「layer method」に関連した英語例文の一覧と使い方(633ページ目) - Weblio英語例文検索

The polycrystalline thin film Si depositing method includes a process for depositing a polycrystalline Si thin film serving as a base on a substrate, a process for depositing an amorphous Si layer on the surface of the polycrystalline Si thin film, a process for partially removing the amorphous Si layer and partially exposing polycrystalline Si, and a process for growing crystal Si by setting a part where polycrystalline Si is exposed as a core.例文帳に追加

多結晶薄膜Ｓｉ堆積法において、少なくとも 下地となる多結晶Ｓｉ薄膜を基板上に堆積する工程と 該多結晶Ｓｉ薄膜表面に非晶質Ｓｉ層を堆積する工程と 該非晶質Ｓｉ層を部分的に除去し、多結晶Ｓｉを部分的に露出させる工程と 該多結晶Ｓｉが露出した部分を核として結晶Ｓｉを成長させる工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

To provide a method of producing an electrode for a polymer lithium secondary battery, allowing an anchor film having a stable film thickness and adhering weight to be formed by uniformly applying an anchor application liquid having superior aging stability in forming the anchor film on a collector consisting of a two-dimensional substrate and further forming an electrode layer and allowing the electrode layer to be uniformly and firmly formed on the collector with the anchor film.例文帳に追加

二次元基板からなる集電体にアンカー膜を形成し、さらに電極層を形成するに際し、経時安定性に優れたアンカー用塗料液を均一に塗布して膜厚および被着重量が安定したアンカー膜を形成することができ、このアンカー膜付き集電体に前記電極層を均一かつ強固に形成することが可能なポリマーリチウム二次電池用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for producing the antireflection laminate having the antifouling layer includes a process in which a curable composition containing particles coated with a protective film is applied directly or via another layer on the transparent substrate, and the paint film is heated at 60-150°C for 1-5 min and irradiated with ultraviolet rays of 100-600 mW in an accumulated quantity of light of 300-700 mJ/cm^2.例文帳に追加

透明基材上に直接またはその他の層を介して、保護膜によって被覆されている微粒子とバインダーとを含有する硬化性組成物を塗布し、該塗膜に温度６０〜１５０℃で１〜５分間加熱し、次いで紫外線を１００〜６００ｍＷで、積算光量として３００〜７００ｍＪ／ｃｍ^２照射することを含む、防汚層を有する反射防止積層体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a rare-earth magnet is used to manufacture a rare-earth magnet having a protection layer formed on its surface, and it includes a step wherein an organic monomer-containing liquid is applied to a magnet base body containing rare-earth elements, and an electron beam is irradiated to cause polymerization reaction, so that a high polymer protection layer may be formed on the surface of the magnet base body.例文帳に追加

本発明の希土類磁石の製造方法は、磁石素体と、その表面に形成された保護層とを備える希土類磁石を製造するための方法であって、希土類元素を含有する磁石素体に、有機モノマー含有液を塗布した後、電子線を照射することにより重合反応を生じせしめ、磁石素体の表面に高分子保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

The method for producing 2-methyl-1,4-naphthoquinone comprises concentrating oxidation reaction mixture obtained by carrying out liquid phase oxidation of a 2-methylnaphthalene in an aliphatic carboxylic acid so that the reaction product concentration becomes 30-80 wt.% by distillation, bringing the concentrate into contact with an aromatic hydrocarbon solvent and water to carry out layer separation and recovering 2-methyl-1,4-naphthoquinone into an aromatic hydrocarbon layer.例文帳に追加

２−メチルナフタレンを脂肪族カルボン酸中で液相酸化して得られる酸化反応混合物を、蒸留により反応生成物濃度が３０〜８０重量％となるように濃縮し、これを芳香族炭化水素溶媒及び水と接触させて層分離し、２−メチル−１，４−ナフトキノンを芳香族炭化水素層に回収することを特徴とする２−メチル−１，４−ナフトキノンの製造方法。 - 特許庁

The method for producing chlorine where hydrogen chloride in a hydrogen chloride-containing gas is oxidized using an oxygen-containing gas by a fixed bed reaction system having the reaction zone consisting of a catalyst-packed layer is characterized by having a space velocity in the reaction zone of less than 0.70 m/s and a bulk density of a catalyst packed in the catalyst-packed layer of less than 700 kg/m^3.例文帳に追加

