「due process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To eliminate nonconformity of data interpolation due to frequency turnback phenomenon in simple circuit constitution by using a simple numerical value arrangement converting process.例文帳に追加

簡単な数値配列変換処理を用いることで、単純な回路構成で周波数の折り返し現象によるデータ補間の不具合を解消する。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyester having good color tone and transparency, and suitable for molding, scarcely causing contamination of a mold due to a cyclic trimer.例文帳に追加

色調と透明性が良好で、環状三量体による金型汚染の少ない成形用に好適なポリエステルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process which efficiently and stably produces the powder of low-molecular weight high purity polyphenylene ether while inhibiting a polymer loss due to scales.例文帳に追加

低分子量の高純度ポリフェニレンエーテルのパウダーを、スケールによるポリマー損失を抑制しながら効率良く安定に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of bulk paper hardly breaking a recessed and protruded shape shaped by embossing due to tension caused by transportation thereafter.例文帳に追加

エンボス加工によって賦形された凹凸形状が、その後の搬送に起因するテンションによって潰れにくくなる嵩高紙の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The business unit 6 surely shares data, so that in the manufacturing process, a conflict due to mistake in communication is not caused to efficiently direct to a common target.例文帳に追加

事業単位６がデータを確実に共有し、製造過程で連絡ミスによる齟齬が生じずに、共通の目標に効率的に向かうことができる。 - 特許庁

To solve the problem that a stripe-like luminance variation due to a crystallizing process cannot be corrected when the entire screen is uniformly subjected to the correction of variation in light emission characteristics.例文帳に追加

画面全体に対して一律に補正を行うようにすると、結晶化プロセスに起因するスジ状の輝度ばらつきを補正することはできない。 - 特許庁

Consequently, a clearance in the gear being a cause of the backlash is absorbed to prevent the lid device from dropping due to the backlash in the gear in the closing operation process.例文帳に追加

これにより、バックラッシュの要因となるギヤの隙間分を吸収し、閉動作過程におけるギヤのバックラッシュに起因する蓋装置の落下を防止する。 - 特許庁

The long hole 22 is provided with a hole shape maintaining part 23 to prevent deformation of the sectional shape of the long hole 22 due to a high heat in a process of burning.例文帳に追加

前記長孔２２には、焼成過程の高熱に起因する該長孔２２の断面形状の変形を防止する孔形状維持部２３が付与されている。 - 特許庁

Further, separation upon generating problems is easy and risks due to the assembling process of the SIP is eliminated, whereby the development of inexpensive and efficient products can be effected.例文帳に追加

さらには、問題発生時の切り分けが容易で、ＳＩＰの組み立て工程によるリスクも無いので、安価で効率の良い製品開発ができることである。 - 特許庁

To eliminate the occurrence of defective due to fins by preventing the fins of glass occurring between a baffle and a rough mold in a parison forming process of a glass vessel.例文帳に追加

ガラス容器のパリソン成形課程において、バッフルと粗型の間に生じるガラスの噛み出しを防止し、噛み出しによる不良品の発生をなくす。 - 特許庁

To provide a polarizing lens which hardly causes surface distortion and deterioration of a polarizing film due to heating treatment in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程における加熱処理によって面変形、及び偏光膜の変質が殆どない偏光レンズと、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display which hardly generates a tile-shaped pattern due to a photolithography process and has higher display performance than before.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程に起因するタイル状のパターンが発生しにくく、従来に比して表示性能がより一層優れた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The shrinkage of the meat is favorably prevented even when heated under pressure because protein at the surface of the mollusc becomes hardened due to the pressure-reduced heating process.例文帳に追加

このとき、減圧加熱工程によって表面のタンパク質が硬化しているため、加圧加熱においても、身肉の収縮を良好に抑制できる。 - 特許庁

To reduce a calculation quantity and storage capacity needed for a process of reducing "blur" of a speech spectrum due to a window function applied to obtain micro-segments.例文帳に追加

微細素片を得るために適用した窓関数による音声のスペクトルの「ぼやけ」を軽減するための処理に必要な計算量、記憶容量を削減する。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.例文帳に追加

基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁

To provide an input device, such as a cellular phone that has a simple assembly process and cannot cause dust or the like to enter due to an input operation.例文帳に追加

組立工程が簡易で、然も入力操作に伴って埃等が侵入する虞れのない携帯電話機等の入力装置を提供する。 - 特許庁

This constitution thereby enables the deflection due to grinding resistance of the grinding wheel shaft 20 to be restrained, so that the accuracy and efficiency of a grinding process can be enhanced.例文帳に追加

