「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(104ページ目) - Weblio英語例文検索

In an image forming apparatus using an electrophotographic process, a first timing means to measure accumulated time of image forming action with a specified point as starting point and second timing means to time accumulated time of action other than image forming action with a specified point as the starting point are provided.例文帳に追加

本発明は、電子写真プロセスを用いた画像形成装置であって、所定の時点を起点として画像形成動作の累積時間を計測する第１の計時手段と前記所定の時点を起点として画像形成動作以外の動作の累積時間を計測する第２の計時手段とを有する。 - 特許庁

To provide a developing device wherein a developer containing a replenished toner in a sufficiently dispersed state is supplied to a first conveyance passage by a relatively simple configuration, and image density irregularity or contamination on a texture are not caused on an output image, and toner scattering is not caused, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

比較的簡易な構成で、補給トナーが充分に分散された状態の現像剤を第１搬送経路に供給できて、出力画像上に画像濃度ムラや地肌汚れが生じたり、トナー飛散が生じることのない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

After an active layer 3, an etching stopping layer 4, and a cap layer 5 are successively grown on a substrate 1 composed of a III-V compound semiconductor, an element region is separately formed by subjecting it to mesa etching (first process), and a mask having an opening for controlling the width of a gate electrode G is formed on the formed mesa.例文帳に追加

III-Ｖ族化合物半導体からなる基板１上に活性層３、エッチング停止層４、およびキャップ層５を順に成長させた後、メサエッチングを施して素子領域を分離形成し（第１の工程）、上記メサ上にゲート電極Ｇの幅を規定する開口部を有するマスク１１を形成する。 - 特許庁

When the wiring board 100 is manufactured, in the fine hole forming process to form the fine hole, a first groove region 4 made of relatively shallow grooves is formed on the opening end side of the side wall of the fine hole, and a second groove region 5 made of relatively deep grooves is formed on the bottom side of the side wall of the fine hole.例文帳に追加

この配線基板１００の製造する際に、微細穴を形成する微細穴形成工程において、微細穴の側壁部の開口端側に相対的に浅い溝からなる第１溝領域４が形成され、微細穴の側壁部の底部側に相対的に深い溝からなる第２溝領域５が形成される。 - 特許庁

To provide a developing device which can be easily designed, by which developer inside a developer container can be stably circulated by first and second stirring means, and a density irregularity, fogging and density defect, etc., can be prevented, a process cartridge and an image forming device provided with the developing device.例文帳に追加

本発明は、設計が容易で、第一撹拌手段及び第二撹拌手段によって現像剤容器内の現像剤を安定して循環させ、濃度ムラ、カブリ、濃度不良等を防止することのできる現像装置及びこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ並びに画像形成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

The process includes: a preparation step of slurring a rubber, municipal sludge, and food-processing wastes; a first reaction step of generating a solid and a liquid; a step of separating the resultant reaction product; and a second reaction step of converting the liquid product into the carbon solids and a hydrocarbon mixture containing fuel gas and oil.例文帳に追加

ゴム、都市下水汚泥、食品加工廃棄物などをスラリー化する前処理工程、固体および液体を生成する第１の反応工程、その反応生成物を分離する工程、そして液体生成物を炭素固体、燃料ガスおよび油を含む炭化水素混合物へと変換する第２の反応工程と装置とからなる。 - 特許庁

However, even if the external power source voltage Vcc is higher than the internal power source voltage Vdd in the initial step of the voltage boosting process, this first capacitive element C5 suppresses the flow of a current from a second terminal G2 of a thyristor rectifying circuit 110 to the internal power source voltage supply line Vdd.例文帳に追加

しかし、この第１の容量素子Ｃ５は、昇圧工程の初期段階において、外部電源電圧Ｖｃｃの方が、内部電圧Ｖｄｄより高くなる場合でも、電流がサイリスタ整流回路１１０の第２の端子Ｇ２から内部電源電圧供給線Ｖｄｄへ流れるのを抑止する。 - 特許庁

The non-accumulated advance treatment is carried out by the process executed by two steps wherein a first step for cleaning the surface of the plastic substrate 2 with non-reactive low energy plasma 14, and a second step for activating the surface of the plastic substrate 2 by reactive high energy ion emission 17.例文帳に追加

