「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(109ページ目) - Weblio英語例文検索

The process for forming the semiconductor features includes steps of preparing a liquid composition containing one or more organic semiconductors, converting the liquid composition from non-Newtonian type at a first temperature into a Newtonian type at a second temperature, and depositing the converted liquid composition on a substrate for forming one or more semiconductor features.例文帳に追加

１つ又はそれ以上の有機半導体を含む液体組成物を準備し、液体組成物を、第１の温度における非ニュートン型から第２の温度におけるニュートン型へ変換し、変換された液体組成物を基板上に堆積させて１つ又はそれ以上の半導体フィーチャを形成するステップを含む、半導体フィーチャを形成するプロセス。 - 特許庁

In a photoetching process step for forming gate wiring having a first compensation pattern, data wiring to define a pixel region formed to intersect with the gate wiring and the source/drain electrode, the capacitor electrode having the second compensation pattern formed on the prescribed region of the gate wiring is inclusively constituted.例文帳に追加

本発明は、第１補償パターンを有するゲート配線と、前記ゲート配線と交差されるように形成されて画素領域を定義するデータ配線と、ソース／ドレイン電極形成のためのフォトエッチング工程時、絶縁膜を間に置き、前記ゲート配線の所定領域上に形成され第２補償パターンを有するキャパシタ電極を包含して構成される。 - 特許庁

In a first exemplary media mounting embodiment, electronically executable instructions for the video renderer precipitate actions including issue of a query requesting information about process amplifier (ProcAmp) capabilities to the graphics device driver and reception of a response including requested information from the graphics device driver.例文帳に追加

第１の典型的な媒体への実装態様では、ビデオ・レンダラーに対するその電子的に実行可能な命令は、プロセス増幅器（ＰｒｏｃＡｍｐ）能力に関する情報を要求する照会をグラフィックス・デバイス・ドライバに対して発行すること、要求した情報を含む応答をこのドライバから受信することを含む動作を引き起こす。 - 特許庁

A first subsystem 16 related to a department for preparing components of a basic plan related to business registers bibliographical information about the basic plan, a result predetermined by performing the basic plan, performance items corresponding to a process for basic plan performance, its person in charge, an expense plan or the like in a DB 12 through a main system 10.例文帳に追加

事業にかかわる基本計画の構成要素を作成する部署に関連する第１のサブシステム１６は、基本計画にかかる書誌的情報、基本計画の遂行により予定される成果物、基本計画遂行のための工程に対応する実施項目、その主務者、経費計画などを、メインシステム１０を介してＤＢ１２に登録する。 - 特許庁

The method for producing a hydrophobic, lightweight and porous silica gel comprises a first step for preparing wet gel slurry that is flowable in a non-aqueous solvent by a sol-gel process, a second step for preparing hydrophobic wet gel by reacting the wet gel with a hydrophobic agent, and a third step for drying the hydrophobic wet gel.例文帳に追加

ゾル−ゲル法により非水性溶媒中で流動性のあるウェットゲルスラリーを調製する第一の工程、該ウェットゲルと疎水化剤とを反応させて疎水化ウェットゲルを調製する第二の工程、該疎水化ウェットゲルを乾燥する第三の工程、とからなることを特徴とする疎水性で軽量な多孔質シリカゲルの製造方法とする。 - 特許庁

In a first aspect, the method comprises: (a) applying a curable composition on a substrate; (b) applying a hard mask composition above the curable composition; (c) applying a photoresist composition layer above the hard mask composition wherein one or more of the compositions are removed in an ash-free process.例文帳に追加

第一の態様においては、（ａ）基体上に硬化性組成物を適用する工程、（ｂ）硬化性組成物上にハードマスク組成物を適用する工程、（ｃ）ハードマスク組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程を含む方法であって、アッシングを含まないプロセスにおいて一以上の組成物を除去する工程、を含む方法が提供される。 - 特許庁

During the process of source/drain region formation after the formation of a well region and a gate electrode for the construction of this MOS transistor, Ge or Si ions are first implanted for making amorphous the source/drain forming regions, and then two or more species of impurity ions different in mass number but the same in conductivity type are successively implanted into the regions by using the ion implantation method.例文帳に追加

