「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(106ページ目) - Weblio英語例文検索

This method comprises a block manufacturing process for manufacturing two solar cell blocks 6 each of which is constructed of a substrate 1 and a photoelectric conversion device 5 provided on one surface thereof by laminating and forming a first electrode 2, a photoelectric conversion layer 3 consisting of an organic semiconductor, and a second electrode 4 on the one surface of the substrate 1 in this order.例文帳に追加

基板１の片面に第一電極２、有機半導体にて構成される光電変換層３、第二電極４をこの順に積層成形することで基板１とその片面に設けられた光電変換素子５とで構成される二つの太陽電池ブロック６を作製するブロック作製工程を含む。 - 特許庁

When the process part determines that the same serial number exists, the communication part transmits to the reader the fact that the same serial number exists, the position information of the reader (other reader) which read the serial number first and the reading time when the reader read the serial number (temporal information)(step 304).例文帳に追加

処理部が同一のシリアル番号が存在すると判断した場合、通信部は、同一のシリアル番号が存在する旨、このシリアル番号を先に読み取った読取装置（他の読取装置）の位置情報、及び、この読取装置がシリアル番号を読み取った際の読み取り時刻（時間情報）、を読取装置に送信する（ステップ３０４）。 - 特許庁

The secondary process has a first levigation step of: suspending coarse powder in water to levigate and classify; a supernatant levigation step of: levigating and classifying the supernatant obtained in the preceding levigation step; and a precipitation levigation step of: suspending the precipitation obtained in the preceding supernatant levigation step in water to levigate and classify.例文帳に追加

二次工程は、粗粉末を水に懸濁して水簸分級する第１水簸工程と、前に行った水簸工程で得られた上澄み液を水簸分級する上澄み水簸工程と、前に行った上澄み水簸工程で得られた沈殿物を水に懸濁して水簸分級する沈殿物水簸工程とを有している。 - 特許庁

A structure 21 constituted by aligning a first substrate 11 and a second substrate 13 by a sealing material 19 in the state of maintaining a prescribed gap 15 between these substrates is arranged into an internally evacuatable process chamber 27 in such a manner that the side provided with a liquid injection hole 21a exists on a lower side in a perpendicular direction.例文帳に追加

第一の基板11及び第二の基板13をこれら基板間に所定空隙15を維持した状態でシール材19によって貼り合わせて構成された構造体21を、内部が排気可能な処理室内27に、液晶注入孔21a が設けられた側が鉛直方向の下方側になるように、配置する。 - 特許庁

Respective programmable elements are constituted of depletion type transistors D100, D101 being same as memory cells of a mask ROM apparatus, the depletion type transistors are programmed in a first program state of a conduction state in an ion injection process for memory cells of the mask ROM apparatus or in a second program state of a non-conduction state.例文帳に追加

プログラム可能な素子の各々はマスクＲＯＭ装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタＤ１００，Ｄ１０１で構成され、空乏型トランジスタはマスクＲＯＭ装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第１プログラム状態又は非導通状態の第２プログラム状態にプログラムされる。 - 特許庁

In a fitting process of both housings 10, 60, a first terminal fitting 50 and a second terminal fitting 70 are contacted with each other, and a collective rubber stopper 30 (sealing member) is contacted with a second housing 60 after a detecting part 63 has passed through a position hit-contacting against its lance when the lance 14 is elastically bent.例文帳に追加

両ハウジング１０，６０の嵌合過程において、検知部６３が、ランス１４が弾性撓みしている場合にそのランス１４に突き当たる位置を通過した後で、第１端子金具５０と第２端子金具７０が接触するとともに、一括ゴム栓３０（シール部材）が第２ハウジング６０と接触する。 - 特許庁

