「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(541ページ目) - Weblio英語例文検索

A warm air unit 125 is connected to a dielectric window 103 of the plasma processing apparatus and on the basis of a temperature signal generated by measuring the temperature of the dielectric window 103 or a shower plate 102 by a temperature sensor 128, the warm air unit 125 is controlled to perform temperature control over the dielectric window 103 or shower plate 102.例文帳に追加

プラズマ処理装置の誘電体窓１０３に温風ユニット１２５を接続し、誘電体窓１０３あるいはシャワープレート１０２の温度を温度センサー１２８により計測した温度信号を元に、温風ユニット１２５を制御して誘電体窓１０３あるいはシャワープレート１０２の温度制御を行う。 - 特許庁

To provide: a salt which is useful as a colorant for a color filter for liquid crystal display devices, such as a liquid crystal panel, an electroluminescent panel, and a plasma display panel, and shows excellent molar absorptivity; the dye that comprises the salt as an active constituent; and a colored resin composition that contains the dye.例文帳に追加

液晶パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネルなどの液晶表示装置のカラーフィルタに用いられる着色剤として有用であり、良好なモル吸光係数を示す塩を提供することおよび前記塩を有効成分とする染料および前記染料を含む着色樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The discharge gas treatment apparatus is equipped with a discharge treatment part 6 for generating non-equilibrium plasma discharge in the gas to be treated containing the substance to be treated and the adsorbing catalyst part 20 provided on the downstream side of the discharge treatment part 6 to adsorb the substance to be treated in the gas to be treated passed through the discharge treatment part 6.例文帳に追加

この放電ガス処理装置は、被処理物質を含む被処理ガス４中で非平衡プラズマ放電を発生させる放電処理部６と、その下流側に設けられていて放電処理部６を通過した被処理ガス４中の被処理物質を吸着する吸着触媒部２０とを備えている。 - 特許庁

To make the surface of the upper part transparent dielectric layer flattened in a color plasma display panel to form the color filter layer having a pigment particulate layer as the main component between the lower part transparent dielectric layer and the upper part transparent dielectric layer, without diffusing pigments to constitute a color filter layer in the upper part transparent dielectric layer.例文帳に追加

顔料微粒子層を主成分とするカラーフィルタ層を下部透明誘電体層と上部透明誘電体層の間に形成するカラープラズマディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタ層を構成する顔料が上部透明誘電体層に拡散することなく、且つ、上部透明誘電体層の表層面を平坦にする。 - 特許庁

In this plasma display panel, a discharge gas is filled in a discharge space S formed between a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6 which are disposed so as to face each other, and the discharge gas contains a hydrogen gas having a volume percentage of 0.0001 - 1.0.例文帳に追加

互いに対向するように配置された前面ガラス基板１と背面ガラス基板６の間に形成された放電空間Ｓ内に放電ガスが封入されて、この放電空間Ｓ内において放電が発生されるプラズマディスプレイパネルにおいて、放電ガスが、０．０００１〜１．０体積パーセントの水素ガスを含んでいる。 - 特許庁

A surface characteristic of the organic resin film is improved and peeling liquid is prevented from penetrating inside the organic resin film when the resist film formed on the organic resin film is peeled (including after peeling of the resist film) for patterning the organic resin film by previously plasma-processing a surface of the organic resin film.例文帳に追加

有機樹脂膜の表面を予めプラズマ処理することにより、有機樹脂膜の表面特性を改善し、有機樹脂膜のパターニングのために有機樹脂膜上に形成されたレジスト膜を剥離する際（レジスト膜の剥離後も含む）に剥離液が有機樹脂膜内部に浸透するのを防ぐことを特徴とする。 - 特許庁

This invention relates to this method for biomolecule immobilization, comprising: providing a substrate; forming a surface modification layer of carboxy groups on one surface of the substrate, wherein the process for forming the surface modification layer comprises plasma surface modification; and providing multiple biomolecules and bonding the biomolecules with the surface modification layer.例文帳に追加