ＭＯＳ型トランジスタの形成において、ウェル領域、ゲート電極を形成した後、ソース・ドレイン領域を形成する際、Ｇｅ又はＳｉをイオン注入してアモルファス化した後、連続して質量数の異なる２種類以上のイオン種で且つ同じ導電型の不純物をイオン注入法により注入することを特徴とする。 - 特許庁

Quantity of the cobalt to be formed in the first process is regulated at 65 wt.% or more and less than 85 wt.% of the quantity of the cobalt contained in the overall active material, and the entire quantity of the cobalt in the active material is regulated at 5 wt.% or more and less than 10 wt.% of the entire quantity of the nickel contained in the active material.例文帳に追加

そして、第１工程で生成するコバルト量が活物質全体に含まれるコバルト量の６５重量％以上で８５重量％未満になるように規定するとともに、活物質中の全コバルト量を活物質中の全ニッケル量の５重量％以上で１０重量％未満になるように規定する。 - 特許庁

A printer control device performs, in image formation process control, processing of detecting a misalignment detection pattern (step S305), and processing of detecting a concentration detection pattern (step S307), and thereafter refers to a first reference signal level and a second reference signal level to determine whether the results of the detection processing are valid or not (step S309).例文帳に追加

プリンタ制御装置は、画像形成プロセス制御において、位置ずれ検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０５）、及び濃度検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０７）を行った後、第１参照信号レベル及び第２参照信号レベルを参照し、検出処理の結果が有効であるか否かを判断する（ステップＳ３０９）。 - 特許庁

At the setting process step, adjustment of the shape of the image itself is performed such as adjustment of parallelism, squareness, magnification and the like is performed in first and then adjustment of image forming position for adjusting the position of the image with respect to the recording material such as adjustment of side skew, lead registration, side registration, front and rear registration and the like.例文帳に追加

この設定工程においては、平行度調整、直角度調整、倍率調整などの画像自体の形状を調整する画像形状調整を先に行い、その後にサイドスキュー調整、リードレジ調整、サイドレジ調整、表裏レジ調整などの記録材に対する画像の位置を調整する画像形成位置調整を行う。 - 特許庁

To provide an external-appearance inspecting method whereby it is prevented to identify erroneously as a defective pixel the pixel which is not corresponding to a true defective pixel existent in an inspected object, and it is made possible to identify also correctly as a defective pixel the pixel which is corresponding to a true defective pixel and has not been identified as the defective pixel in a first identifying process.例文帳に追加

被検査体に存在する真の欠陥に対応しない画素を欠陥として誤って認定することを防止するとともに、真の欠陥に対応する画素であって第一認定工程において欠陥として認定されなかった画素も欠陥として正しく認定することができる外観検査方法を提供する。 - 特許庁

In the screen control method for the image forming apparatus that has an operation display means having a screen display means as a user operation means and performs an image forming process selected for input document information, an item to be displayed on the screen display means first is selected according to the selected type of the input document information.例文帳に追加

ユーザ操作手段として画面表示手段を有する操作表示手段を備え、入力原稿情報に対して選択された画像形成処理を行う画像形成装置の画面制御方法において、選択された入力原稿情報の種別に応じて、前記画面表示手段に最初に表示する項目を選択する。 - 特許庁

The acrylonitrile of 30-85 pts.wt., the halogen containing vinyl monomer of 15-70 pts.wt. and the sulfonic acid containing vinyl monomer of 0-10 pts.wt. in the water medium are at first emulsion polymerized by using the water-soluble initiator and then the process is changed to suspension polymerization during the polymerization reaction to produce the copolymer.例文帳に追加

アクリロニトリル３０〜８５重量部、ハロゲン含有ビニル系単量体１５〜７０重量部、スルホン酸基含有ビニル系単量体０〜１０重量部を、水を媒体として共重合するに際し、水溶性重合開始剤を用いて乳化重合法で重合を開始し、重合途中に懸濁重合に移行させる製造方法により達成される。 - 特許庁