本発明の塩素の製造方法は、塩化水素を含むガス中の塩化水素を、酸素を含むガスを用いて、触媒充填層からなる反応域を有する固定床反応方式で酸化する方法であって、前記反応域における空塔速度が０．７０ｍ／ｓ未満であり、前記触媒充填層に充填される触媒の嵩密度が７００ｋｇ／ｍ^3未満であることを特徴とする。 - 特許庁

A sintered body 19 having dielectric strips 6 and 7 and wind parts 8 and 9 is obtained by forming resist material 13 with an opening 16 formed thereon on the outer surface of a green compact 14 provided with an elimination suppression layer 15, eliminating the prescribed part of the compact 14 with the material 13 as a mask by a sand blasting method until the layer 15 is exposed and firing and obtained structure 18.例文帳に追加

除去抑制層１５が設けられたグリーン成形体１４の外表面上に、開口１６が形成されたレジスト材１３を形成し、レジスト材１３をマスクとして、サンドブラスト法によって、除去抑制層１５が露出するまで、グリーン成形体１４の所定部分を除去し、得られた構造物１８を焼成して、誘電体ストリップ６，７およびウイング部８，９を有する焼結体１９を得る。 - 特許庁

The two-component system developer which is a two-component developer having toners containing a binder resin and coloring agents and a carrier, in which the carrier consists of a carrier core material having the coating layer containing metal oxide particles and the density of the metal oxide particles in the coating layer is smallest at the boundary with the carrier core material and the image forming method using the two-component system developer described above.例文帳に追加

結着樹脂及び着色剤を含有するトナー、及びキャリアを有する二成分系現像剤において、前記キャリアは、キャリア芯材が金属酸化物粒子を含有した被覆層を有するもので、前記被覆層中の金属酸化物粒子の濃度が、前記キャリア芯材との界面で最も小さいものであることを特徴とする二成分系現像剤、及び前記二成分系現像剤を用いる画像形成方法。 - 特許庁

In the nonmagnetic single-component developing method of developing electrostatic latent images on an electrostatic latent image carrier 5, by forming a thin layer of the nonmagnetic toner on the surface of a toner carrier 4 by a regulating member 3; the toner carrier has at least a substrate and a surface coating layer, containing a nitrogenous compound on the substrate; and the nonmagnetic toner contains a binder resin, a colorant and a resin having sulfur atoms.例文帳に追加

規制部材３によりトナー担持体４表面に非磁性トナーの薄層を形成して、静電潜像担持体５上の静電潜像を現像する非磁性一成分現像方法において、 該トナー担持体は、少なくとも基体及び前記基体上に含窒素化合物を含有する表面被覆層を有し、該非磁性トナーは、結着樹脂、着色剤、硫黄原子を有する樹脂を含有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for simultaneously forming the contact holes on a gate electrode on the Si active layer and via an insulating SiO_2 film, oxide films that are left in the irregularities of the Si active layer are removed effectively, by subsequently performing sputter etching by Ar gas with a sputtering device and continuously performing sputtering deposition after performing reactive ion etching by a fluorine gas system and wet etching by a buffered hydrofluoric acid.例文帳に追加

Ｓｉ活性層上、及び絶縁ＳｉＯ_２膜を介してゲート電極上にコンタクト孔を同時に形成する方法において、フッ素ガス系による反応性イオンエッチング及びバッファードフッ酸によるウェットエッチングの後に、引き続いてスパッタ装置によりＡｒガスによるスパッタエッチング、及びスパッタ成膜を連続して行うことにより、Ｓｉ活性層の凹凸部に残留する酸化膜を効果的に除去する。 - 特許庁

The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.例文帳に追加

プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に１以上の凹所を有する基台を準備する第１のステップと、フィルム状をした２以上の乾燥ホトレジストを重ねた第１のホトレジスト層であって当該第１のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第１のホトレジスト層を前記主面に形成する第２のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride-based compound semiconductor light-emitting element comprises steps of: laminating the nitride-based compound semiconductor layer including the light emitting layer 4 on at least a portion of a substrate to form the laminated semiconductor 36; forming the holding electrode 700 on a portion on the main surface 60 at the opposite side to the substrate of the laminated semiconductor 36; and removing the substrate.例文帳に追加