In order to manufacture the thin film transistor, having a laminated structure provided with a semiconductor thin film 5 composed of polycrystalline silicon, an oxidized film 3 composed of the oxide of silicon and a gate electrode film and a thin-film forming process for forming the semiconductor thin film 5 composed of an amorphous silicon on an insulating substrate 0 is carried out first.例文帳に追加

多結晶シリコンからなる半導体薄膜５と、シリコンの酸化物からなる酸化膜３と、ゲート電極膜とを含む積層構造を有する薄膜トランジスタを製造する為に、先ず、絶縁性の基板０に非晶質シリコンからなる半導体薄膜５を形成する薄膜形成工程を行なう。 - 特許庁

An exclusive control means 40a exclusively selects one of the image output requests when the image output requests from the first and second image output requesting devices 3, 2 are in conflict with each other, and then permits the control information production means 43 to process the selected image output request.例文帳に追加

排他制御手段４０ａは、第１の画像出力要求装置３からの画像出力要求と第２の画像出力要求装置２からの画像出力要求が競合する場合に、排他的に一方を選択し、選択した画像出力要求を制御情報生成手段４３に処理させる。 - 特許庁

In a process of recording data into a medium, when the recorded data is standard compliant data for BD standard, AVCHD standard, or the like, the management information of the recorded data is recorded into a first standard compliant data-only management information file, and when the data is standard non-compliant data, management information of the data is recorded into a second management information file.例文帳に追加

メディアに対するデータ記録処理に際して、記録データがＢＤ規格やＡＶＣＨＤ規格などの規格対応データである場合は、規格対応データ専用の第１管理情報ファイルにデータの管理情報を記録し、規格非対応データである場合は、第２管理情報ファイルに、データの管理情報を記録する。 - 特許庁

The printing method includes: a printing mode selection step SS3 of selecting any one of a first printing mode and a second printing mode based on printing position error data D1 and an permissible printing position error D2; and a printing processing step S2 of performing the printing process on a recording medium based on the selected printing mode.例文帳に追加

印刷位置誤差データＤ１と許容印刷位置誤差Ｄ２とに基づいて、第１の印刷モード及び第２の印刷モードのいずれか一方を選択する印刷モード選択工程ＳＳ３と、選択した印刷モードに基づいて記録媒体に印刷処理を実行する印刷処理工程Ｓ２と、を備えた印刷方法である。 - 特許庁

This is a method and a device for controlling pullback movement of a machining electrode in an electrolytic corrosion device in which the machining electrode is moved reversely along a machining path B (first pullback path) in which it moves in advance and along a pullback path RV (second pullback path) defined concerning the machining path B when a failure occurs in a machining process.例文帳に追加

加工工程中の故障の際に、加工電極が予め移動した加工経路（B）（第１引戻し経路）に沿って、また加工経路（B）に関して定義された引戻し経路（RV）（第２引戻し経路）に沿って逆行運動される、電食装置における加工電極の引戻し運動の制御方法及び装置。 - 特許庁

To provide a service switching method, a server, a terminal, and a program for group communication that can provide a second service as much as possible even when a terminal which can not process data of a data kind based upon the second service is present as a member when performing switching from a first group communication type service to the second service.例文帳に追加

第１のグループ通信型サービスから第２のサービスに切り替える際に、第２のサービスに基づくデータ種別のデータを処理できない端末がメンバとして存在している場合であっても、できる限り第２のサービスを提供できるようにするサービス切替方法、サーバ、端末及びプログラムを提供する。 - 特許庁

In one embodiment, the boron nitride powder surface is first treated by either a firing process, or by coating with at least an inorganic compound so as for the surface to have a plurality of reactive sites containing at least one functional group that is reactive to at least one functional group of the organosilicon compound.例文帳に追加

１つの実施形態では、窒化ホウ素粉末表面は最初に、焼成工程によるか又は少なくとも無機化合物でコーティングすることによるかのいずれかによって処理され、表面が、有機シリコン化合物の少なくとも１つの官能基に反応する官能基を少なくとも含む複数の反応部位を有するようになる。 - 特許庁

