「Reference mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

One or a plurality of cutting marks 22 are projected and formed on the external surface sides of the resin insulating layers 5 on the upper side (the surface side) at every cutting projected line 3 while using either cutting reference mark 11 as references.例文帳に追加

また、上方側（表面側）の樹脂絶縁層５の外面側には、いずれかの切断基準マーク１１を基準として、切断予定線３毎に１又は複数の切断目印２２が突出形成されている。 - 特許庁

Reference marks 32 are respectively arranged on a plurality of pin-fitting-in holes 15b which become counting references by locating on every fixed number (for example, five pins) at the time of sequentially counting pin numbers from the pin-fitting-in hole 15a given the starting point mark 31.例文帳に追加

この始点目印31の付されたピン嵌着孔15aからピン番号を順次カウントする際に一定個数（例えば５ピン）ごとに位置してカウント基準となる複数のピン嵌着孔15bにそれぞれ基準目印32を設ける。 - 特許庁

To provide an image position measuring device which can avoid influences of distortion in an imaging element or a lens and shows improvement in the accuracy of position measurement of a reference mark given to a work piece, and to provide an exposure device equipped with the measuring device.例文帳に追加

撮像素子やレンズの歪みによる影響を回避でき、ワークに付与されている基準マークの位置計測精度の向上が図れる画像位置計測装置と、それを備えた露光装置を提供する。 - 特許庁

The position of the wafer 26 is adjusted with no application of a photosensitive material to image a reference mark 30 formed on the wafer 26 by an imaging device 14 with exposure light for sensitizing the photosensitive material (S4).例文帳に追加

感光材が塗布されていない状態で、ウェハ２６の位置を調整してウェハ２６に形成された基準マーク３０を感光材を感光する露光光を用いて撮像装置１４に撮像させる（Ｓ４）。 - 特許庁

One rectangular reference mark 20 is put on the back face of the sheet-conveying rotor within the width W of the sheet-holding area of the rotor, which is perpendicular to the direction of the rotation of the sheet-conveying rotor.例文帳に追加

シート搬送用回転体の裏面には、回転体のシート担持領域におけるシート搬送用回転体の回転方向と直交する領域幅Ｗ内に、矩形状の基準マーク２０を１つ設ける。 - 特許庁

The method further comprises the steps of calculating a deviation of the register mark intersection with one having the smallest gradient of the original 50 as one reference plate and with another as an object plate, and moving the object plate based on this deviation.例文帳に追加

また、展開サーバ４０が、版別原稿５０の最も傾きの少ない一つを基準版とし、他を対象版としてそのトンボ交点のずれ量を演算し、このずれ量に基づいて対象版を移動している。 - 特許庁

To provide a printer adapted to automatically read a positional deviation of a reference mark printed on a printing sheet and to correct a position and a size of an image when a printing plate is made.例文帳に追加

印刷用紙上に印刷された基準マークの位置ズレ量を自動的に読み取って、印刷版を製版するときの画像の位置および寸法を補正するようにした印刷装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereupon, continuous or stepwise zooming of the image is continued in accordance with a mark of difference of detected size to the reference size of the face image, and the change in variable ratio is stopped when the difference becomes zero.例文帳に追加

その際、顔像の基準サイズに対する検出サイズの差の符号に応じて前記画像の連続的なまたは段階的な拡大または縮小を継続し、差が０となったとき変倍率の変化を停止させる。 - 特許庁

The field stop restricts the measuring light irradiated to the substrate reference plate so that it is irradiated to the mark arranged in the non liquid-repellent property region 28, and is not irradiated to the liquid-repellent property region.例文帳に追加

前記視野絞りは、前記非撥液性領域２８に配置された前記マークには照射され、前記撥液性領域には照射されないように、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する。 - 特許庁

Where the Registrar finds that the conditions referred to in Articles 8 and 9 are fulfilled, he shall register the mark, issue to the applicant a certificate of registration, publish a reference to the registration in the Official Gazette of the Ministry of Commerce. 例文帳に追加

登録官は，第8条及び第9条にいう条件が満たされていると認める場合は，標章を登録し，出願人に登録証を交付し，登録への言及を商務省公報により公告する。 - 特許庁

In the step of forming the element isolation layer 12, a first alignment mark used as an aligning reference of an exposure mask in a subsequent photolithography step is formed on a scribing line on the silicon substrate 11.例文帳に追加