基板上の少なくとも一部に、発光層４を含む窒化物系化合物半導体層を積層して積層半導体３６を形成する工程と、積層半導体３６において上記基板と反対の位置にある主面６０側の一部に保持電極７００を形成する工程と、上記基板を除去する工程とを有する窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。 - 特許庁

In the production method for compound single crystal for epitaxially growing the compound single crystal layer, different from a compound single crystal substrate on the surface of this substrate, at least one part of the substrate surface has a plurality of projections, extending in one direction and each of such projections is provided, so that the defects to be grown with the epitaxial growth of this compound monocrystal layer can mutually meet.例文帳に追加

化合物単結晶基板の表面にこの基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、前記基板表面の少なくとも一部が一方向に延在する複数の起伏を有し、かつこの起伏は前記化合物単結晶層のエピタキシャル成長に伴って成長する欠陥が互いに会合しあうように設けられた方法。 - 特許庁

The lithographic printing plate having at least a silver halide emulsion layer on a support body and using a silver complex salt diffusion transfer method, is characterized in that the silver halide emulsion layer comprises silver halide particles containing ≥95 mol% of silver chloride, and the silver halide particles have a core-shell structure with respect to rhodium, and ≥80 wt.% of the whole rhodium is included in the shell.例文帳に追加

支持体上にハロゲン化銀乳剤層を少なくとも有する、銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版において、前記ハロゲン化銀乳剤層が塩化銀を９５モル％以上含有するハロゲン化銀粒子からなり、該ハロゲン化銀粒子はロジウムに関してコア・シェル構造を有し、かつ全ロジウム量の８０％重量以上をシェル中に含有することを特徴とする平版印刷版。 - 特許庁

In the transparent polyimide composite tubular body and production method, the tubular body consists of at least two layers of polyimide resin films comprising an inner layer high in mechanical characteristics and an outer layer of high light transmittance, and the polyimide resin film has a light transmittance at 550 nm wavelength of ≥50%, a tensile strength of ≥15 kgf/mm^2, and a tensile elastic modulus of ≥350 kgf/mm^2.例文帳に追加

機械的特性の高い内層及び光透過率の高い外層からなる少なくとも２層のポリイミド樹脂被膜からなる管状物であって、前記被膜の光透過率が波長５５０ｎｍにおいて５０％以上であり、引張強度が１５ｋｇｆ／ｍｍ^２以上、引張弾性率が３５０ｋｇｆ／ｍｍ^２以上の特性を有する透明ポリイミド複合管状物及びその製造方法。 - 特許庁

In the polyester film having coating layers obtained by a coating stretching method on both surfaces, one coating layer contains a fluorine-containing resin as one of constitutional components, and another coating layer has a polyurethane resin which contains polycarbonate structures and carboxyl groups and has a glass transition temperature of 10°C or less and contains a crosslinking agent with functional groups of 10 mmol/g or more, by not greater than 20 wt.%.例文帳に追加

塗布延伸法により得られる塗布層を両面に有するポリエステルフィルムであって、一方の塗布層はフッ素含有樹脂を構成成分の一つとし、もう一方の塗布層は、ポリカーボネート構造およびカルボキシル基を有するガラス転移点が１０℃以下のポリウレタン樹脂を含有し、官能基量が１０ｍｍｏｌ／ｇ以上である架橋剤を２０重量％以上含有しないことを特徴とする塗布フィルム。 - 特許庁

To provide a heat treatment method, which can prevent occurrence of slip dislocation and sufficiently eliminate grown-in defects in the vicinity of the surface even when a CZ silicon monocrystal wafer having a diameter of 300 mm or larger is mainly subjected to a high heat treatment, and an annealed wafer having a DZ layer in the wafer surface layer and containing high-density oxygen precipitates capable of achieving a high gettering effect in a bulk.例文帳に追加