基材を供給；基材の一表面上にカルボキシ基の表面改質層を形成、ここで表面改質層の形成のための工程はプラズマ表面改質を含む；および多数の生体分子を供給しおよび生体分子を表面改質層と結合することを含む、生体分子固定化のための方法に関する。 - 特許庁

Thus, a discharge cell in which a sustain discharge has occurred during a previous subfield by the characteristics of the plasma display device where an opposite discharge does not sufficiently occur at low temperature, is prevented from a low discharge which occurs due to the insufficient occurrence of the address discharge in a subfield having an auxiliary reset to carry out initialization.例文帳に追加

このようにすれば、低温で対向放電が充分に起こらないプラズマ表示装置の特性によって直前のサブフィールドで維持放電が起こった放電セルに対し、初期化を遂行する補助リセットを有するサブフィールドでアドレス放電が充分に起こらないために発生する低放電を防止することができる。 - 特許庁

Normal/defective welding is decided in real time and nondestructively by capturing such various proxy signals as a plasma and heat which are generated during the laser beam welding, monitoring whether these are generated homogeneously or not, and comparing the signal with the preliminarily collected signal which is obtained in a case in which the welding is normally performed.例文帳に追加

レーザ溶接中に発生するプラズマや熱などのさまざまな代理信号を捕捉し、これらが均一に発生しているかどうか監視することにより、また、予め収集しておいた良好な溶接の場合の信号と比較することにより、リアルタイムに、かつ非破壊で、溶接の良否を判定する。 - 特許庁

In a plasma display panel apparatus, delay circuits 410 to 440 are added to a control terminal of a switch and a rising delay time is established to be different from a falling delay time in an address driving circuit 200 so that voltages at adjacent address electrode may not be concurrently changed in the opposite directions.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル装置に備わるアドレス駆動回路（２００）におけるスイッチの制御端にディレイ回路（４１０〜４４０）を追加し，上昇ディレイタイムと下降ディレイタイムを異なるように設定することによって，隣接するアドレス電極の電圧がお互い反対方向に同時に変わらないようにする。 - 特許庁

To provide a method of synthesizing the fine powder of metallic boride or the fine powder of metallic boride and other compounds by which compound compositions and the mixing ratio of each compound can easily be controlled, and crystallinity and a grain size distribution can be controlled as well without using gaseous hydrogen which has extremely high combustibility by using thermal plasma.例文帳に追加

熱プラズマを用いて、可燃性が極めて強い水素ガスを使用せずに、化合物組成の制御及び各化合物の混合比の制御が容易であり、更には結晶性や粒度分布の制御も可能な、金属ホウ化物の微粉末又は金属ホウ化物と他の化合物の微粉末を合成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a driving method of a plasma display device which is free from risks of spark and short circuit, can generate a stable write discharge by preventing reduction in wall charges, and allows its circuit constitution to be simplified by sharing a portion of scan electrode drive circuits corresponding to respective scan electrode groups.例文帳に追加

スパークやショートを生じる恐れがなく、壁電荷の減少を防ぎ安定した書込み放電を発生させることができ、かつ走査電極群のそれぞれに対応した走査電極駆動回路の一部を共有化して回路構成を簡略化したプラズマディスプレイ装置の駆動方法を提供する。 - 特許庁

Since a repair line 24 is formed on a film 2, electrical continuation is recovered simply and smoothly and repair processing can be performed by utilizing the repair line 24 formed on the film 2 without arranging a repair line newly when disconnection is caused in an address electrode 14, for example, in the case of plasma display.例文帳に追加

フィルム２にリペア線２４を形成しているので、例えばプラズマディスプレイの場合ではアドレス電極１４の断線が生じた時に新たにリペア線を配設することなく、フィルム２に形成されたリペア線２４を利用することで、簡易且つ円滑に電気的な接続を回復させてリペア処理ができる。 - 特許庁

A magnetic circuit to form a magnetic field in which the plasma emitted from the target is converged on the substrate is disposed outside the target in the vicinity of the aperture, and an ion acceleration electrode is provided between the aperture and the substrate so as to apply the voltage in a range in which the etching is not predominant to the acceleration electrode.例文帳に追加