なお、素子分離層１２を形成する工程において、引き続くフォトリソグラフィ工程における露光用マスクの位置合わせ基準となる第１アライメントマークを、シリコン基板１１上におけるスクライブラインに形成する。 - 特許庁

Coordinates of a reference mark are from an upper illumination means 6 or a lower illumination means 7 irradiated and calculated, in a state that a shutter 100 is inserted in a part between a die 5 and a working surface 11 when descending.例文帳に追加

下降時のダイ５と作業面１１との間にシャッタ１００を差入れた状態で上方照明手段６もしくは下方照明手段７から照射して基準マークの座標を演算処理する。 - 特許庁

To shorten first print-out time without spending useless time taken until a reference position is detected while a mark for generating an I-TOP signal is set on an intermediate transfer belt in the conventional manner in a color printer.例文帳に追加

カラープリンタにおいて、従来中間転写ベルト上にＩ−ＴＯＰ信号生成用のマークを設けるの対し、基準位置を検出するまでの無駄な時間を費やすこと無く、ファーストプリントアウト時間の短縮化を図る。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with the reference mark A11 in a V-shape composed of a straight line A121, and a straight line A122 and which is symmetric with respect to a central line D, which is parallel to a conveying direction K for recording material.例文帳に追加

基準マークＡ１１は、直線Ａ１２１と直線Ａ１２２とにより構成されており、記録材搬送方向Ｋと平行である中心線Ｄに対して対称となるＶ字形状を有している。 - 特許庁

This lens machining device marks an area on a surface of an eyeglass lens 10 to be chipped off by eyeglass lens outline machining with production information such as reference position marks 32 or an eyeglass lens outline mark 31 showing an area left by the eyeglass lens outline machining.例文帳に追加

眼鏡用レンズ１０の表面に玉型加工により残る領域を示す玉型目印３１や基準位置目印３２等の製造情報を玉型加工により削り取られる領域にマーキングする。 - 特許庁

The image of the opening mark 72 which is returned after being reflected on a reticule is detected by the focal point correcting mechanism, and the Z-directional position of the optimal image formation face is measured, and the correction of the reference face is conducted, based on the measured result.例文帳に追加

焦点較正機構によりレチクルで反射され戻ってくる開口マーク７２の像を検出し最適結像面のＺ方向位置を計測し、その計測結果に基づいて前記基準面の較正を行う。 - 特許庁

To provide an image position measuring device that can suppress distortion in an image caused by distortion of an imaging element and shows improvement in position measuring accuracy for a reference mark given to a work piece, and to provide an exposure device having the measuring device.例文帳に追加

撮像素子の歪みに起因する画像の歪みを抑制でき、ワークに付与されている基準マークの位置計測精度の向上が図れる画像位置計測装置と、それを備えた露光装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for accurately matching the front and back positions of an image by surely detecting a reference mark with high accuracy, even when a low-resolution and low reading speed sensor is used.例文帳に追加

両面画像の位置を合わせるための基準マークとしてトンボマークを用いる場合、トンボマークを検出するには高解像度で、且つ、高速読み取り可能なラインセンサが必要であり、装置の製造コストが増加してしまう。 - 特許庁

More particularly, an apparatus that moves an imaging device relatively is provided with the device 120, for example, fixed to a mounting unit 24, which is moved to a reference mark imaging position and a component imaging position, is provided.例文帳に追加

具体的には、例えば、装着ユニット２４に撮像デバイス１２０を固定して設け、装着ユニット２４を基準マーク撮像位置と部品撮像位置とに移動させるような撮像デバイス相対移動装置を設ける。 - 特許庁

When executing exposure by an exposure station and measurement by a measurement station in parallel with each other, reference mark measurement by the measurement station is executed again in the case where a time required for the exposure is longer than the time of the measurement.例文帳に追加

露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 - 特許庁

The offset calculation part 70 calculates the deviation of the alignment mark 21 from a reference position on the basis of the inputted image, and gives an offset to the swing angle of a galvanoscanner system 40 to eliminate the calculated deviation.例文帳に追加