該非堆積事前処置が２つのステップ、従って該プラスチック基板２の該表面が非反応性低エネルギープラズマ１４によってクリーニングされる第１のステップと、該プラスチック基板２の該表面が反応性高エネルギーイオン放射１７によって活性化される第２のステップとで実行されるプロセスによって遂行される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which allows image defects and breakdown of internal components to be prevented by efficiently dissipating heat generated in a fixing part out of the device without enlargement of the device or delay of the first print-out time to suppress the temperature rise in a printer including a process cartridge.例文帳に追加

装置の大型化やファーストプリントアウトタイムの遅延を招くことなく、定着部で発生した熱を効率良く機外に排出し、プロセスカートリッジを始めとするプリンタ内部の温度上昇を抑制することにより、画像不良や内部部品の破損を防止することができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The process for manufacturing a sealing substrate 11 comprises the step of forming, correspondingly to a plurality of organic EL elements 8 formed on a translucent first substrate 9, a plurality of housing parts 7a for covering a planer second substrate with the organic EL elements 8 to be arranged in rows in the longitudinal and lateral directions.例文帳に追加

封止用基板１１の製造方法は、透光性の第一の基板９上に形成される複数の有機ＥＬ素子８に対応し、平板状の第二の基板に各有機ＥＬ素子８を覆うための複数の収納部７ａを縦横方向に向かって列状となるように形成する工程を含む。 - 特許庁

A wafer level package process has steps of: providing a lower cover wafer 210 and an upper cover wafer 230; providing a semiconductor wafer including a plurality of MEMS devices on a substrate layer; joining the semiconductor wafer to a first surface of the lower cover wafer; and joining a second surface of the upper cover wafer to the semiconductor wafer.例文帳に追加

下カバーウェハ２１０および上カバーウェハ２３０を提供するステップと、基板層上に複数のＭＥＭＳ装置を含む半導体ウェハを提供するステップと、半導体ウェハを下カバーウェハの第１表面に接合するステップと、上カバーウェハの第２表面を半導体ウェハに接合するステップと、を有する。 - 特許庁

A first subsystem 20 displays specification data on past design business stored in a master database 10, refers to the displayed specification data to decide rough design specifications of new design business, and creates a component list about the decided rough design specifications to generate a design process flow.例文帳に追加

第１サブシステム２０は、マスタデータベース１０に記憶された過去の設計業務に係る仕様データを表示し、表示された仕様データを参照して新たな設計業務に係る大枠の設計仕様を決定し、決定された大枠の設計仕様に係る構成部品表を作成して設計工程フローを生成する。 - 特許庁

When the measured temperature of a heating block 27 of a first sintering chamber 2 of a vacuum heating device 10 obtained by a thermo- couple 31 reaches the set temperature of heating, and oscillates beyond the fixed temperature range, a process is controlled so that the deterioration signal of the thermo-couple can be issued, and that the heating can be automatically stopped.例文帳に追加

真空加熱装置１０の第１焼結室２の加熱区画２７の熱電対３１による計測温度が加熱の設定温度に到達した後に一定の温度範囲を越えて振れる場合に熱電対３１の劣化信号を発して加熱を自動的に停止するようにプロセスを制御する。 - 特許庁

The image processing unit 12 has: a drawing data generation section 36 for drawing a binary image of each color component based on print data for generating binary image data; a first data storage section 38 for storing the binary image data; and a second data storage section 40 for storing intermediate data generated in a process of drawing the binary image data.例文帳に追加

画像処理装置１２は、印刷データに基いて、各色成分の２値画像を描画し、２値画像データを生成する描画データ生成部３６と、この２値画像データを記憶する第１のデータ保存部３８と、２値画像データが描画される過程で生成される中間データを記憶する第２のデータ保存部４０とを有する。 - 特許庁

In the laminating process, the laminated body is formed by the lamination so that at least a part of the internal electrode pattern 611 positioning at the leader side of the screen-printing of the first green sheet piece Q1 and a part of the internal electrode pattern 616 positioning at the end side of the screen-printing of the second green sheet piece Q2 mutually face.例文帳に追加

積層工程において、第１のグリーンシート片Ｑ１におけるスクリーン印刷の始端側に位置する内部電極パターン６１１と第２のグリーンシート片Ｑ２におけるスクリーン印刷の終端側に位置する内部電極パターン６１６との少なくとも一部が対向するように積層して積層体を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrostatic actuator comprises a process for anodically joining the first backing 1a formed with a vibration plate 2 and a second backing 10a formed with an individual electrode 11 that opposes the vibration plate 2.例文帳に追加