該開口部近傍で、該ターゲットの外側に、ターゲットから放出されたプラズマが基板上へ収束するような磁場を形成するための磁気回路が設けられ、また、該開口部と基板との間にイオン加速電極を設け、該加速電極に対してエッチングが優勢とならない範囲の電圧を印加するように構成される。 - 特許庁

For the plasma display panel having a plurality of discharge cells, separated by a separation wall 8 formed on a substrate 5, having a phosphor layer 90 at its inside, the phosphor layer 90 is made of a mixture of phosphor particles enabled to excite at least by ultraviolet ray, and fine particles of TiO_2 or BN.例文帳に追加

基板５上に形成された隔壁８によって区画され、内面に蛍光体層９０を有する複数の放電セルを備えたプラズマディスプレイパネルであって、蛍光体層９０は、少なくとも紫外線によって励起する蛍光体粒子９０ａと、ＴiＯ__２又はＢＮ微粒子９０ｂとを混合させたものとする。 - 特許庁

The non-accumulated advance treatment is carried out by the process executed by two steps wherein a first step for cleaning the surface of the plastic substrate 2 with non-reactive low energy plasma 14, and a second step for activating the surface of the plastic substrate 2 by reactive high energy ion emission 17.例文帳に追加

該非堆積事前処置が２つのステップ、従って該プラスチック基板２の該表面が非反応性低エネルギープラズマ１４によってクリーニングされる第１のステップと、該プラスチック基板２の該表面が反応性高エネルギーイオン放射１７によって活性化される第２のステップとで実行されるプロセスによって遂行される。 - 特許庁

If centrifugal force is utilized, the biosample can be separated into a corpuscle component and a plasma component by utilizing a difference of each specific gravity in the biosample, and high-accuracy concentration measurements similar to biochemical inspection performed by an automatic analyzer can be realized electrochemically, by designing properly an electrode system arrangement in matching with an analysis object.例文帳に追加

しかも遠心力を用いれば、生体試料の比重の差を利用して血球成分と血漿成分に分離させることができ、電極系配置を分析対象に合わせて適切に設計することによって自動分析器で行う生化学検査と同様な高精度な濃度測定が電気化学的に実現できる。 - 特許庁

The normal pressure plasma discharge electrode has an electrode base member 10, an undercoat 20 thermally sprayed on a plane 11 of the electrode base member 10 where it faces the adjacent base members and on one or more of planes 13 to 16 continued from the plane 11, and a top coat 30 thermally sprayed on the undercoat 20.例文帳に追加

常圧プラズマ放電電極は、電極基材１０と、電極基材１０が他方の常圧プラズマ放電電極に対向する面１１及びその面１１から連続する１又は２以上の面１３〜１６とに溶射されたアンダーコート２０と、アンダーコート２０上に溶射された誘電体のトップコート３０とを備える。 - 特許庁

A capacitor is housed or built in a multilayered printed wiring board, in which at least a part of its surface makes a contact angle of 7 to 45° with respect to water, and at least a part of its surface is subjected to at least plasma processing, cleaning, or an acid treatment.例文帳に追加

多層プリント配線板に収納または内蔵させるコンデンサであって、その表面の少なくとも一部は、水に対する接触角が７〜４５°であることを特徴とするコンデンサであって、その表面の少くとも一部にはプラズマ処理、洗浄処理および酸処理のうちの少くとも一の処理が施されている。 - 特許庁

To provide an easy-to-handle plasma display panel, where full evacuation and removal of impurities are easily achieved for obtaining uniform discharging characteristics in each part in a display area and injecting of a discharge gas can be performed easily, and where an exhaust pipe and a getter pipe readily manufactured are provided.例文帳に追加

本発明は、表示領域内の各部の放電特性を均一にするための十分な不純物の排気除去および放電ガスの注入を容易に行うことができ、さらに容易に作成できる排気管およびゲッタ管を備え、取り扱いが容易なプラズマディスプレイパネルを提供することを課題とする。 - 特許庁