オフセット算出部７０は、入力された画像に基づいてアライメントマーク２１の基準位置からのずれを算出し、算出されたずれを解消するために、ガルバノスキャナ系４０の振り角にオフセットを与える。 - 特許庁

When the printing is performed in the watermark form, drawing information for outputting a mark image in a designated output mode is generated in reference to the information acquired in S2001, and stored in an intermediate file 2104.例文帳に追加

透かし状に印刷を行う場合、Ｓ２００１で取得した情報を参照し、指定された出力様式でマーク画像を出力するための描画情報を生成し、中間ファイル２１０４に記録する（Ｓ２００６）。 - 特許庁

Using an ink jet method, a masking layer 21 having an opening pattern 21a in a predetermined position of the lens area is pattern-formed on one main surface side of the lens base material 11 while controlling a printing position using the mark as a reference.例文帳に追加

インクジェット法により、レンズ基材１１の一主面側の上方に、マークを基準として印刷位置を制御しながらレンズ領域の所定位置に開口パターン２１ａを有するマスキング層２１をパターン形成する。 - 特許庁

Used herewith are a step S110 for aligning the predetermined location to a specific measuring light irradiation position to perform a first surface position measurement, and a step for locating the relative position to the reference mark of the predetermined set position.例文帳に追加

前記所定場所を所定の計測光照射位置に位置合わせして第１の面位置計測を行う工程Ｓ１１０と、該所定場所の前記基準マークとの相対位置を求める工程とを有する。 - 特許庁

An inverse projection unit 31 determines ground coordinates corresponding to a point on a screen specified by a measuring mark, this ground coordinates are inversely projected on directly under the visual image of a reference image, and directly viewed image coordinates are obtained.例文帳に追加

逆投影部３１は、メスマークにより特定された画面上の点に対応する地上座標を確定し、この地上座標を基準画像である直下視画像上に逆投影して直下視画像座標を求める。 - 特許庁

The position detecting mark has different-color areas and a plurality of boundary lines formed by contacting of the areas, and the boundary lines cross each other on a line passing through a predetermined reference position.例文帳に追加

位置検出用マークは、色が異なる領域と該領域が接して形成された複数の境界線とを備え、且つ、所定の基準位置を通るライン上で前記境界線が交差するように形成される。 - 特許庁

To provide a label feeder of a high precision label printer provided with a reference mark sensor in which both a compound leaf label stuck continuously to a stripe pasteboard and a single leaf label can be printed easily.例文帳に追加

基準マーク検出センサーを設けた高精度のラベルプリンタにおいて、帯状の台紙に連続して貼付された複葉のラベルと、単葉のラベル、双方のラベルを、容易に印刷できるラベル用フィード装置を提供すること。 - 特許庁

In the lower illumination, a light reflected from the reference mark T1 and the adjacent wiring circuits T2 and so on is absorbed with the shutter 100, and only the transmitted light which has penetrated through the insulating resin W' is received with the image pickup part 8.例文帳に追加

下方照明では、基準マークＴ１や隣設する配線回路Ｔ２…の裏面から反射される反射光をシャッタ１００で吸収し、絶縁樹脂Ｗ’を透過した透過光のみを撮像部８で受光する。 - 特許庁

The color chart areas cr are formed by repeatedly arranging mesh areas and set-solid areas of density preliminarily determined by every color in a prescribed order and arranged in symmetrical about a point by sandwiching the reference mark rm 1.例文帳に追加

前記カラーチャート領域ｃｒは各色毎に予め定めた濃度の網領域やベタ領域を所定の順に繰り返し配置したものであり、基準マークｒｍ１を挟んで点対称に配置されている。 - 特許庁

A mark, which becomes reference for registration of the image formed on the first surface and the image formed on the second surface is written on the second surface by a writing means 521 when the image on the first surface is formed.例文帳に追加

第一面の画像を形成する際に、第二面に、書き込み手段５２１により、第一面に形成される画像と第二面に形成される画像との位置合わせを行う基準となる印を書き込む。 - 特許庁

At least a pair of parallel slits (28) symmetric to a reference line (20) and provided at an interval narrower than the diameter of the laser spot (26) in some degree and a cross slit (30) for displaying the center of the mark (34) are provided to the reflecting sheet.例文帳に追加