主に直径が３００ｍｍ以上のＣＺシリコン単結晶ウェーハに高温熱処理を行なってもスリップ転位の発生を抑制し、表面近傍のGrown-in欠陥を十分に消滅させることのできる熱処理方法を提供し、及びウェーハ表層部にＤＺ層を有し、かつバルク中に高いゲッタリング効果が得られる高密度の酸素析出物を有するアニールウェーハを提供する。 - 特許庁

A substrate layer comprising a hard material is formed on the surface of the resin substrate and a fragile material is allowed to impinge against the resin substrate by a fine particle beam accumulation method so as to be partially embedded in the resin substrate to form an anchor part to form the polycrystalline fragile material structure substantially having no crystal orientation and not substantially having a grain boundary comprising a glass layer in the mutual interface of crystals.例文帳に追加

樹脂基材表面に硬質材料からなる下地層を形成した後に、その下地層の上に微粒子ビーム堆積法によって脆性材料を衝突させ、一部が下地層に食い込んでアンカー部を形成し、多結晶で実質的に結晶配向性がなく更に結晶同士の界面にガラス層からなる粒界面が実質的に存在しない脆性材料構造物が形成されている。 - 特許庁

This method for manufacturing a foaming elastic rubber roller has a stage for manufacturing an extrusion molding roller having an unfoaming and unvulcanized rubber compound layer by extruding a rubber compound on the outer periphery of a shaft body by a crosshead type extruder, and then a stage for vulcanizing and foaming the rubber compound layer of the extrusion molding roller by loading the extrusion molding roller in the center of a cylindrical metallic mesh shape forming body and heating it.例文帳に追加

クロスヘッドタイプの押出機により軸体の外周上にゴムコンパウンドを押し出し、未発泡・未加硫のゴムコンパウンド層を有する押出成形ローラーを作製する工程、次いで、該押出成形ローラーを、円筒形状の金属メッシュ形状形成体の中心に装填し、これを加熱して前記ローラーのゴムコンパウンド層を加硫し発泡する工程、を有する発泡弾性ゴムローラーの製造方法。 - 特許庁

A method for manufacturing the gas barrier laminate comprises laminating a gas barrier layer formed from (E) a gas barrier layer-forming coating comprising (C) a polyalcohol polymer and (D) an olefin/maleic acid copolymer containing ≥10 mol% maleic acid unit on a plastic base material through an undercoat formed from (A) a polyester polyol having a glass transition temperature of ≥50°C and (B) a polyisocyanate.例文帳に追加

プラスチック基材上に、ガラス転移温度が５０℃以上のポリエステルポリオール（Ａ）とポリイソシアネート（Ｂ）とから形成されるアンダーコート層を介して、ポリアルコール系ポリマー（Ｃ）とマレイン酸単位を１０モル％以上含有するオレフィン—マレイン酸共重合体（Ｄ）とを含有するガスバリア層形成用塗料（Ｅ）から形成されるガスバリア層が積層されることを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 - 特許庁

In an electrostatic charging roller having, at least successively from an inner side, a conductive substrate, a conductive elastic body base layer essentially consisting of polar crosslinked rubber and a surface layer essentially consisting of a urethane resin formed by isocyanate crosslinking of acryl polyol, the electrostatic charging roller containing a thixotropy imparting particle in the surface lager, the image forming device having this electrostatic charging roller, the electrostatic charging method and the process cartridge.例文帳に追加

少なくとも内側から、導電性支持体と、有極性の架橋ゴムを主成分とする導電性弾性体基層と、アクリルポリオールをイソシアネート架橋したウレタン樹脂を主成分とする表層とを有する帯電ローラにおいて、該表層にチクソトロピー性付与微粒子が含まれていることを特徴とする帯電ローラ、この帯電ローラを有する画像形成装置、帯電方法及びプロセスカートリッジ。 - 特許庁

In the method of manufacturing the organic electroluminescent device having a first-electrode forming step, an organic-layer forming step including a wet deposition step, and a second-electrode forming step, the organic-layer forming step includes a conserving step performed in the environment of its relative humidity being not larger than 40% or its oxygen volume concentration being not larger than 20%, after the wet deposition step.例文帳に追加