Then, when the validity verification of the certificate has been requested from an application, a verification controller 112 first checks whether the pass building of the certificate has been successfully completed in the pass building information storage 106 or not, and if being successfully completed, makes a pass verification section 114 execute a pass verification process.例文帳に追加

そして、アプリケーションから証明書の有効性の検証が要求された場合、検証制御部１１２はまずパス構築情報記憶部１０６にてその証明書のパス構築が成功裏に済んでいるかどうかを調べ、そうであればパス検証部１１４に公知のパス検証処理を実行させる。 - 特許庁

To increase a work function difference between a metal compound used in the gate electrode pattern of a n-channel MOS transistor and a metal compound used in the gate electrode pattern of a p-channel MOS transistor, in the n-channel MOS transistor which is formed in a gate first process and which uses the metal compound as the gate electrode pattern.例文帳に追加

ゲートファーストプロセスで形成できる、金属化合物をゲート電極パターンとして使うｎチャネルＭＯＳトランジスタにおいて、ｐチャネルＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンに使われる金属化合物に対し、前記ｎチャネルＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンに使われる金属化合物の仕事関数差を増大させる。 - 特許庁

A dual-view display control unit 114b instructs a liquid crystal display controller 115 to switch a display mode from a single view display mode to a dual view display mode when a verification process is succeeded and to simultaneously display a first operation screen and a second operation screen on a liquid crystal panel 111 by the dual view display mode.例文帳に追加

デュアルビュー表示制御部１１４ｂは、認証処理が成功した場合に、表示モードをシングルビュー表示モードからデュアルビュー表示モードに切り替え、デュアルビュー表示モードによって、第１の操作画面及び第２の操作画面を液晶パネル１１１に同時表示できるように、液晶表示コントローラ１１５に指示をする。 - 特許庁

Since a development tendency to various steps is displayed by a color element of a pattern stopped in the first place, expectation of a player is stimulated and the player is greatly attracted to the fluctuation form from the beginning of the fluctuation, so that significance of the pattern fluctuation is increased and amusement of a pattern decision process is improved.例文帳に追加

最初に停止する図柄の色要素により、種々の段階への発展傾向を表示するようにしたから、遊技者は、図柄の変動当初から、期待感を刺激され、その変動態様に大きな注意を払うこととなって、図柄変動の意義が向上し、かつ図柄の確定過程が興趣あるものとなる。 - 特許庁

For the production process of an organic EL element by laminating a positive electrode, an organic EL layer and a negative electrode formed of at least two negative electrode layers in this order on one side of an element substrate, a laminating speed of the first negative electrode layer laminated is controlled to a rate exceeding 0.01 nm/sec.例文帳に追加

素子基板の片面に陽極と有機ＥＬ層と少なくとも２層以上の陰極層から構成される陰極とをこの順序で積層する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記積層する最初の陰極層の積層速度を０．０１ｎｍ／ｓｅｃを超える速度に制御する。 - 特許庁

A second rule similar to a first rule corresponding to the control parameters to be adjusted is estimated based on the generated reference information and adjustment process data obtained by adjusting the reference data in accordance with the environmental change of the device, and the setting values of the control parameters to be adjusted are set by using the estimated second rule.例文帳に追加

生成した基準情報と、装置の環境変化に応じて基準データを調整した調整過程データとに基づいて、調整対象の制御パラメータに対応する第１ルールに類似する第２ルールを推定し、その推定した第２ルールを用いて、前記調整対象の制御パラメータの設定値を設定する。 - 特許庁

An individual flow creation part 105 selects processing in which values of the process key match each other between processing executed in the task executed first and processing executed in the task executed later based on the transaction data 202 by every group and creates individual flows 206 indicating that the two selected processings are continuously executed.例文帳に追加