A carbon feed gas such as methane, ethylene or acetylene and hydrogen gas are used as introduction gases and carbon nanotubes are oriented in the perpendicular direction relatively to the substrate surface and prepared on the substrate surface of Ni, Fe, Co or an alloy composed of at least two kinds of the metals thereof by a plasma chemical vapor deposition(CVD) method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により、メタン、エチレン、アセチレン等の炭素供給ガスと水素ガスとを導入ガスとして用い、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ又はこれらの金属の少なくとも２種類からなる合金の基板表面上に、カーボンナノチューブを基板表面に対して垂直方向に配向させて作製する。 - 特許庁

Fuel supply to a spark-ignition internal combustion engine including the ignition plug generating spark discharge in the combustion chamber is stopped to perform cranking for a predetermined time, and after lapse of the predetermined time, the air-fuel mixture is ignited by reacting the spark discharge by the ignition plug with the plasma generated in the combustion chamber.例文帳に追加

燃焼室内に火花放電を発生させる点火プラグを備える火花点火式内燃機関の燃料の供給を停止してクランキングを所定時間実行し、所定時間の経過後に点火プラグによる火花放電と燃焼室内に生成されるプラズマとを反応させて混合気に着火する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck capable of obtaining a stable suction and release characteristics against a change in a refrigerant temperature or process temperature, with a simple manufacturing process, having a high durability of a waferless plasma cleaning of halogen gas, and having a high wafer cooling capability and high reliability in electric insulation between an electrode and a metal plate.例文帳に追加

製造プロセスが簡便で、ハロゲンガスのウェーハレスプラズマクリーニングの耐久性が高く、ウェーハ冷却能力が高く、冷媒温度やプロセス温度の変化に対し安定な吸着離脱特性を得る事ができ、電極と金属プレート間の電気絶縁の信頼性が高い等を同時に解決する事ができる静電チャックを提供する。 - 特許庁

The dielectric substance-coated electrode has a rectangular tube shape obtained by coating a conductive metallic base material with a dielectric substance, wherein the porosity of the dielectric substance is ≤10 vol.%, and a thin film is formed using the plasma discharge treatment apparatus using the electrode.例文帳に追加

本発明の誘電体被覆電極、すなわち、導電性の金属質母材を誘電体で被覆した角筒型の誘電体被覆電極であって、前記誘電体の空隙率が１０体積％以下であることを特徴とする誘電体被覆電極及びそれを用いたプラズマ放電処理装置を用いて薄膜を形成させる。 - 特許庁

The plasma cell 2 comprises a substrate 8 bonded to the side of the display cell 1 via a prescribed gap, discharge electrodes 9 formed on the substrate 8 along the boundary of the adjoining discharge channels 12, and bulkheads 10 formed on the discharge electrodes 9 so as to partition the adjoining discharge channels 12 from each other.例文帳に追加

プラズマセル２は所定の間隙を介して表示セル１側に接合した基板８と、隣り合う放電チャネル１２の境界に沿って基板８の上に形成された放電電極９と、隣り合う放電チャネル１２を互いに仕切る様に放電電極９の上に形成された隔壁１０とを有している。 - 特許庁

In one aspect, formation of a thin titanium nitride protective film on an initial film is found by depositing the initial film of titanium using an arbitrary prior art process, e.g. CVD, PVD or IMP (ion metal plasma), and then heating it at about 450°C in a nitrogen atmosphere.例文帳に追加

一面においては、ＣＶＤ、ＰＶＤ或いはＩＭＰ（イオン金属プラズマ）などの任意の従来の過程を用いてチタンの初期膜を堆積し、次にこのデバイスを窒素雰囲気内で約４５０度Ｃの温度に加熱することで、この初期膜の表面上に窒化チタンの薄い保護層を形成できることが発見された。 - 特許庁