振動板２が形成される第１の基材１ａと、振動板２に対向配置される個別電極１１が形成された第２の基材１０ａとを陽極接合する工程を有し、陽極接合工程を第１の基材１ａと第２の基材１０ａとによって形成される空間を大気に連通させた状態で行うようにした。 - 特許庁

A first noise amplitude distribution detecting section 11 and a second noise amplitude distribution detecting section 12 repeatedly calculate a noise amplitude distribution gb(n) in a time section other than a vocalization voice section which is the time section detecting the vocalization voices by a voice recognition engine 7 during the voice recognition process.例文帳に追加

第１騒音振幅分布検出部１１と第２騒音振幅分布検出部１２は、音声認識エンジン７が音声認識処理中に発声音声を検出している時間区間である発声音声区間以外の時間区間において、騒音の振幅分布ｇｂ（ｎ）を繰り返し算出する。 - 特許庁

The manufacturing process comprises a first step to manufacture a combined body of a carbonate and a substance having the form of a particle, a second step to form a shell of a metal oxide by coating the surface of the body with the metal oxide and a third step to dissolve the carbonate in the metal oxide shell with an acid.例文帳に追加

その製造方法は炭酸塩と粒子形態をなす物質の結合体を製造する第１工程と、その表面を金属酸化物で被覆して金属酸化物殻を形成する第２工程と、金属酸化物殻内の炭酸塩を酸により溶解する第３工程からなることを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus has a process chamber comprising: a substrate support; an ion filter to filter the remotely energized gas to form a filtered energized gas having a second ratio of ionic hydrogen-containing species to radical hydrogen-containing species, the second ratio being different than the first ratio; and a gas distributor to introduce the filtered energized gas into the chamber.例文帳に追加

本装置は、基板支持体と、遠隔励起ガスをろ過して、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種の第二比率を有し、第二比率が第一比率と異なる、ろ過された励起ガスを形成するイオンフィルタと、チャンバにろ過された励起ガスを導入するガス分配器とを備えたプロセスチャンバを有する。 - 特許庁

In a process for forming the protective film on the organic EL element having a pair of electrodes and an organic compound layer arranged between the pair of electrodes, a pipe 11a of a gas supply means 11 having a surface facing a first surface of a substrate 1 with the organic EL element stacked thereon is cooled by cooling water passages 17.例文帳に追加

一対の電極と、前記一対の電極の間に配置されている有機化合物層を有する有機ＥＬ素子に保護膜を成膜する工程で、基板１の有機ＥＬ素子が積層された第１面に対向する面を有するガス供給手段１１の配管１１ａを、冷却水通路１７によって冷却する。 - 特許庁

The method used for the network of wireless communication system comprises a step (S302) for using a first function which assigns a dedicated H-RNTI to UE without using a second function which does not assign a dedicated H-RNTI to UE when a cell update process is started by selecting a new cell through the UE.例文帳に追加

無線通信システムのネットワークに用いられる方法は、ＵＥで新しいセルを選んだことによりセル更新プロセスを起動した場合に、専用Ｈ−ＲＮＴＩをＵＥに割り当てない第二機能を使用せずに、専用のＨ−ＲＮＴＩをＵＥに割り当てる第一機能を使用する段階を含む。 - 特許庁

To provide a flash memory element in which a semiconductor substrate in the boundary of a cell region and a peripheral circuit region can be protected from an etching step for forming first and second trenches and a leak current generated due to damage on the semiconductor substrate can be prevented from increasing, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

セル領域と周辺回路領域との境界部の半導体基板を第１トレンチおよび第２トレンチの形成のためのエッチング工程から保護することができ、半導体基板の損傷で発生する漏れ電流の増加を防止することができる、フラッシュメモリ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The second feeding means constituted of a rotary feeding belt possessing the plurality of ribs at outside and the plurality of teeth at inside, a pair of pulleys (driving pulley and driven pulley), a bearing to support the pulleys and a wall covering the feeding belt is provided at the post-process of a first feeding means to feed residual toner after transfer in a horizontal direction.例文帳に追加

転写残トナーを水平方向へ搬送する第一搬送手段の後工程に、外側に複数のリブと内側に複数の歯形とを有する回転式の搬送ベルトと、一対のプーリ（駆動プーリ、従動プーリ）と、プーリを支持する軸受けと、搬送ベルトを覆う壁とから成る第二搬送手段を設ける。 - 特許庁

In addition, the link mechanism 13 is constituted of an engagement pin 5 provided in the first sector 2 and an engagement groove 14 provided in the second sector 3, a process for acceleration of the second sector is unnecessitated by providing a entrance length section 16 in which the engagement pin 5 does not move the second sector 3 in the engagement groove 14 and the shutter is miniaturized.例文帳に追加