In the process A, a film-forming material is supplied (202) to allow inorganic starting gas to attach to the substrate being unreacted during the heating of the substrate up to a film-forming temperature, and an oxygen radical is supplied to the substrate for performing (203) RPO (remote plasma oxidation) treatment to form the first film layer thereon.例文帳に追加

第１薄膜層形成工程Ａは、基板温度を成膜温度まで昇温させる基板昇温加熱の途中で、有機原料ガスを基板上に未反応のまま付着させる成膜原料供給を行なった後（２０２）、酸素ラジカルを基板上に供給して第１の薄膜層を形成するＲＰＯ（リモートプラズマ酸化）処理を行なう（２０３）。 - 特許庁

This method is a method for the detection utilizing an RNA- amplifying process of an RNA derived from a tdh-related hemolysin gene (trh2) of Vibrio parahamolyticus, wherein, the oligonucleotide shown by sequence 1 of the specification is used as a first primer and the oligonucleotide shown by sequence 2 of the specification is used as a second primer.例文帳に追加

試料中に存在する腸炎ビブリオ菌の耐熱性溶血毒類似溶血毒遺伝子（ｔｒｈ２）に由来するＲＮＡのＲＮＡ増幅工程を利用した検出法において、第一のプライマーとして配列番号１のオリゴヌクレオチド、第二のプライマーとして配列番号２のオリゴヌクレオチドを用いることを特徴とする、検出法。 - 特許庁

The first method for producing the phosphor comprises a process of heating for firing phosphor raw materials containing elements constituting the parent materials of the phosphor and an activator, or compounds containing such the elements in producing a divalent Eu-activated sulfide phosphor (e.g., SrGa_2S_4:Eu), while flowing or rotating the raw materials in a rotary heating furnace.例文帳に追加

第１の蛍光体の製造方法は、２価Ｅｕ付活硫化物蛍光体（例えば、ＳｒＧａ_２Ｓ_４：Ｅｕ）を製造するにあたり、蛍光体の母体および付活剤を構成する元素または該元素を含有する化合物を含む蛍光体原料を、回転する加熱炉内で流動または転動させながら加熱して焼成する工程を備える。 - 特許庁

Part of a first mark 19 formed concurrently in a process of forming a metallic wire 21 is exposed in a rectangular shape, in two parallel side faces or one side face of the semiconductor device 26 separated into an individual piece by dicing, thereby enabling orientation of the semiconductor device and the product information to be identified in the compact semiconductor device.例文帳に追加

金属配線２１の形成工程と同時形成された第１のマーク１９が、ダイシングにより個片化された半導体装置２６の互いに平行な２つの側面、または１つの側面に一部が矩形状に露出されて、小型の半導体装置における半導体装置の方向及び製品情報の識別を可能とする。 - 特許庁

This polyurethane resin aqueous dispersion is obtained by the following process: first, a reaction is carried out between a polyisocyanate, polycaprolactone polyol(s) comprising that (those) with a number-average molecular weight of ≥3,000 and an active hydrogen group-containing compound bearing anionic group to synthesize an isocyanate-terminated prepolymer, and the prepolymer is then reacted with a polyamine in water.例文帳に追加

まず、ポリイソシアネートと、少なくとも数平均分子量３０００以上のものを含むポリカプロラクトンポリオールおよびアニオン性基を有する活性水素基含有化合物とを反応させて、イソシアネート末端プレポリマーを合成し、次いで、得られたイソシアネート末端プレポリマーを、水中でポリアミンと反応させることによってポリウレタン樹脂水分散液を得る。 - 特許庁

By this multithread processing method, only one call-dedicated thread 20 which calls a single-thread program 18 is generated and used when a single-thread program 18 is called first and executed by one specific thread 16 of a multithread program 10 to call and execute the single-thread program 18 for a different process from the multithread program 10 which can execute multiple threads in parallel.例文帳に追加

複数のスレッドを並行して実行可能なマルチスレッドプログラム１０から別プロセスのシングルスレッドプログラム１８を呼出して実行する場合に、マルチスレッドプログラム１０の特定の１スレッド１６によりシングルスレッドプログラム１８を最初に呼出して実行する際に、シングルスレッドブログラム１８を呼出す唯一の呼出専用スレッド２０を生成して使用する。 - 特許庁

