a semiconductor substrate 11, and first and second semiconductor layers 13, 14 are formed on sidewalls 17a, 17b on both sides of the groove portion 17.例文帳に追加

半導体基板１１の長方形状のソース部・ドレイン部の中央を分断するように溝部１７を設け、この溝部１７の両側の側壁１７ａ，１７ｂに第１，第２の半導体層１３，１４を形成するという簡易プロセスで製造可能な構造を採用した。 - 特許庁

A flux printing apparatus 2 includes a frame 21, which holds a mask 10 having a group of first openings 14a and a group of second openings 14b that are formed substantially identical for carrying out the same process on substrates, and a mobile stage 30 which carries the substrates to position the substrates thereon.例文帳に追加

フラックス印刷装置２は、基板に同一の処理を行うための実質的に同一の第１の開口群１４ａおよび第２の開口群１４ｂを含むマスク１０を保持するためのフレーム２１と、基板を搭載し、基板の位置決めをするための移動ステージ３０とを有する。 - 特許庁