また、リンク機構１３を、第一セクタ２に設けた係合ピン５と、第二セクタ３に設けた係合溝１４とで構成し、係合溝１４に、係合ピン５が第二セクタ３を移動させることのない助走区間１６を設けることによって第二セクタの加速のための道程を不要とし、小型化を図った。 - 特許庁

In performing the blanking lamination process, the Thomson die 31 is allowed to relatively approach toward the green sheet 100 and only a part of the laminated surface 21 being the back of the sheet pieces 210 already housed in the Thomson die 31 is brought into contact with the sheet surface 101 being the surface of the green sheet 100 first.例文帳に追加

打抜積層工程を実施するに当たっては、グリーンシート１００に向けてトムソン型３１を相対的に近づけていき、トムソン型３１内に既に収容したシート片２１０の裏面である積層面２１の一部のみを最初に、グリーンシート１００の表面であるシート表面１０１に接触させる。 - 特許庁

The oxygen-containing reductive collagen having very low redox potential is obtained by the following process: Using a well-known gas/liquid contact apparatus, oxygen is first dissolved in collagen under a pressure of 1 to 1,000 atm and then hydrogen is dissolved in the oxygen-dissolved collagen under a pressure of 1 to 1,000 atm.例文帳に追加

周知の気液接触装置を用い、まず最初に１気圧〜１０００気圧の加圧下においてコラーゲンに酸素を溶解させ、ついで、酸素を溶解させたコラーゲンに対して１気圧〜１０００気圧の加圧下において水素を溶解させることにより、非常に低い酸化還元電位を有する酸素含有型還元性コラーゲンを得る。 - 特許庁

A formation depth d1+tx from a first main surface J of an ion implantation layer 4 for peeling in a process for forming the ion implantation layer for peeling is adjusted by the energy of ion implantation, to adjust the thickness of a coupling silicon single crystal thin film 15 according to the thickness of the SOI layer 5 to be obtained.例文帳に追加

得るべきＳＯＩ層５の厚さに応じて結合シリコン単結晶薄膜１５の厚さを調整するために、剥離用イオン注入層形成工程における剥離用イオン注入層４の第一主表面Ｊからの形成深さｄ１＋ｔｘを、イオン注入のエネルギーにより調整する。 - 特許庁

The processing stations are partitioned into a processing block B1 comprising a processing unit for applying and developing a resist as well as a second cooling part 3, and a transfer block B2 comprising a wafer transfer means MA, heating part, first cooling part, while the process block B1 is in a high-precision adjusted atmosphere for controlling a temperature.例文帳に追加

これら処理ステ−ションは、レジストの塗布処理や現像処理を行う処理ユニットＵと第２の冷却部３と備えた処理ブロックＢ１と、ウエハ搬送手段ＭＡと加熱部と第１の冷却部とを備えた搬送ブロックＢ２とに区画され、処理ブロックＢ１は温度の制御を行う高精度調整雰囲気となっている。 - 特許庁

This method of generating at least one pattern on the upper surface of a support body 1 made of a substance showing first thermal conductivity includes a process of arranging a mask 7 made of a substance which shows second thermal conductivity and including at least one hole part 8 having a shape corresponding to the shape of the pattern.例文帳に追加

第１熱伝導率を示す物質から作られる支持体１の上面上に少なくとも１つのパターンを作成する方法は、第２熱伝導率を示し、且つ、パターンの形状に対応する形状を有する少なくとも１つの孔部８を含む物質から作られるマスク７を配置する工程を含む。 - 特許庁

A mixing process is constituted to mix the first amorphous soft magnetic alloy powder having 30-100 μm of average particle size, the second amorphous soft magnetic alloy powder having 1-15 μm of average particle size, zinc stearate as a lubricating resin, and low-melting point glass of which the softening point is a crystallization temperature or less of each amorphous soft magnetic alloy powder.例文帳に追加

混合工程では、平均粒径が３０〜１００μｍが第１の非晶質軟磁性合金粉末と、平均粒径が１〜１５μｍの第２の非晶質軟磁性合金粉末と、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛と、軟化点が前記非晶質軟磁性合金粉末の結晶化温度以下の低融点ガラスを混合する。 - 特許庁

At an overlap printing process of four primary color (CMYK) ink, a first set using a main color part plate and a second set using a complementary color part plate are divided and further color separation data is corrected (an example of the correction expression is shown in Fig. 2) to optimize dot areas of the main color part plate and the complementary color part plate.例文帳に追加