The plasma processing device guides the microwaves M transmited inside a wave guide 3 from first and second slot antennas provided to a magnetic field surface H, forms a surface wave S, produces surface wave excitated plasma P by exciting process gas inside a chamber 4 by the surface wave S and processes a processing object by the plasma P.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、導波管２内を伝播するマイクロ波Ｍを磁界面Ｈに設けられた第１および第２のスロットアンテナからマイクロ波導入窓３に導き、表面波Ｓを形成し、表面波Ｓによってチャンバー４内のプロセスガスを励起して表面波励起プラズマＰを生成し、このプラズマＰにより被処理物を処理する。 - 特許庁

In solenoid output processing, a CPU for controlling display controls a game presentation device in accordance with contents of a movement control execution table set at the first of process data so that movement based on advance notice presentation determined already in continuous advance notice presentation selection processing is executed when a timer for determining advance notice start time is out.例文帳に追加

ソレノイド出力処理において、表示制御用ＣＰＵは、予告開始時間決定用タイマがタイムアウトしていたら、連続予告演出選択処理にて既に決定されている予告演出にもとづく動作が実行されるように、プロセスデータの最初に設定されている動作制御実行テーブルの内容に従って、遊技演出装置を制御する。 - 特許庁

The exclusion zone indicates that any mobile communication apparatus located within the exclusion zone is not permitted to communicate with the second wireless communication system using a portion of spectrum which has been pre-assigned to the first wireless communication system and which is currently re-assigned to the second wireless communication system as part of the spectrum assignment process.例文帳に追加

排除区域は、排除区域内に位置するあらゆる移動体通信機が、第１の無線通信システムへ予め割り当てられていた、目下スペクトル割り当て処理の一部として第２の無線通信システムへ再割り当てをされているスペクトルの部分を用いて、第２の無線通信システムと通信を行うことを認めないことを示す。 - 特許庁

After inputting a reset signal, when inputting a round command (a round specification command) without inputting a first symbol notification command, a second symbol notification command and a state notification command (a power recovery process control signal), an integrated CPU controls a variable display to execute a notification performance dedicated to a reset signal erroneous input, during the round game specified by the round command.例文帳に追加

統括ＣＰＵは、リセット信号入力後、第１図柄通知コマンド、第２図柄通知コマンド及び状態通知コマンド（復電処理制御信号）を入力せずにラウンドコマンド（ラウンド指定コマンド）を入力した場合、当該ラウンドコマンドにより指定されるラウンド遊技中、リセット信号誤入力専用の報知演出を可変表示器に実行させる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises heating the steel material in a heating furnace having an atmosphere of a low oxygen concentration to form a scale layer formed of only a wustite layer, and to evaporate/dissipate molten Cu existing in the interface between the scale/matrix; or alternatively heating the steel material, extracting it from the heating furnace, and carrying out descaling treatment on it twice or more times during the first hot rolling process.例文帳に追加

また、その製造方法は、加熱炉での加熱を低酸素濃度雰囲気条件で行ってウスタイト層のみからなるスケール層とすることでスケール／地鉄界面の溶融Ｃｕを蒸発・飛散させるか、または、鋼材を加熱し加熱炉から抽出した後、最初の熱間圧延の間に２回以上のスケール除去処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁

A cam row 7 accumulating the cams to tooth-cutting-work in the thickness direction is held from both sides at its circular arc center 6 and set on a table 12, and a groove inclined at a prescribed angle is formed for each of prescribed pitches by a double angular cutter 32 while rotating the cam row 7 in the prescribed direction and laterally moving it in the prescribed direction in this state (first process).例文帳に追加

歯切加工すべきカムを厚さ方向に重ね合わせたカム列７をその円弧中心６で両側から挟持してテーブル１２上にセットし、この状態で、カム列７を所定方向に回転させ且つ所定方向に横移動させながらダブルアンギュラーカッター３２で所定角度傾斜した溝を所定ピッチごとに形成していく（第一工程）。 - 特許庁