第一の電極の形成工程と、湿式成膜工程を含む有機層の形成工程と、第二の電極の形成工程とを有する有機電界発光素子の製造方法であって、 該有機層の形成工程が、湿式成膜工程より後に相対湿度が４０％以下、又は酸素の体積濃度が２０％以下の環境における保存工程を含む、有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

The stamper can be produced by a method including: a stage where a rugged pattern is formed on a substrate; a stage where a layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is formed on the rugged pattern; and a stage where the adhesion face among the substrate, the rugged pattern and the layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is peeled.例文帳に追加

こうしたスタンパは、基板上に凹凸パターンを形成する工程と、その凹凸パターンの上にＸ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０の層を形成する工程と、前記基板及び前記凹凸パターンと、前記Ｘ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０の層との密着面を剥離する工程とを含む方法で製造できる。 - 特許庁

While having a water-repellent surface left on an insulating film surface at least in an operation region, the organic transistor which has the organic semiconductor layer containing at least one organic semiconductor material on an insulating film has a hydrophilic surface in the other region, and then the organic semiconductor layer is formed by the coating method to make the formation by a solution process possible, thereby manufacturing the organic transistor having no electric charge trap.例文帳に追加

絶縁膜上に少なくとも一種の有機半導体材料を含む有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、絶縁膜表面に少なくとも動作領域に疎水性表面を残したまま、その他の領域を親水性表面とした後、塗布法により有機半導体層を形成することにより、溶液プロセスによる形成を可能とし、電荷トラップのない有機トランジスタを作製できる。 - 特許庁

The production method of the particle comprises at least a resin coating layer forming step for forming the resin coating layer containing an olefin copolymer having a cyclic structure on the surface of the resin fine particle by using at least either a supercritical fluid or a subcritical fluid, wherein the olefin copolymer has a glass transition temperature of 60 to 180°C and a number average molecular weight of 1,000 to 120,000.例文帳に追加

超臨界流体及び亜臨界流体の少なくともいずれかを用いて樹脂微粒子の表面に環状構造を有するオレフィン系共重合体を含有する樹脂被覆層を形成する樹脂被覆層形成工程を少なくとも含んでなり、前記オレフィン系共重合体のガラス転移温度が６０〜１８０℃であり、かつ数平均分子量が１,０００〜１２０,０００である粒子の製造方法である。 - 特許庁

In the manufacture of the fereoelectric element comprising a lower electrode, a lead- base ferrolectric layer formed on the lower electrode, and an upper electrode formed on the lead-base ferroelectric layer, at least the upper electrode, of either the upper and lower electrodes, is formed through depositing CaRuO3 into a thickness of 50 nm or smaller by organic metal compound CVD method at a substrate temperature 65°C or lower.例文帳に追加

下部電極と下部電極上の鉛基強誘電体層と鉛基強誘電体層上の上部電極を有する強誘電体素子の製造方法において下部電極および上部電極のうち少なくとも上部電極を、有機金属化合物化学的気相堆積法を用い、基板温度を６５０℃以下の条件下でＣａＲｕＯ_3 を堆積して形成し、かつ膜厚を５０ｎｍ以下とする製造方法。 - 特許庁

A method for manufacturing the substrate includes the stages of preparing a bonded substrate formed by bonding a 1st substrate 1 and a 2nd substrate 3 having insulators 2 at least on surfaces, forming a compound substrate 5' by forming a gettering layer 4 for capturing metal impurities on the surface of the bonded substrate 5, heat-treating the compound substrate 5', and removing the getternig layer 4 from the compound substrate 5'.例文帳に追加

基板の製造方法は、少なくとも表面に絶縁体２を有する第１の基板１に第２の基板３を結合した結合基板５を準備する工程と、結合基板５の表面に金属不純物を捕獲するためのゲッタリング層４を形成し複合基板５’を作製する工程と、複合基板５’を熱処理する工程と、複合基板５’からゲッタリング層４を除去する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for plating to filler via with high reliability by which hole filling can be completed in a short time in a plating step for filling a micro-diameter via hole connecting upper and lower conductor wiring layers when manufacturing a multilayer wiring board of a multilayer structure wherein an insulation layer made of an organic insulation material such as a polyimide resin and a wiring layer made of a conductor material such as cupper are alternately stuck.例文帳に追加