４原色（ＣＭＹＫ）インキの重ね刷り過程について、主版色分版を使用する第一のセットと、補色分版を使用する第二のセットに分割し、かつ、色分解データに補正（当該補正式の一例を図２に示す）を加えて、主版色分版と補色分版の網点面積の最適化を図る。 - 特許庁

Then, when a secondary transfer process is carried out, a bias of the same polarity as that of toner is applied to the intermediate transfer body 8 by the first power source section 61 so that a current is constant, and a bias of the reverse polarity as that of toner is applied to the secondary transfer member 19 by the secondary power source section 62 so that a voltage is constant.例文帳に追加

そして、２次転写工程がおこなわれるときに、第１電源部６１によって電流が一定になるように中間転写体８にトナーと同極性のバイアスを印加するとともに、第２電源部６２によって電圧が一定になるように２次転写部材１９にトナーと逆極性のバイアスを印加する。 - 特許庁

A water-cooling unit 152 cools the water flowing out of a tank 130, and a heat exchanging unit 154 radiates the heat of a heat generation unit by executing the heat exchange between a paper sheet P in the conveying process or a first conveying passage PP1 to be heated by the paper sheet P, and water cooled by the water-cooling unit 152.例文帳に追加

水冷却部１５２は、タンク１３０から流出した水を冷却し、熱交換部１５４は、搬送過程にある用紙Ｐあるいは当該用紙Ｐにより加熱される第１の搬送路ＰＰ１と、水冷却部１５２による冷却後の水との間で熱交換を行うことにより、発熱部の放熱を行う。 - 特許庁

A voltage adjustment process S30 of a battery cell 1 includes primary discharging steps S310 to S370 for discharging electricity until a voltage (V) of the battery cell 1 becomes a first target voltage value (V1), and secondary discharging steps S410 to S440 for discharging electricity until the voltage (V) of the battery cell 1 becomes a second target voltage value (V2).例文帳に追加

電池セル１の電圧調整工程Ｓ３０は、電池セル１の電圧（Ｖ）が第一目標電圧値（Ｖ１）となるまで放電する一次放電ステップＳ３１０〜Ｓ３７０と、電池セル１の電圧（Ｖ）が第二目標電圧値（Ｖ２）となるまで放電する二次放電ステップＳ４１０〜Ｓ４４０と、を具備する。 - 特許庁

Disclosed is a method for extracting nickel and lithium, having a first process, in which a solution at least containing lithium and nickel is subjected to solvent extraction with 2-Ethylhexyl phosphoric acid mono-2-ethylhexyl ester, using three or more extraction stages, and the nickel and the lithium are co-extracted into a resultant organic phase at the pH of 8.0 to 8.5.例文帳に追加

少なくともリチウム、ニッケルを含む溶液を第１工程として、有機溶媒である２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシルエステルにより、３段以上の抽出段を使用し、溶媒抽出し、有機相中へニッケルとリチウムをｐH＝８．０から８．５において共抽出するニッケルとリチウムの抽出方法。 - 特許庁

In the constitution, consumption of the second special start storage data can be suppressed as much as possible even when the first special start storage data is hard to newly generate because of the continued normal symbol variation process, thereby appropriately maintaining elation of a player in the probability variable normal game state.例文帳に追加

かかる構成によれば、前記継続する普通図柄変動行程によって新たに第一特別始動記憶データが発生し難くなっている場合でも、第二特別始動記憶データの消化を可及的に抑制できるため、確変通常遊技状態における遊技者の昂揚感を適正に保ち得る。 - 特許庁

In the first process, in planar view in z-axis direction, dummy conductor layers 22 having shapes different from that of coil conductor layers 18 of the laminates 12 not overlapping with the cut marks 20 and overlapping with the whole cut marks 20 are formed within the laminates 12 overlapping with the cut marks 20.例文帳に追加

第１の工程において、ｚ軸方向から平面視したときに、カットマーク２０と重なる積層体１２内には、該カットマーク２０と重ならない積層体１２のコイル導体層１８とは異なる形状を有し、かつ、カットマーク２０の全体と重なる形状を有するダミー導体層２２を形成する。 - 特許庁

In the process for producing an R-Fe-B rare earth sintered magnet, first, there is prepared an R-Fe-B sintered magnet whose main phase consists of R_2Fe_14B compound crystal grains containing light rare earth element RL (at least one of Nd and Pr) as main rare earth element R.例文帳に追加