In a first process, slitting is performed to a plate-like body 1 of high heat conductivity to form a plurality of strip parts 2 arranged in a specific direction and to form the strip parts 2 in wavy shape so that each crest part 2a of one strip part 2 out of the adjacent strip parts 2 comes to a position corresponding to each trough part 2b of the other strip part 2.例文帳に追加

第１工程では、良熱伝導性の板状体１にスリット加工を施して特定方向に並ぶ複数の帯状部２を形成するとともに、これらの帯状部２を隣り合う帯状部２のうち一方の帯状部２の各山部２ａが他方の帯状部２の各谷部２ｂに対応した位置に来るように波状に形成する。 - 特許庁

To download an electronic mail 7 uploaded to specific addresses 5, 5a, and 6a through a network by using the communication terminal machine 1 having a display means 14, only a header file wherein bibliographic information on the electronic mail 7 is written is downloaded first and specific information of the bibliographic information is displayed by articles on a display means 14 (1st process).例文帳に追加

表示手段１４を有する通信端末機１を用いてネットワークを介して所定のアドレス５，５ａ，６ａにアップロードされている電子メール７をダウンロードする際、先ず電子メール７の書誌的情報が書き込まれたヘッダーファイルのみをダウンロードし、その書誌的情報のうちの特定情報を件名毎に表示手段１４に表示させる（第１工程）。 - 特許庁

The transparent electrode 60 and an orientation film 40 are formed on the first transparent substrate 50, the partition 35 and a Fresnel lens 100 are integrally formed in an imprint process as an imprint resin layer 30 on the second transparent substrate 51, and a transparent electrode 41 and an orientation film 61 are formed on the imprint resin layer 30.例文帳に追加

第１の透明基板５０上には透明電極６０と配向膜４０が形成されており、第２の透明基板５１上にはインプリント樹脂層３０として隔壁３５とフレネルレンズ１００がインプリント工程にて一体に形成されており、インプリント樹脂層３０の上に透明電極４１と配向膜６１が形成されている。 - 特許庁

The second thin film 13 is anisotropically etched through the etching masks 15b for the formation of fine patterns 13a, and after a selective oxidation process is carried out using the fine patterns 13a as an oxidation mask, the fine patterns 13a are selectively removed, the first thin film 12a is eliminated, and then a quantum fine wire 17 is epitaxially grown on a part where the semiconductor substrate 11 is exposed.例文帳に追加

エッチングマスク１５bを介して第２薄膜１３を異方性エッチングすることにより形成された微細パターン１３aを酸化用マスクとして選択酸化した後、微細パターン１３aを選択的に除去すると共に、第１薄膜１２aを除去して、半導体基板１１が露出した部分に量子細線１７をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

A part of the air heated by a first regeneration air heating unit 16 is further heated to a high temperature by heat exchange with an exhaust gas of the gas engine 12 by a second regeneration air heating unit 41, and then supplied to a regenerating process rear end portion 30B-1 in a regeneration area 30B of the desiccant rotor 30 to regenerate the dehumidifying agent.例文帳に追加

また、第１再生空気加熱器１６で加熱された空気の一部を、第２再生空気加熱器４１でガスエンジン１２の排ガスと熱交換させて更に加熱して高温にした後、デシカントロータ３０の再生領域３０Ｂにおける再生過程後端部３０Ｂ−１に供給して除湿剤を再生するように構成する。 - 特許庁

A manufacturing process for a corrugated mattress structure comprises a step of disposing a stack of plant fiber long members 25 at least between a first layer 24 and a second layer 21 of plant fiber sheets to form a precompressed assembly, and a step of compressing the precompressed assembly to form a corrugated mattress structure.例文帳に追加

波形マットレス構造体の製造工程であって、該工程には、植物繊維細長体２５のスタックを、少なくとも植物繊維シートの第１層２４と第２層２１と間に配置して、予圧縮した組立体を形成するステップ；及び、該予圧縮した組立体を圧縮して、波形マットレス構造体を形成するステップを備える。 - 特許庁

Then, second and third free loops 102 and 140 are provided within a carrying area in which the positioning of the first continuous member 50 is required, and carrying control is independently executed on the upstream side and the downstream side of the second and third free loops 102 and 140, so that the entire manufacturing process of the instant photographic film unit 20 is efficiently facilitated.例文帳に追加