On a measuring probe to be inserted into a plasma PM, an external conductor 43c of a coaxial cable 43 inserted into a tube 41 which is an dielectrics is grounded at the outside of a chamber 10, and a circular noise reduction element (ferrite core) 50 is passed through the coaxial cable 43 between its grounded site 49 and an antenna 42.例文帳に追加

プラズマＰＭ中に挿入される測定プローブにあって、誘電体であるチューブ４１内に挿入された同軸ケーブル４３の外部導体４３ｃをチャンバ１０の外側で接地し、その接地部位４９とアンテナ４２との間の同軸ケーブル４３に環状のノイズ低減素子（フェライトコア）５０を挿通する。 - 特許庁

Insulating films 6 with pinholes 5 are respectively arranged on a high-voltage electrode plate 2 and a ground electrode plate 3 arranged to face each other while the gap 4 is arranged between both electrode plates, and surface corona discharge is generated by applying different voltages on the respective electrode plates in order to obtain uniform plasma on the whole surfaces of the electrode plates.例文帳に追加

ギャップ３を設けながら互いに対向するように設けた高圧電極板２とアース電極板３とにピンホール５を有する絶縁性の膜６を設け、それぞれの電極板に異なる電圧を印加することで面コロナ放電を起こし、電極板表面全体に一様なプラズマを得る。 - 特許庁

Using a patterned SOG film as a mask, any one of gas selected from a group of ammonia (NH3) gas, nitrogen dioxide (NO2) gas, hydrogen cyanide (HCN) gas, methane (CH4) gas, ethylene (C2H4) gas, methanol gas and ethanol gas is introduced and etching is performed by plasma of mixture gas with oxygen gas.例文帳に追加

パターニングしたＳＯＧ膜をマスクとして用い、ＳＯＧ膜の下層に位置する有機膜を、アンモニア（ＮＨ_3）ガス、二酸化窒素（ＮＯ_２）ガス、シアン化水素（ＨＣＮ）ガス、メタン（ＣＨ_４）ガス、エチレン（Ｃ_２Ｈ_４）ガス、メタノールガス、エタノールガスから成るグループから選択されるいずれか１のガスを導入して、酸素ガスとの混合ガスプラズマによりエッチングする。 - 特許庁

To provide an ultraviolet exciting phosphor which can efficiently enhance the efficiency of light emission efficiency under vacuum UV excitation and can improve the light emission efficiency (light emission brightness), when used as the phosphor layer of a light-emitting device such as a plasma display, and to provide a discharge and light-emitting element or the like using the ultraviolet exciting phosphor.例文帳に追加

真空紫外線励起下において発光効率を効果的に高めることが可能であり、プラズマディスプレイなどの発光装置の蛍光体層として使用した場合に、発光効率（発光輝度）を向上させることができる紫外線励起蛍光体およびそれを用いた放電発光素子等を提供する。 - 特許庁

Long chain-shaped carbon nanotubes, particularly the ones obtained by beforehand subjecting only carbon nanotubes to disintegrating treatment are kneaded with ceramics or metal powder capable of being fired in a ball mill, so as to cause dispersion, and the dispersed body is integrated by discharge plasma sintering, so that the carbon nanotubes can be dispersed in the sintered compact surrounding as a netty shape.例文帳に追加

長鎖状のカーボンナノチューブ、特にカーボンナノチューブのみを予めジェットミルにより解砕処理したものを焼成可能なセラミックスや金属粉体とボールミルで混練分散し、これを放電プラズマ焼結にて一体化することで、焼結体内に網状にカーボンナノチューブを巡らせることができ、前記目的を達成できる。 - 特許庁

To provide a plasma surface treatment method and a device therefor reducing damage to the surface of an object to be treated, accommodating for the object to be treated having a large area, and uniformly, efficiently conducting surface treatment under the atmospheric pressure or its vicinity independent of the material of the object to be treated.例文帳に追加