個別フロー作成部１０５は、グループごとに、トランザクションデータ２０２に基づき、先に実施されるタスクにて実行される処理と後に実施されるタスクにて実行される処理とでプロセスキーの値が一致する処理を選択し、選択した２つの処理が連続で実行されることを示す個別フロー２０６を作成する。 - 特許庁

The occurrence of wrinkles or the like at a flange or the like is prevented by gradually bending the whole width of the plate so as to form it the preset dimension without bending at one time in order to make the whole width of the plate to the preset dimension in a first to fourth process after bending the plate in the direction of the plate length.例文帳に追加

第１乃至第４工程では、プレートの全体の幅を設定寸法にするために一度に湾曲させずに、プレートの全体の幅を、設定寸法となるように次第に湾曲させることで、前記プレートをプレート長の方向へ曲げ加工した後、フランジ部等にしわ等が発生することを防ぐ。 - 特許庁

Information to be displayed in the screen 5 is, for example, information showing that the work 2 has been machined in the third process when the work 2 is in a state of having finished with first to third processes, and information not concerning a workman is not shown in the screen 5.例文帳に追加

画面５に表示される情報としては、例えばワーク２が第１工程から第３工程まで終了した状態にあるとき、その第３工程で処理された旨の情報が画面５に表示されるようになっており、作業者が関わり合う必要のない情報の場合には、画面５に表示しなくともよい。 - 特許庁

A signal processing circuit 13 designed to process signals from a sensor chip 12, which has a pair of fixed electrodes and a movable electrode located therebetween, includes the fully differential C-V conversion circuit 26, a control signal generation circuit 25, and a control circuit 25 which controls first to sixth switches 31 to 36 and the like.例文帳に追加

一対の固定電極部とそれらの間に配置される可動電極部とを有するセンサチップ１２からの信号を処理するための信号処理回路１３を、全差動型のＣ−Ｖ変換回路２６、制御信号発生回路２５、第１〜第６のスイッチ３１〜３６を制御する制御回路２５等から構成する。 - 特許庁

This disclosed method includes generating an unanswered factor to record the number of unhandled events received by the mobile phone; receiving an incoming event on the mobile phone, as the incoming event being a received phone call or a received message; updating the unanswered factor in response to the incoming event; and executing a first managing process when the unanswered factor exceeds a predetermined threshold.例文帳に追加

方法は、未返答ファクターを生成して携帯電話の未処理イベントの数量を記録し、携帯電話で発話またはメッセージである着信イベントを受信し、着信イベントに応じて未返答ファクターを更新し、未返答ファクターが所定閾値を超えると第一管理プロセスを実行するステップからなる。 - 特許庁

A process is performed, wherein the first illumination light is irradiated from a direction orthogonal to the electronic component 13, and the second illumination light is irradiated from an oblique direction to the electronic component, to generated a contrast difference between the electronic component 13 and a peripheral portion, and to thereby detect the contour of the electronic component 13.例文帳に追加

電子部品１３に対して直交する方向から第１照明光を照射するとともに、電子部品に対して斜め方向から第２照明光を照射し、電子部品１３とこの周りの部位とにコントラスト差を生じさせて、電子部品１３の輪郭を検出する工程を行う。 - 特許庁

The electrostatic charge image developing toner having a core-shell structure obtained by coating the surface of a core part with a shell layer contains a crystalline substance in the core part and the shell layer and is characterized in that the endothermic peak (P1) in a first temperature rising process by the DSC of the crystalline substance is 50 to 100°C.例文帳に追加

コア部にシェル層を被覆してなるコア・シェル構造を有する静電荷像現像用トナーにおいて、該コア部とシェル層に結晶性物質を含有し、該結晶性物質のＤＳＣによる第一昇温過程での吸熱ピーク（Ｐ１）が５０〜１００℃であることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