その際、第１連続状部材５０の位置決めが必要な搬送領域内に、第２および第３フリーループ１０２、１０４が設けられており、この第２および第３フリーループ１０２、１４０の上流側と下流側とで搬送制御が独立して遂行され、インスタント写真フイルムユニット２０の製造工程全体の効率化が容易に図られる。 - 特許庁

It also has an operation means 11 capable of operation by an operator and is constituted to measure the continuous operation time when the operation means 11 is continuously operated, to recognize the specific operation when continuous operation over the first reference time is done, and to process based on the recognized specific operation.例文帳に追加

また、作業者による操作が可能な操作手段１１を有し、操作手段１１が連続して操作された場合にその連続操作時間を測定し、連続操作時間が第１基準時間以上である場合に所定操作が行われたことを認識し、その認識された所定操作に基づく処理を行うように構成されている。 - 特許庁

This laser marking method comprises a first step of forming a membrane 2 or adhesion on the surface of a marked material 1 composed of a transparent body or a laser light transmitting body, and a second step of radiating a laser beam LB to the membrane or the adhesion and to form projection and depression on the surface of the marked material in a process for removing the membrane or the adhesion from the marked material.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材(1) の表面に膜(2) 又は付着物を形成する第一工程と、膜又は付着物にレーザ光線LBを照射し、膜又は付着物が被マーキング材から除去される過程で被マーキング材の表面に凹凸を形成する第二工程とからなる。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The forming method comprises a process of oxidizing the semiconductor surface of a substrate (9) to be processed on which a semiconductor element is formed with an oxygen atom active species produced by a plane parallel type plasma generation apparatus excited by a high frequency power supply (6) of a predetermined frequency, and hereby forming a first insulating film (18) on the substrate (9) to be processed.例文帳に追加

半導体素子が形成される被処理基板（９）の半導体表面を、所定の周波数の高周波電源（６）によって励振される平行平板型のプラズマ生成装置によって発生させた酸素原子活性種によって酸化することにより、被処理基板（９）に第１の絶縁膜（１８）を形成する工程を有する。 - 特許庁

During the preheat process, warm cooling fluid stored in a thermal storage tank 20 enters into the cylinder block 12 from an inlet 12a at the other end side of the engine body 10, then flows in the direction from the fourth cylinder 16 toward the first cylinder 13 while diverging to both sides of the row of the cylinders, and flows into the cylinder head 11 through the communication channel 17.例文帳に追加

一方、プレヒート時には、蓄熱タンク２０に溜めておいた暖かい冷却液体が、機関本体１０の他端側の入口１２ａからシリンダブロック１２内に入り、一列に並んだシリンダの両側に分かれて、第４シリンダ１６側から第１シリンダ１３側へと流れ、連通路１７を通ってシリンダヘッド１１へと流れていくように構成する。 - 特許庁

When a end separate part 5a of a flexible flat cable as the wiring material is to be caulked to the cable connection part 4 of the terminal on the piercing system, the end separate part 5a is held being pinched by a first 13 and a second holding pin 16 supported resiliently by springs 14 and 17 and subjected to a caulking process using a caulking die 10.例文帳に追加

配線材としてのフレキシブル・フラットケーブルの端末分離部分５ａを端子のケーブル接続部４にピアシング方式でかしめる場合に、分離部分５ａを、バネ１４，１７によって弾性支持された第１及び第２両保持ピン１３，１６間に挟み込んで保持した状態でかしめ型１０によるかしめ操作を行うようにした方法及び装置。 - 特許庁

When transfer using cash and a cash card in combination is selected as a transfer transaction, a control part 7 of the consumer transaction facility 1 takes in the cash card and cash of the customer as a transfer source first and proceeds to the transfer transaction using the cash card without issuing an itemized sheet nor returning the cash card after completing a money receiving process.例文帳に追加