ポリイミド樹脂等の有機絶縁材からなる絶縁層と銅等の導体材料からなる配線層が交互に積層してなる多層構造を有する多層配線基板の製造における上下の導体配線層を接続する微小径ビアホールを穴埋めするめっき工程において、短時間で穴埋めが可能となり、かつ、接続信頼性の高い、フィルドビアめっき方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrode member for a nonaqueous electronic component includes: a process for forming an undercoated layer by applying and drying slurry containing conductive adjuvant and the latex of synthetic rubber on the surface of a sheet-shaped conductive material; and a process for overlapping and compressing the porous active electrode sheet containing at least carbonaceous material, conductive adjuvant and bonding agent as electrode active material on the surface of the undercoated layer.例文帳に追加

シート状導電性材料の表面上に、導電補助剤及び合成ゴムのラテックスを含有するスラリーを塗布乾燥して下塗り層を形成する工程、及び電極活物質としての炭素質材料、導電補助剤及び結着剤を少なくとも含有する多孔質作用電極シートを、該下塗り層の表面に重ねて圧迫する工程、を包含する非水系電子部品用電極部材の製造方法。 - 特許庁

Image data for the plurality of layers are generated as to the same image, an image area of an edition object is assigned as to each of the image data for the respective layers, and a CRT controller 160 displays thereafter the image area for the each layer assigned therebefore on a CRT 161, by a prescribed display method different from the image area, when one layer of the image area is assigned.例文帳に追加

同一画像について複数のレイヤーの画像データを生成し、前記各レイヤーの画像データの夫々に対して編集対象となる画像領域を指定した後、一レイヤーの画像領域が指定されると、ＣＲＴコントローラ１６０は、当該画像領域とは異なる所定の表示方法によって、それ以前に指定された各レイヤーの画像領域をＣＲＴ１６１上で表示させる。 - 特許庁

The manufacturing method of the display unit for manufacturing ribs 60 constituting light-emitting cells 201 on the base plate 30 of the display unit comprises an inorganic fine powder forming step ST1 forming an inorganic fine powder layer 33A on the base plate 30 and a rib forming step ST3 forming the ribs 60 by irradiating laser beams 70 on the inorganic fine powder layer 33A on the base plate and melting it.例文帳に追加

ディスプレイ装置の基板３０において発光セル２０１を構成する隔壁６０を製造するためのディスプレイ装置の製造方法であり、基板３０に対して無機微粉末層３３Ａを形成する無機微粉末層形成ステップＳＴ１と、基板３０上の無機微粉末層３３Ａにレーザ光７０を照射して溶融して隔壁６０を形成する隔壁形成ステップＳＴ３とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing an integrated photovoltaic device including a substrate 11 and the electrode layer formed on the substrate 11, includes at least a patterning step of removing and separating a portion of the electrode layer formed on the substrate 11 by a laser beam 41 emitted through a light-permeable window 30 from the outside of a vacuum chamber (vacuum tank) 10 having the light-permeable window 30.例文帳に追加

基板１１と基板１１上に成膜された電極層とを有する集積型光発電素子の製造方法であって、光透過窓３０を備えた真空チャンバー（真空槽）１０の外部から光透過窓３０を通して照射されたレーザ光４１により、基板１１上に成膜された電極層の一部を除去し且つ分離するパターニング工程を、少なくとも有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of forming a first insulating film 25 on the upper side of a silicon substrate 10, forming an impurity layer 22 to the first insulating film 25 by implanting impurity ion in the predetermined depth of the first insulating film 25, and thereafter reforming the impurity layer 22 to a barrier insulating film 23 by annealing the first insulating film.例文帳に追加

シリコン基板１０の上方に第１絶縁膜２５を形成する工程と、第１絶縁膜２５の所定の深さに不純物をイオン注入することにより、第１絶縁膜２５に不純物層２２を形成する工程と、不純物層２２を形成した後、第１絶縁膜をアニールすることにより、不純物層２２をバリア絶縁膜２３に改質する工程とを有する半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