In some embodiments, a heating system is provided that comprises a plurality of heating technologies for heat treatment of substrates, where a first heating system is used to rapidly raise temperature of the substrate to a desired set point and a second heating system is used to maintain the substrate at the temperature set point throughout a thermal treatment process.例文帳に追加

幾つかの実施態様では、基材の熱処理のための複数の加熱技術を含む加熱システムが提供され、第１の加熱システムが基材の温度を所望の設定値に急速に上昇させるのに用いられ、第２の加熱システムが熱処理プロセス全体を通して基材を設定値の温度に維持するのに用いられる。 - 特許庁

In the second dividing process, the second substrate base material 32 is divided by applying laser beams while a reflection membrane 14 for reflecting laser beams is arranged between the first substrate base material 31 and the second substrate base material 32 to let it overlap on the second dividing line when viewed in the direction of slope line on a surface of the second substrate base material 32.例文帳に追加

第２分断工程では、レーザー光を反射する反射膜１４を、第２基板母材３２の表面の法線方向から見て第２分断ラインに重なるように、第１基板母材３１と第２基板母材３２との間に配置した状態で、第２基板母材３２をレーザー分断する。 - 特許庁

This device comprises a first voice synthesis output means 24 for calling attention so that a passenger inside the elevator car 13 does not influence the inspection during inspection of an elevator door and a second voice synthesis output means 25 for notifying the passenger of the inspection in process during the inspection that may cause vibration to the elevator car 13.例文帳に追加

エレベータドアの点検動作時に乗りかご１３内の乗客が点検に影響を及ぼさないように注意を促す第１の音声合成出力手段２４と、乗りかご１３に振動が発生する点検動作時に乗客に点検中である旨を報知する第２の音声合成出力手段２５とを備えた。 - 特許庁

In the biological treatment process 101, a mixture liquid containing 10^7-10^10 per milliliter of microorganisms and a nutrient source for growth promotion of the microorganisms are fed to a first aeration tank together with waste water, and while the microorganism form a biomembrane on the surface of activated carbon, they decompose organic matter in the waste water.例文帳に追加

生物処理工程１０１では、１ミリリットル当たり１０^７〜１０^１０個の微生物を含む混合液と微生物の増殖を促進させる栄養源とが廃水とともに第１曝気槽に投入され、微生物が活性炭の表面に生物膜を形成しつつ廃水中の有機物を分解する。 - 特許庁

In the process of inserting the hose H into the pipe P, a thrust portion 7 of the seal retainer 1 thrusts a first lug operation portion 9 of the hose clamp 2 to cause axial movement thereof relative to a second lug operation portion 10, and so both lug operation portions 9, 10 are disengaged from each other and the hose clamp 2 is changed into a diameter shrunk condition.例文帳に追加

ホースＨを配管Ｐへ差し込む過程で、シールリテーナ１の押圧部７がホースクランプ２の第１つまみ操作部９を押圧して第２つまみ操作部１０との間で軸方向へ相対移動を生じさせるため、両つまみ操作部９．１０間の係止が解かれ、ホースクランプ２が縮径状態へと移行する。 - 特許庁

A prescribed rate of water out of the total water volume necessary for the washing process is fed from a first water supply port 105 of a water supply device 100 to the adjacency of the circumferential wall of the washing tub 30 along with detergent, and the residual water is dispersedly fed from a second water supply port of the water supply device 100 toward the center of the washing tub 30.例文帳に追加

洗濯工程に要する総水量のうち所定割合分は洗剤と共に給水装置１００の第１給水口１０５から洗濯槽３０の周壁近傍に給水され、残余の水は給水装置１００の第２給水口１１０より洗濯槽３０の中央寄りに拡散給水される。 - 特許庁

In this process, a discharge stroke rotation speed Rex, an intake stroke rotation speed Rin, and a compression stroke rotation speed Rcp are estimated by referring to a map in a first cycle in starting based on an explosion order, the cooling water temperature Tw, and a fuel property Fp for each cylinder.例文帳に追加