反射シートには、基準線（２０）と対称でレーザスポット（２６）の直径よりいくらか狭い間隔の少なくとも一対の平行なスリット（２８）と、的（３４）の中心を表示する十字スリット（３０）が設けられる。 - 特許庁

Position adjustment of a camera body 2 is performed by a position adjustment mechanism 4 with reference to a position relationship of a mark given to a bottom surface part 2a of the camera body 2 and a slit formed on a bottom surface part 3a of a bracket 3.例文帳に追加

カメラ本体２の底面部２ａに付与されたマークとブラケット３の底面部３ａに形成されたスリットの位置関係を参照して、位置調整機構４によりカメラ本体２の位置調整を行う。 - 特許庁

The exposure mask including a test mark 7 composed of an asymmetric diffraction grating pattern 10 varying in diffraction efficiency with +1st order light and -1st order light and a reference pattern 20 for obtaining an image which is a reference when measuring the deviation of the image of the asymmetric diffraction grating pattern 10 is used as the exposure for focus measurement.例文帳に追加

フォーカス測定用の露光マスクとして、＋１次光と−１次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン１０と、非対称回折格子パターン１０の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン２０とで構成されたテストマーク７を含むものを用いる。 - 特許庁

A plurality of reference mark plates (FMa to FMd, FMa' to FMd'), where a plurality of reference marks are arranged dispersedly for each measurement sequence for use, are arranged around substrate holders (H1 and H2), so as to keep the positional relation between a substrate and the substrate holder constant on substrate stages (WST1 and WST2).例文帳に追加

基板ステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）上において、基板ホルダ（Ｈ１，Ｈ２）との位置関係が一定となるように、使用される計測シーケンス毎に複数の基準マークが分散して配置された複数の基準マーク板（ＦＭａ〜ＦＭｄ，ＦＭａ’〜ＦＭｄ’）が、基板ホルダの周辺に設けられている。 - 特許庁

The measured surface shape of the evaporation pipe 4 is superimposed on a reference surface shape for the evaporation pipe 4, including the reference mark and having no reduction in thickness, which has been stored previously in a storage means, and the amount of the reduction in thickness of the evaporation pipe 4 is calculated from the difference between both by the signal processing device 16.例文帳に追加

計測された蒸発管４の表面形状を、信号処理装置１６によって、記憶手段に予め記憶された減肉がない状態における、前記基準マークを含む蒸発管４の基準表面形状に重ね合わせて、両者の差分から蒸発管４の減肉量を算出する。 - 特許庁

The surface shape of the evaporation pipe 4, including a reference mark representing a reference position of the evaporation pipe 4, is measured by using an inspection device 11 which includes a supporting part 14 to be fixed to evaporation pipes 4, a displacement sensor 12 supported by the supporting part 14 and a signal processing device 16 for processing the signal from the displacement sensor 12.例文帳に追加

蒸発管４に固定される支持部１４と、支持部１４に支持される変位センサ１２と、変位センサ１２からの信号を処理する信号処理装置１６とを備える検査装置１１を用いて、蒸発管４の基準位置を示す基準マークを含む蒸発管４の表面形状を計測する。 - 特許庁

The reference plate 200 for initialization reflects at least one portion of the servo light beam LS, namely servo light for servo control, and has a reference section 201 at which information indicating the position of a track TR in which the recording mark RM should be formed is recorded as an irregular track in the optical disk 100.例文帳に追加

この初期化用基準盤２００は、サーボ制御用のサーボ光であるサーボ光ビームＬＳの少なくとも一部を反射させると共に光ディスク１００において記録マークＲＭが形成されるべきトラックＴＲの位置を示す情報が凹凸でなるトラックとして記録された基準部２０１を有しているようにした。 - 特許庁

Reticle alignment sensors 6A, 6B, using part of pulse-like exposure light EL emitted from an exposure light source LS, observe reticle marks RM formed on a reticle R and a reference mark formed on a reference member 10 on a wafer stage 9, and measure positional information about these marks and a relative positional displacement therebetween.例文帳に追加

レチクル・アライメントセンサ６Ａ，６Ｂは露光光源ＬＳから射出されたパルス状の露光光ＥＬの一部を用いて、レチクルＲに形成されたレチクルマークＲＭとウェハステージ９上の基準部材１０に形成された基準マークとを観察し、これらの位置情報及び相対的な位置ずれを計測する。 - 特許庁