このため、研削抵抗による砥石軸２０の撓みを抑えることができ、研削加工の加工精度や加工能率を上げることができる。 - 特許庁

To provide a drum type shot blasting device capable of applying a uniform blasting process to work by improving stirring property of the work due to the rotation of a drum.例文帳に追加

ドラムの回転によるワークの攪拌性を向上して、ワークに均一な投射処理を施すことのできるドラム式ショット投射処理装置を提供する。 - 特許庁

According to the process, width of the wafer becoming useless due to formation of the isolation trench, and the like, can be reduced by at least 30-40 μm.例文帳に追加

この様な工法により、分離溝の形成等によって無駄になるウエハの幅を少なくとも３０〜４０μｍ程度は削減することができる。 - 特許庁

To simplify methods of handling and fixing a work in a rear surface vapor deposition process and prevent defects such as a flaw, crack, etc., due to handling failure or the like.例文帳に追加

裏面蒸着工程でのワークのハンドリングや固定方法を簡単にし、ハンドリングミス等によって生じるキズ，割れ等の不良発生を防止する。 - 特許庁

To provide a process cartridge that can prevent rotation of a photoreceptor due to vibration or the like during transportation or the like and suppress generation of defects such as stripes in terms of the image quality.例文帳に追加

輸送時等の振動等による感光体の回転を防止し、画質に対するスジ等の欠陥の発生の抑制が可能なプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a capacitor of a semiconductor device capable of suppressing deterioration of device characteristics due to a residue produced in a process for forming a storage node.例文帳に追加

ストレージノードを形成する工程で発生するレジデューによる素子特性の低下を抑えることができる半導体素子のキャパシタ形成方法を提供する。 - 特許庁

To get rid of undesired protruding edge regions which are due to the chamfered geometry of the substrates, an additional etching process is carried out before detachment occurs.例文帳に追加

基板の面取り形状に起因する望ましくない突出エッジ領域を除去するために分離が生じる前に更なるエッチングプロセスを行なう。 - 特許庁

Such a configuration can improve the optical efficiency by eliminating the difference in color temperature due to the radiation angle, resulting in enhancement of the process yield.例文帳に追加

本発明によると、照射角度による色温度差を防いで光効率を向上させることが可能で、工程歩留まりを高めることが出来る。 - 特許庁

To suppress deterioration in yield due to that the variance of the pattern processing depending on the variance of a manufacturing process for a semiconductor device exceeds an allowable range.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセスのばらつきに依存するパターン加工のばらつきが許容範囲を超えた場合の歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

In the blast material 10, the risk of the injury due to splashing when performing the blasting process can be suppressed by the coating layer 13 on the surface of the blast material.例文帳に追加

得られたブラスト材１０は、ブラスト工法の実行時に跳ね返りによる危害のおそれを、ブラスト材表面の被覆層１３によって抑えることができる。 - 特許庁

To provide a mattress sheet that is capable of obtaining the strength equivalent to that in the case of using applied cloth and is excellent in workability due to the fact that only seaming is needed for a sewing process.例文帳に追加

当て布を用いた場合と同等の強度性を得ることができるし、縫製工程は縫着だけでよいので作業性に優れている。 - 特許庁

To prevent the color of an image area in a document from being alineated from the original color due to a process wherein an original image is made undercolored in such a case.例文帳に追加

原稿画像にアンダーカラー処理をおこなう際に、このアンダーカラーによって原稿中の画像領域の色が本来の色から離反することを防ぐこと。 - 特許庁

To provide a method for laminating an ink jet print which makes a protective layer thick enough to protect an ink jet image from deterioration due to water and which is not accompanied by a cutting process.例文帳に追加

保護層がインクジェット画像を水による劣化から保護するのに十分に厚く、切断工程を伴わない、インクジェットプリントの積層法を提供する。 - 特許庁

To prepare an accurate measurement schedule in accordance with the irregularity of a measuring time that fluctuates due to a yield in a measuring process of a wafer.例文帳に追加

ウェハーの測定工程で、歩留りによって変動する測定時間のばらつきに対応して、正確な測定スケジュールを作成できるようにする。 - 特許庁

Owing to the steps thus provided, short-circuiting is prevented from occurring between neighboring wires even in the presence of drifting of wires due to a resin flow 8 during the one-shot molding process.例文帳に追加