当該処理では、各気筒について、爆発順序並びに冷却水温Ｔｗ及び燃料性状Ｆｐに基づいて、各々始動一サイクル目における排気行程回転速度Ｒｅｘ、吸気行程回転速度Ｒｉｎ及び圧縮行程回転速度Ｒｃｐがマップを参照して推定される。 - 特許庁

To provide a developing device in which first, a user is made less likely to touch a filter in toner is clogged when the user replaces the developing device, second, toner is prevented from scattering even when it passes through the filter, and third, the filter is prevented from being clogged with developer, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

第１にユーザーが現像装置を交換するときにトナーが詰まったフィルタに触れにくく、第２にトナーがフィルタをすり抜けてしまってもトナーが方々に飛散することがなく、第３にフィルタが現像剤で塞がれることがない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A process material 1 for manufacturing the IC card is composed of an adhesive layer 1b and a transparent film 1a having a first face provided with the adhesive layer 1b and a second face 2 which is not provided with the adhesive layer, and the adhesive strength of the adhesive layer 1b is changed by light irradiation.例文帳に追加

接着層１ｂと、該接着層１ｂが設けられた第１の面および該接着層が設けられていない第２の面を有する透明フィルム１ａとからＩＣカードを製造するための工程材料１を構成し、前記接着層１ｂの接着力を光線照射によって変化させる。 - 特許庁

In at least one of the first and second interconnection portions 10a and 10b, the amount of foaming liquid flowing out from the foaming chamber 10 into the second channel CH2 is different from the amount of foaming liquid flowing from the second channel CH2 into the foaming chamber 10 in the foam reduction process.例文帳に追加

第１、第２連通部１０ａ，１０ｂの少なくとも一方は、気泡発生過程において発泡室１０から第２流路ＣＨ２へと流出する発泡液の液量が、気泡減少過程において第２流路ＣＨ２から発泡室１０へと流入する発泡液の液量と異なる。 - 特許庁

In an approximate quotient calculation process (S10), for an approximate quotient to a true quotient, when dividing a first integer (A) by a second integer (N), a value of lower bits for a predetermined bit number based on relation between a true quotient and an approximate quotient is computed, by using the quotient when dividing a power of 2 by the second integer.例文帳に追加

近似商算出処理（Ｓ１０）において、第１整数（Ａ）を第２整数（Ｎ）で割った場合の真の商に対する近似の商について、２のべき乗を第２整数で割った場合の商を用いて、真の商および近似の商の関係に基づく所定のビット数分の下位ビットの値が算出される。 - 特許庁

To provide a probe card provided with an interposer, capable of suppressing conduction failure between electrodes of the first substrate (main substrate) and the second substrate (sub-substrate) by thermal deformation of the interposer which occurs in high-temperature thermal test or device thermal test, improving the production yield, and shortening the production process time.例文帳に追加

高温熱試験時あるいはデバイス熱試験時に発生するインターポーザの熱変形による第１基板（メイン基板）と第２基板（サブ基板）の電極間の導通不良の発生を抑制し、しかもその製造歩留まりが向上し、製造工程時間が短くなるインターポーザを備えたプローブカードを提供する。 - 特許庁

In an interface unit 4 of the coating/developing process system 1, first and second partitioning plates 82, 85 are arranged, which partition a transfer region 50 in which a wafer transfer mechanism 54 is arranged, a heat treatment region 51 in which a sixth processing device group G6 is arranged, and an interface region 52 in which a wafer transfer member 80 is arranged.例文帳に追加

塗布現像処理システム１のインタフェイス部４に，第１及び第２仕切板８２，８５を設け，ウェハ搬送機構５４が配置された搬送領域５０と，第６の処理装置群Ｇ６が配置された熱処理領域５１と，ウェハ搬送体８０が配置された受け渡し領域５２とに分ける。 - 特許庁