(a) the reference in paragraph 127(b) to a defendant having applied under subsection 92(3) for an order directing the Registrar to remove a trade mark from the Register is taken to be a reference to the defendant having applied under subregulation 17A.48(2) for an order directing the Registrar to cease protection; and例文帳に追加

(a) 商標を登録簿から抹消するよう登録官に指示する命令の発出を求めて、第 92条(3)に基づいて申請した、第 127条(b)における被告についての言及は、保護を停止するよう登録官に指示する命令の発出を求めて、規則17A.48(2)に基づいて申請した被告についての言及とみなし、また - 特許庁

This mark detector is provided with a threshold value regulating part 102 for regulating a level to be added to a reference signal by one side level of output levels, in a comparator 101 for comparing an input signal with the reference signal to output the two values of levels based on a mutual level relation between the levels.例文帳に追加

本発明にかかるマーク検出装置は、入力信号と基準信号とを比較して、お互いのレベルの上下関係により２値のレベルを出力するコンパレータ（１０１）において、出力レベルの一方のレベルにより基準信号に足しあわせるレベルを調整するしきい値調整部（１０２）を具備する。 - 特許庁

When the white reference head mark 38 is read, the gain of an amplifier means amplifying an output image signal of the line sensor is set on the basis of the image signal at a line, after a predetermined number of lines and the image signal after a predetermined number of lines is extracted to obtain white reference data.例文帳に追加

白基準先頭マーク３８が読み取られると、これから予め決められたライン数後のラインの画像信号に基づいて、ラインセンサの出力画像信号を増幅する増幅手段のゲインが設定され、それから予め決められたライン数後のラインの画像信号を抽出して白基準データとする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photoelectric composite substrate in which an optical circuit and an electric circuit are highly accurately positioned by using as a reference, for example, a reference mark formed on an electric circuit substrate having an electric circuit on one side of a transparent substrate and thereby performing positioning in the formation of an optical circuit.例文帳に追加

透明基板の片面に電気回路が形成された電気回路基板上に形成された基準マーク等を基準にして、光回路を形成する際の位置決めをすることにより、光回路と電気回路とが高精度に位置決めされた光電複合基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The information storage medium has a data structure which enables reference to a manifest (MNFST) indicating the initial setting information of an application in a playlist (PLIST) for managing the reproduction display of a reproduction display object and reference to a mark-up (MRKUP) for reproduction displaying from the manifest (MNFST), and at least the playlist (PLIST) is recorded therein.例文帳に追加

情報記憶媒体は、再生表示オブジェクトの再生表示を管理するプレイリスト(PLLST)内からアプリケーションの初期設定情報を示すマニフェスト(MNFST)を参照すると共に前記マニフェスト(MNFST)から再生表示用のマークアップ(MRKUP)を参照することを可能とするデータ構造を有し、少なくとも前記プレイリスト(PLLST)が記録されている。 - 特許庁

To solve such a problem that charge is applied only to a specified spot on an intermediate transfer belt when transfer of a small size is continued and the partial characteristic deterioration of the belt is caused, because the reference position mark of the belt is set as reference in the case of writing by superposing a plurality of colors in the conventional image forming device.例文帳に追加

従来の画像形成装置において複数の色を重ねて書く場合、中間転写ベルトの基準位置マークを基準としているため、小サイズの転写を続けるとベルト上の特定個所のみ電荷がかかり、ベルトの部分的な特性劣化等を引き起こすという問題を解決する。 - 特許庁

(2) For the purposes of this section, the use in the course of trade in Singapore in relation to a trade mark of- (a) the word “registered”; or (b) any other word or symbol importing a reference (express or implied) to registration, shall be deemed to be a representation as to registration under this Act unless it is shown that the reference is to registration elsewhere than in Singapore and that the trade mark is in fact so registered for the goods or services in question.例文帳に追加

(2)本条の適用上，商標に関してシンガポールにおいて業として，(a)「登録された」なる語，又は (b)登録への言及を(明示的に又は黙示的に)含むその他の語又は記号， を使用することは，本法に基づく登録に関する表示とみなされるが，言及がシンガポール以外の場所での登録に関すること，及び商標が実際に当該商品又はサービスについてかく登録されたことを示す場合はその限りでない。 - 特許庁