本発明によるＲ−Ｆｅ−Ｂ系希土類焼結磁石の製造方法では、まず、軽希土類元素ＲＬ（ＮｄおよびＰｒの少なくとも１種）を主たる希土類元素Ｒとして含有するＲ_2Ｆｅ_14Ｂ型化合物結晶粒を主相として有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を用意する。 - 特許庁

The image processor carries out a scroll display of a first image indicating the provided functions by using a sliding gage, extracts other functions related to that function when a process related to the function is executed, and displays a second image indicating the function with the image not displayed on the screen among the extracted functions in the vicinity of the sliding gage.例文帳に追加

画像処理装置は、備える機能を示す第１画像をスライドゲージを用いてスクロール表示し、機能に関する処理を実行した場合に、その機能と関連する他の機能を抽出し、抽出した機能のうち、画面に画像が表示されていない機能を示す第２画像をスライドゲージの近傍に表示する。 - 特許庁

This radio communication terminal includes: a radio processing portion; a thermometer for measuring temperature in a housing; and a control portion for stopping the operation of the radio processing portion, and performing a calculation process in which outputting a signal to the other composition portions including the radio processing portion is not carried, when the temperature measured by the thermometer is below a first predetermined temperature.例文帳に追加

無線通信端末は、無線処理部と、筐体内の温度を測定する温度計と、温度計において測定された温度が第１所定温度以下となる場合に、無線処理部の動作を停止させ、かつ、無線処理部を含む他の構成部に信号を出力しない演算処理を行う制御部と、を備える。 - 特許庁

An inclination allowance angle θ by the inclination restriction part is set so that the end peripheral edge of the convergently tapered outer surface 13 is located more inside the inner diameter than the open end peripheral edge of the divergently tapered inner surface 22 in a connecting process in the state where the first pipe 10 fully inclines.例文帳に追加

この傾き制限部による傾き許容角度θは、第１管１０が最大に傾いた状態での連結過程において、先細りテーパ状外面１３の先端周縁が先広がりテーパ状内面２２の開口端周縁よりも内径側に位置する状態になるように設定されている。 - 特許庁

The process for producing the blocked polyisocyanate composition includes: a first step of reacting a polyisocyanate (a) having a polyisocyanate backbone with a malonic acid diester (b) added thereto in an amount 75-150 mol% of the isocyanate group of the polyisocyanate (a); and a second step of reacting thus obtained product with an organic amine compound (c).例文帳に追加

ポリイソシアネート骨格を有するポリイソシアネート（ａ）に、マロン酸ジエステル（ｂ）を、ポリイソシアネート（ａ）のイソシアネート基に対し７５−１５０モル％添加し反応させる第１工程、並びに、この生成物と有機アミン化合物（ｃ）とを反応させる第２工程を含む、ブロックポリイソシアネート組成物の製造方法。 - 特許庁

This application provides a process in which a wafer is coated with a first chemically reactive precursor dose amount insufficient to result in a maximum saturated ALD deposition rate on the wafer, and then coated with a second chemically reactive precursor dose, the precursors being distributed in a manner to provide substantially uniform film deposition.例文帳に追加

ウェハを、ウェハ上で最大飽和ＡＬＤ堆積レートをもたらすのに充分に至らない量の、第１の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆し、次に、第２の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆され、前駆体は、ほぼ均一な膜堆積を実現するように分散されるプロセス。 - 特許庁

The process for forming metal films comprises: an electroless plating step (step S52) including reduction reaction using a first plating tank; an electroless plating step (step S54) only by substitution reaction using a second plating tank; and an electroless plating step (step S56) only by substitution reaction using a third plating tank.例文帳に追加

金属膜を形成する工程は、第１めっき槽を用いた還元反応を含む無電解めっき工程（ステップＳ５２）と、第２めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５４）と、第３めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５６）を含む。 - 特許庁

Furthermore, when the rear end of the first original document passes through a downstream-side reading position, the image reading of a front surface of the original document is similarly stopped (S7), a front surface initializing signal is outputted by the initializing signal generating circuit (S8), and the setting of the image process and the like for the front surface of the original document are initialized.例文帳に追加

また、１枚目の原稿の後端が下流側読取位置を通過すると、同様にして該原稿の表面の画像読み取りが停止されると共に（Ｓ７）、初期化信号生成回路により表面用初期化信号が出力され（Ｓ８）、原稿の表面についての画像処理等の設定が初期化される。 - 特許庁