この段差を設けることにより、一括成型時の樹脂流れ８によってワイヤ流れが発生しても隣接するワイヤがショートすることを防止できる。 - 特許庁

The percentage of 10 to 20% is an accurately controllable range of the shape considering the case that the length varies due to the tolerance (±5%) in the manufacturing process of the head.例文帳に追加

１０〜２０％の割合は、ヘッド製造工程での公差（±５％）によりばらつく場合を考慮し、形状を正確に制御できる範囲である。 - 特許庁

To prevent deterioration of a gate insulating film due to charges in the etching process of a metal wiring layer and to prevent generation of a leak current resulting therefrom.例文帳に追加

メタル配線層のエッチング工程における電荷チャージに起因するゲート絶縁膜の劣化、及び、それに起因するリーク電流の発生を防止する。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a solar cell with good cell power generation efficiency by suppressing curving due to a heat process to lessen cracking in a stage.例文帳に追加

この発明は、熱プロセスによる反りの発生を抑制し、工程内での割れの発生を抑えて、セル発電効率のよい太陽電池を製造する方法を得る。 - 特許庁

To reduce damage due to a multi-layer manufacturing process for a dielectric capacitor employed in an FeRAM and prevent the film peeling of an interlayer insulating film.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭに用いられる強誘電体キャパシタへの多層製造工程によるダメージを低減し、かつ層間絶縁膜の膜剥がれを防止する。 - 特許庁

To provide a fluid-tight inspection device having fluid-tight evaluation due to exhaust and fluid leakage inspection of piping in a fluid filling process after piping repair.例文帳に追加

配管補修後の充液過程における配管の排気及び漏液検査による液密性の評価が可能な液密性検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for compressing scrap, which apparatus and method can prevent the defective compression of the scrap due to unnecessary friction in the process for compressing the scrap.例文帳に追加

スクラップを圧縮する過程で、不要な摩擦によるスクラップの圧縮不良を防止できるスクラップ圧縮装置、及びその方法を提供する。 - 特許庁

Tadaaki OTSUKA was elected to be a successor president however due to his health reason, it was necessary to select an early successor and he was involved in that process. 例文帳に追加

次期社長は大塚惟明に決まったが、健康上の理由により早期の後継者を選出する必要が出たため、その選出に関わることとなる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Note: If this command fails at any point due to errors, you can use emerge --resume to continue the process where you left off.例文帳に追加

注意:このコマンドがエラーのせいで止まってしまった場合は、どこで止まっても、emerge--resumeとすることで止まった時点から処理をやり直すことができます。 - Gentoo Linux

To prevent local overheat due to contact with a substrate holder, when a CaF_2 lens or the like is heated by radiation, in the process of depositing an antireflection film or the like.例文帳に追加

反射防止膜等を成膜する工程で、ＣａＦ_2 レンズ等を輻射加熱する場合に、基板ホルダとの接触による局部的な過熱を防ぐ。 - 特許庁

To provide a method for reducing contamination due to carbon and enhancing the production efficiency, in a process of manufacturing metallic titanium by direct electrolysis in a molten salt.例文帳に追加

溶融塩中の電解還元による金属チタン製造方法において、炭素による汚染が少なく、かつ生産効率を高くできる製造方法の提供。 - 特許庁

To suppress heat generation during oscillation or generation of stress due to heat treatment during a manufacturing process in a semiconductor laser element and a semiconductor laser device.例文帳に追加

半導体レーザ素子および半導体レーザ装置において、発振時の発熱や製造工程における熱処理による応力の発生を抑える。 - 特許庁

To provide a decomposition method for a polychlorinated biphenyl which causes a small burden due to economically adverse finish treatments by reducing the amount of PCB sent to a finish treatment process.例文帳に追加

仕上処理工程に送られるＰＣＢ量を減少させ、経済的に不利な仕上処理の負担が小さいポリ塩化ビフェニルの分解方法。 - 特許庁

Thus, the dispersion of the drain current IDS1 of the FET 1 due to the manufacture process is compensated by a gate bias circuit 20.例文帳に追加

このため、製造プロセスに起因するＦＥＴ１のドレイン電流ＩＤＳ１のばらつきをゲートバイアス回路２０によって補償することが可能になる。 - 特許庁

To improve the quality of a semiconductor device by dispersing charge occurring within a pellet due to a process after mounting the pellet onto a lead frame by heating treatment.例文帳に追加

加熱処理によるリードフレーム上へのペレットのマウント後のプロセスによりペレット内に発生したチャージを散らして、半導体装置の品質を向上させる。 - 特許庁