In the method for the quantitative analysis of the organic matter, the organic matter in the sample is extracted into an extraction organic solvent layer using an extraction organic solvent and the extraction organic solvent is volatilized from the extraction organic solvent layer to obtain residue while a deuteration solvent is added to the residue to obtain a deuteration solvent solution which is, in turn, quantitatively analyzed by infrared absorption analysis.例文帳に追加

本発明の有機物の定量分析方法は、抽出有機溶媒を用いて試料中の有機物を抽出有機溶媒層に抽出し、該抽出有機溶媒層から前記抽出有機溶媒を揮散させて残留物を得、該残留物に重水素化溶媒を添加して重水素化溶媒溶液を得、該重水素化溶媒溶液を赤外線吸収分析により定量分析する。 - 特許庁

The method for manufacturing a solid electrolyte battery including power generating elements formed by accumulating a positive electrode, a solid electrolyte layer, and a negative electrode, includes a process of giving a heat press on positive electrode ink layers, electrolyte ink layers, and negative electrode ink layer that are made by applying positive electrode ink, electrolyte ink, and negative electrode ink containing polymer electrolyte, respectively.例文帳に追加

正極、固体電解質層、負極を積層することにより発電要素となす固体電解質電池の製造方法において、ポリマー電解質を含有する、正極インク、電解質インクおよび負極インクの塗布により形成された正極インク層、電解質インク層および負極インク層からなる複合層を熱プレスする工程を有することを特徴とする固体電解質電池の製造方法。 - 特許庁

For the printing method for using the lithographic printing plate material capable of developing on the printer having an image forming layer on a substrate, at least a part of the image forming layer can be removed by dampening water or the dampening water and ink and the dampening water is used by circulation while it is filtered by using a filter during printing.例文帳に追加

基材上に画像形成層を有する印刷機上現像が可能な平版印刷版材料を用いた印刷方法において、該画像形成層の少なくとも一部は湿し水若しくは湿し水とインクで除去可能であり、且つ、印刷中に湿し水をフィルタを用いて濾過しながら循環して使用することを特徴とする印刷機上現像が可能な平版印刷版材料を用いた印刷方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of a thin-film transistor which uses an oxide semiconductor for an active layer, by having a precursor thin film 6' of the oxide semiconductor which is formed before the precursor thin film is heated into a pattern, as an active layer, with the oxide semiconductor 6 formed by removing the remaining precursor thin film 6', to have a pattern 6 of the oxide thin film formed.例文帳に追加

酸化物半導体を活性層に用いた薄膜トランジスタの製造方法において、酸化物半導体の前駆体薄膜６’を形成したのち、該前駆体薄膜をパターン状に加熱することで、酸化物薄膜のパターン６を形成し、残存した前駆体薄膜６’を除去し形成した、酸化物半導体６を活性層に用いたことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

In the method for producing a circuit board by pasting a reinforcing plate to one side of a flexible film through a UV-curing organic matter layer, forming a circuit pattern on the other side of the flexible film and then stripping the flexible film having the circuit pattern from the reinforcing plate, the UV-curing organic matter layer is irradiated with UV-rays prior to a step for forming the circuit pattern.例文帳に追加

可撓性フィルムの片面に補強板を紫外線硬化型有機物層を介して貼り合わせ、次いで、該可撓性フィルムの他の面に回路パターンを形成してから、回路パターン付き可撓性フィルムを補強板から剥離する回路基板の製造方法において、該回路パターンを形成する工程の前に該紫外線硬化型有機物層に紫外線を照射することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the micrometallic structures which forms the conductive layer film on the surface of the PMMA matrix 3 formed with X-ray patterns includes an etching process of roughening the surface of the PMMA matrix 3 by a high chromium acid bath, a sensitizing process, an activating process and an electroless plating process for forming the conductive layer film.例文帳に追加

Ｘ線パターンが形成されたＰＭＭＡ母型３の表面上に導電層膜を形成し電鋳を行う微細金属構造体の製造方法において、ＰＭＭＡ母型３の表面を高クロム酸浴により粗化するエッチング工程と、センサタイジング工程と、アクチベーティング工程と、導電層膜を形成する無電解めっき工程と、を含むことを特徴とする微細金属構造体５の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrostatic latent image developing carrier includes a step of coating the surface of a core material comprising a magnetic material with a silicone resin having conductive carbon dispersed therein; and a step of mixing/stirring the carrier having the silicone resin coating layer with a yellow toner and then sucking/removing the yellow toner to remove conductive carbon depositing on the surface of the silicone resin coating layer.例文帳に追加