自動取引装置１の制御部７は、振込取引として現金とキャッシュカードの併用による振込が選択されると、まず、振込元の顧客のキャッシュカードと現金を取り込み、入金処理を行った後、入金処理に伴う明細票の発行およびキャッシュカードの返却を行うことなく、キャッシュカードを用いた振込取引に処理を移行する。 - 特許庁

In the process, a subordinate CPU 206 executes the control to execute the identification information stopping game in which the upper limit of the time to variably display identification information is 15 seconds, an example of second prescribed time, on condition that the average variation time, an example of the variable display standard time, is at least 20 seconds, an example of first prescribed time.例文帳に追加

この処理において、サブＣＰＵ２０６は、変動表示標準時間の一例である平均変動時間が第一の所定時間の一例である“２０”秒以上であることを条件に、識別情報が変動表示される時間が第二の所定時間の一例である“１５”秒を上限とする識別情報停止ゲームを実行する制御を行う。 - 特許庁

The film forming device 1 is constituted to have a vacuum treatment chamber 2, an unloading chamber 3 (first substrate cooling device) which returns a substrate K sent from the vacuum treatment chamber 2 to an atmospheric environment while cooling the substrate K, and a clean booth 4 (second substrate cooling device) in which the transporting work of the substrate K from the unloading chamber 3 to a poststage process is performed.例文帳に追加

製膜装置１を、真空処理室２と、真空処理室２から送り込まれた基板Ｋを冷却しつつ大気圧環境に戻すアンロード室３（第一基板冷却装置）と、アンロード室３から後段の工程への基板Ｋの搬送作業が行われるクリーンブース４（第二基板冷却装置）とを有する構成とする。 - 特許庁

In a CPU 11, an input image plane 131 for inputting a search word in a first search process is displayed in a display device 13, and a "keyword search" menu for searching a keyword and its meaning corresponding to the search word and a "phrase search" menu for searching a phrase corresponding to the search word are displayed in the input image plane 131 so as to allow selection.例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、第１の検索処理において、検索語を入力するための入力画面１３１を表示装置１３に表示させ、この入力画面１３１において、検索語に対応する見出し語とその意味を検索する「見出し検索」メニューと、検索語に対応する成句を検索する「成句検索」メニューとを選択可能に表示させる。 - 特許庁

After laminating a first silicon layer 108a, a silicon-rich oxide film 10 and a second silicon layer within a cylinder hall 107 provided to a film 106 between the cylinder layers, the HSG forming process is conducted to the second silicon layer using the silicon-rich oxide film 10 as a stopper in view of forming a plurality of HSGs 108c on the surface of the silicon-rich oxide film 10.例文帳に追加

シリンダ層間膜１０６に設けたシリンダホール１０７内に、第１のシリコン層１０８ａ、シリコンリッチな酸化膜１０及び第２のシリコン層を積層した後、シリコンリッチな酸化膜１０をストッパとして第２のシリコン層に対しＨＳＧ化処理を行うことにより、シリコンリッチな酸化膜１０の表面に複数のＨＳＧ１０８ｃを形成する。 - 特許庁

In a processing facility (10) comprising a plurality of processing stations for automatically conveying products in the various stages of production for controlled processing, an intelligent product transfer and conveyance system that enables the uninterrupted processing of only products determined as having passed a first inspection process at an upstream processing station.例文帳に追加

各々が制御された加工を行えるよう製品を種々の加工段階で自動的に運搬する複数の加工ステーションを有する加工設備（１０）において、上流側の加工ステーションで第１の検査段階を合格したものと判定された製品だけを連続的に加工できるインテリジェント製品移送運搬システムが提供される。 - 特許庁

This method for producing the novolak-type phenol resin comprises a first step of subjecting phenols and aldehydes to a heterogeneous reaction in the presence of ≥5 pts.mass phosphates to 100 pts.mass phenols, and a second step of subjecting the reaction product to fractionation treatment by at least one process selected from a solvent extraction method, a liquid-liquid separation method and a reprecipitation method.例文帳に追加

フェノール類とアルデヒド類とを、フェノール類１００質量部に対し５質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させる第一工程と、溶媒抽出法、液／液分離法及び再沈殿法から選ばれる少なくとも一種により分別処理する第二工程とを有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 - 特許庁