本発明は、大気圧下あるいは大気圧近傍下において、被処理体の材質を問わず、被処理体表面へのダメージが少なく、大面積の被処理体にも対応可能であり、均一で効率のよい表面処理が可能なプラズマ表面処理方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A high-frequency power source 52 for biasing applies a semiconductor wafer W with a bias voltage (for example, not higher than 200 V) for accelerating ions and active seeds in plasma generated by exciting an etching gas (for example, HBr) introduced in a processing container 10 by a microwave introducing device 200, toward the semiconductor wafer W.例文帳に追加

バイアス用高周波電源５２は、処理容器１０内に導入されたエッチングガス（例えば、ＨＢｒ）をマイクロ波導入装置２００で励起して発生させたプラズマ中のイオン及び活性種を半導体ウェハＷの方向へ加速させるためのバイアス電圧（例えば、２００Ｖ以下）を半導体ウェハＷに印加する。 - 特許庁

The plasma display device is equipped with a power module 210 having a plurality of power devices 201 and a temperature detection means 202 built in the power module, and is so constituted that the temperature information detected by using the temperature detection means is fed back to an input signal control means 221 to control the temperature of the power module.例文帳に追加

複数のパワーデバイス２０１を有するパワーモジュール２１０と、該パワーモジュールに内蔵された温度検出手段２０２と、を備え、前記温度検出手段を用いて検出された温度情報を入力信号制御手段２２１にフィードバックして前記パワーモジュールの温度を制御するように構成する。 - 特許庁

In the parallel plate plasma processing system not employing a magnetic field and applying RF to the lower electrode, microwaves are employed and the metal plate 31 having a ground potential and including a plurality of openings H within a range of a specified area is placed between a microwave introduction window 26 and the wafer 16 mounted on the lower electrode 18.例文帳に追加

磁場を用いず、かつ下部電極にＲＦを印加する平行平板型プラズマ処理装置においては、マイクロ波を用い、マイクロ波導入窓２６と下部電極１８上に搭載されたウェーハ１６との間に、接地電位を有し所定の面積の範囲に複数の開口部Ｈを含む金属板３１を設置する。 - 特許庁

Then a patterned second organic film 105A and the first organic film 103 are dry-etched using H2O plasma, respectively, so that a wiring groove 111 is formed on the patterned second organic film 105A, while a patterned first organic film 103A comprising a contact hole 110 is formed.例文帳に追加

次に、パターン化された第２の有機膜１０５Ａ及び第１の有機膜１０３に対して、Ｈ_2Ｏ プラズマを用いるドライエッチングをそれぞれ行なって、パターン化された第２の有機膜１０５Ａに配線溝１１１を形成すると共に、コンタクトホール１１０を有するパターン化された第１の有機膜１０３Ａを形成する。 - 特許庁

The manufacturing method therefor comprises a forming process for forming a pattern including wiring, TFTs, or the like on the TFT array board, and a process for forming an interlayer insulating film by a high density plasma CVD on the top side of the projecting parts constructed by the presence of the above pattern in the gap area between pixel electrodes adjacent to each other.例文帳に追加

その製造方法は、ＴＦＴアレイ基板上に、配線やＴＦＴ等を含むパターンを形成する形成工程と、相隣接する画素電極の間隙となる領域に、上記パターンの存在によって構築された凸部の上側に、高密度プラズマＣＶＤによって層間絶縁膜を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A permanent magnet 20 for generating ECR plasma is formed in a rectangular shape, an enclosure magnet 22 is arranged at one side of a plane including the rectangular shape so that the same magnetic pole is positioned, and a middle section magnet 24 having a magnetic pole opposite to that of the enclosure magnet 22 is provided inside the enclosure magnet 22.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマを発生させるための永久磁石２０が矩形状に形成され、矩形状を含む平面の一方の側には同じ磁極が位置するように外枠磁石２２を配置し、外枠磁石２２の内側に外枠磁石２２の磁極とは反対の磁極の中央部磁石２４を設ける。 - 特許庁

The device 10 is equipped with an enclosure 12 for accommodating the superalloy article, an inversion type plasma transfer arc welding device 20 for welding the local area of the article, an induction coil 14 for heating the local area, a means 24 for sensing the temperature in the local area, and a means 26 for controlling it.例文帳に追加