静電潜像現像用キャリアの製造方法であって、磁性体からなる芯材の表面に、導電性カーボンが分散されたシリコーン樹脂を被覆する工程と、シリコーン樹脂被覆層が形成されたキャリアをイエロートナーと共に混合・攪拌した後、イエロートナーを吸引・除去してシリコーン樹脂被覆層表面に付着する導電性カーボンを除去する工程とを含む 静電潜像現像用キャリアの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the magnetic recording medium includes a step of forming a plurality of nanoholes in a direction substantially orthogonal to a surface of a substrate to form a nanohole structure by performing nanohole forming processing to a metal layer after the metal layer is formed on the substrate, a step of forming a carbon nanotube inside the nanohole, and a step of filling the inside of the carbon nanotube with a magnetic material.例文帳に追加

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に金属層を形成した後、該金属層に対しナノホール形成処理を行うことにより、該基板面に対し略直交する方向にナノホールを複数形成してナノホール構造体を形成する工程、該ナノホールの内部にカーボンナノチューブを形成する工程、及び、該カーボンナノチューブの管内に磁性材料を充填する工程を含む。 - 特許庁

In the processing method, a silver halide photographic sensitive material having at least one hydrophilic colloidal layer on a support and containing monodisperse acrylic polymer particles having carboxyl groups and ≤20% comparative standard deviation value (CV value) in the at least one hydrophilic colloidal layer is processed with 0.5-51 washing water without replenishing washing water.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の親水性コロイド層を有し、かつ該親水性コロイド層の少なくとも１層に、カルボキシル基を有し相対標準偏差値（ＣＶ値）が２０％以下である単分散アクリル系ポリマー粒子を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、水洗水量０．５〜５リットルで、かつ水洗水無補充で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device having a structure with a crystalline semiconductor layer with a catalitic element added, a gate insulating film, and a gate electrode laminated on an insulating substrate in this order includes a light irradiating process for irradiating the light that passes through the crystalline semiconductor layer and is absorbed by the gate electrode to the gate electrode.例文帳に追加

絶縁基板上に、触媒元素が添加された結晶性半導体層、ゲート絶縁膜及びゲート電極がこの順に積層された構造を有する半導体装置の製造方法であって、上記製造方法は、結晶性半導体層を透過し、かつゲート電極に吸収される光をゲート電極に対して照射する光照射工程を含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

In a method for producing a polyimide laminate in which a surface of a polyimide film comes in contact with silicone and an adhesive layer is formed on the surface after contact with the silicone, a blast material solidified by refrigeration, which becomes gas at normal temperature and pressure is blown on the surface of the polyimide film after contact with the silicone and the adhesive layer is formed on the surface of the polyimide film.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの表面がシリコーンと接触し、そのシリコーンと接触した表面に接着層を形成するポリイミド積層体の製造方法であり、シリコーンと接触したポリイミドフィルムの表面に、常温常圧下で気体となる冷却固体化したブラスト材を吹き付け、その後シリコーンと接触したポリイミドフィルムの表面に接着層を形成することを特徴とするポリイミド積層体の製造方法。 - 特許庁

To provide a photoelectric transfer element, capable of suppressing recombination of an electron and a hole and superior in photoelectric transfer efficiency by reducing a probability of reverse migration of electrons injected from a colorant layer to an electron transport layer, a manufacturing method of the photoelectric transfer element, capable of manufacturing such photoelectric transfer element efficiently, and an electronic apparatus having high reliability having the photoelectric transfer element.例文帳に追加

色素層から電子輸送層へ注入された電子が、逆移動する確率を低下させることによって、電子と正孔の再結合を抑制し得る光電変換効率に優れた光電変換素子、かかる光電変換素子を効率よく製造することができる光電変換素子の製造方法、および前記光電変換素子を備えた信頼性の高い電子機器を提供すること。 - 特許庁