This method for sticking an elastic strand to a flat substrate or a material sheet includes a process for moving the elastic strand and the material sheet so that the elastic strand and the material sheet is collected from the first position where the elastic strand is separated from the material sheet, to the second position where the elastic strand contacts with the material sheet.例文帳に追加

弾性ストランドを平坦基体または材料シートに固着する本発明の方法は、弾性ストランドおよび材料シートを、弾性ストランドが材料シートから離間している第１の位置から、弾性ストランドが材料シートの表面に接触する第２の位置に集束するように移動させることを含む。 - 特許庁

In a first process, when descending a pressing fixture 5, excessive pressing force is not applied to the part 10 and impact applied to the part 10 is eliminated by controlling a drive current to drive a servomotor 3 so that the pressing fixture is descended in a high speed immediately before a part 10 is pressed.例文帳に追加

第１加圧工程では、加圧具５を下降させる際に、部品１０を加圧加工する寸前まで加圧具５が高速で加工するようにサーボモータ３を駆動する駆動電流値を制御することで、部品１０に過大な加圧力が加わることが無く、部品１０に加わる衝撃を無くすことができるようになる。 - 特許庁

Further, as a manufacturing method suitable for manufacturing this screen printing plate 20, the manufacturing method for completing a metal mask screen plate 4 consists of two stages of a plating treatment process or a first plating layer of the formation of some part of the metal plate 2 and the mesh 4 and a second plating layer or the lamination of the metal plate 2.例文帳に追加

および、本発明のスクリーン印刷版２０を製造するのに適した製造方法であって、２段階のメッキ処理の工程により１層目のメッキ層で金属板２の１部およびメッシュ４を形成し、２層目のメッキ層で金属板２を積層して完成させるメタルマスクスクリーン版の製造方法である。 - 特許庁

By so laminating first and second laminated blocks (laminated green blocks) 10, 20 respectively and independently of each other as to create an intermediate product, there are reduced the unevennesses (unbalances) of the filling densities, etc., of the respective blocks 10, 20 which are caused by the process hysteresises of their laminated hierarchies (the times of pressing them, etc.).例文帳に追加

第１の積層ブロック体（積層グリーンブロック体）１０と第２の積層ブロック体（積層グリーンブロック体）２０とを別々にそれぞれ積層して中間品を作製することにより、各ブロック体１０及び２０における積層階層の工程履歴（加圧回数等）による充填密度等の不均一（アンバランス）は減少する。 - 特許庁

By inputting the calculated number, optimization computation of an evaluation function J_A (first optimization computation) is performed in which an evaluation value of the evaluation function J_A decreases or increases as the evaluation results go higher of minimizing the number of replacement of different steel types, leveling of a refining load in each refining process on the rolling scheduled date basis, and keeping a rolling due date.例文帳に追加

これを入力として、異鋼種継目数の最小化と、圧延計画日を基準とした各精整工程における精整負荷の平準化と、圧延期限日の遵守に関する評価が高いほど値が小さく又は大きくなる評価関数Ｊ_Aの最適化計算（１回目の最適化計算）を行う。 - 特許庁

There is provided a fabricating process for attaching an oxide superconductive thin film with a buffer to a sapphire substrate, wherein a first buffer layer 2 comprising CeO_2 is formed on an R surface sapphire substrate 1, and then a second buffer layer 3 comprising Sm_2(1-x) Gd_2x O_3 (0≤x≤1) and next the superconductive thin film 4 is formed.例文帳に追加

サファイア基板へのバッファ層付き酸化物超伝導薄膜の製造方法において、Ｒ面サファイア基板１上にＣｅＯ_２ からなる第１のバッファ層２を形成し、次いで、Ｓｍ_２（１−ｘ）Ｇｄ_２ｘＯ_３ （０≦ｘ≦１）からなる第２のバッファ層３を形成し、次いで、超伝導薄膜４を形成する。 - 特許庁