装置（１０）は、超合金物品を収容するエンクロージャ（１２）と、物品の局部領域を溶接する極性反転式プラズマトランスファアーク溶接装置（２０）と、局部領域を加熱する誘導コイル（１４）と、局部領域の温度を感知する手段（２４）および制御する手段（２６）とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of a fine particle diffused insulating film 15 comprises steps of forming an insulating film 150 of a composition including an excessive amount of a semiconductor element on a substrate 11, and forming the diffused semiconductor fine particle 152 by phase-separating the semiconductor element by an annealing process using the plasma jet 50 of the insulating film 150.例文帳に追加

微粒子分散絶縁膜１５の製造方法は、基板１１上に半導体成分を過剰に含む組成の絶縁膜１５０を形成する工程と、該絶縁膜１５０をプラズマジェット５０を用いたアニールにより前記半導体成分を相分離させて分散半導体微粒子１５２を形成する工程と、からなる。 - 特許庁

The paste composition for barrier rib of the plasma display panel is composed including lead-free glass powders 30 to 60 wt.%, a filling agent 1 to 10 wt.%, a binder 10 to 30 wt.%, a plasticizer 1 to 8 wt.%, a dispersion agent 0.1 to 3 wt.%, and a solvent 15 to 35 wt.%.例文帳に追加

本発明に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁用ペースト組成物は、鉛フリーガラス粉末３０〜６０ｗｔ％、充填剤１〜１０ｗｔ％、結合剤１０〜３０ｗｔ％、可塑剤１〜８ｗｔ％、分散剤０．１〜３ｗｔ％及び溶媒１５〜３５ｗｔ％を含んで構成されることを特徴とする。 - 特許庁

This plasma resistant element 15 is characterized by having a base material 13 consisting of a ceramics group sintered body and a fluoride layer 14 of the thickness 1 to 100 μm containing not less than one kind of element selected from the periodic table IIA group elements and IIIA group elements formed on the surface of the above base material 13.例文帳に追加

セラミックス系燒結体から成る基材１３と、前記基材１３表面に形成された周期律表IIＡ族元素およびIIIＡ族元素の群から選ばれた少なくとも１種の元素を含む厚さ１〜１０００μｍのフッ化物層１４とを有することを特徴とする耐プラズマ性部材１５である。 - 特許庁

For analyzing the isotope percentage in the reaction product in etching the quadrupole mass analyzer is used here, but a similar analysis can be made by the spectroscopic analysis of the emission of the reaction product in a plasma.例文帳に追加

この膜をエッチングする工程において、反応生成ガスの同位体比率を四重極質量分析等の質量分析法、あるいはプラズマ発光分光法により測定することで、反応生成物中の同位体発生比率を処理中に逐次観測でき、実際にどの位置までエッチングが進んでいるのかを知ることができる。 - 特許庁

After a reformed area P is formed in the wafer W mounted on a frame F with a tape T interposed, the tape T is shrunk by exposing the wafer W to plasma to expand the wafer W, and the cut surface of a dicing street divided by the expanding is etched.例文帳に追加

テープＴを介してフレームＦにマウントされたウェーハＷ内部へ改質領域Ｐを形成した後にウェーハＷをプラズマ内にを暴露することにより、テープＴを収縮させてウェーハＷをエキスパンドするとともに、エキスパンドされることにより割断されたダイシングストリートの割断面をエッチングする。 - 特許庁

Then, the thermal spraying material 10 is thermally sprayed on the surface of the member at least to corrosive gas or the plasma thereof.例文帳に追加

そして少なくとも腐食ガスあるいはそのプラズマに晒される部材表面に、ハロゲン系腐食性ガスあるいはそのプラズマに対して耐腐食性に優れた金属化合物からなる前記溶射材１０を溶射することにより、ハロゲン系腐食性ガスあるいはそのプラズマに対して耐腐食性に優れた溶射被覆層を有するプラズマ装置用溶射被膜部材が得られる。 - 特許庁