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layer methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 36897件
The method for preparing the substrate for growing gallium nitride includes performing thermal cleaning on a surface of a silicon substrate, forming a Si_3N_4 micro-mask on the surface of the silicon substrate in an in situ manner, and growing a gallium nitride layer through epitaxial lateral overgrowth (ELO) using an opening in the micro-mask.例文帳に追加
シリコン基板の表面をサーマルクリーニングする工程と、基板の表面にインサイチュ方式のSi_3N_4マイクロマスクを形成する工程と、マイクロマスクの開口部を通じるエピタキシャル横方向過度成長(ELO)方法で窒化ガリウム層を成長させる工程と、を含む窒化ガリウム成長用基板の製造方法。 - 特許庁
The method includes the steps of: dropping liquid material having liquid repellent nature onto a base layer; drying the dropped liquid material to form a bank film of a coffee stain shape having a bank in periphery; and coating organic semiconductor material at the inside of the bank film to form an organic semiconductor film.例文帳に追加
下地層の上に撥液性を有する液体材料を滴下する工程と、滴下された液体材料を乾燥させることにより、周縁にバンクを有するコーヒーステイン形状のバンク膜を形成する工程と、バンク膜の内側に有機半導体材料を塗布し、有機半導体膜を形成する工程と、を有する。 - 特許庁
To provide a peeling method, with the use of a substrate of high translucency is indispensable and irradiation with a laser beam of relatively high intensity is necessary for making the substrate pass through and to further give sufficient energy to amorphous silicon, to release the hydrogen contained therein, and which will not damage the layer to be peeled off.例文帳に追加
透光性の高い基板を使用することが必須であり、基板を通過させ、さらに非晶質シリコンに含まれる水素を放出させるに十分なエネルギーを与えるため、比較的大きなレーザー光の照射が必要とされ、被剥離層に損傷を与えることなく剥離する方法を提供する。 - 特許庁
The method includes a step of forming an organic semiconductor layer 30, by applying an organic semiconductor composition containing an organic semiconductor material, comprising a structure unit that contains at least one thiophene ring as a repeating unit and an organic solvent containing at least any one of sishydrindane, transhydrindane, 1,3-dimethyladamantan, exotetrahydrodicyclopentadiene or cineole.例文帳に追加
少なくとも1つのチオフェン環を含む構造単位を繰り返し単位とする有機半導体材料と、シスヒドリンダン、トランスヒドリンダン、1,3−ジメチルアダマンタン、エキソテトラヒドロジシクロペンタジエン、或いはシネオールの少なくとも1つを含有する有機溶媒とを含む有機半導体用組成物を塗布して有機半導体層30を形成する。 - 特許庁
The processing method for a photosensitive planographic printing plate is characterized in that a photosensitive planographic printing plate material having a photosensitive layer on a support is imagewisely exposed, developed in a developing solution containing substantially no silicate, and then processed with an alkali aqueous solution containing a silicate by 0.1 to 2.0 mass%.例文帳に追加
支持体上に感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、実質的に珪酸塩を含まない現像液で現像処理した後、珪酸塩を0.1〜2.0質量%含有するアルカリ水溶液で処理することを特徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。 - 特許庁
The structure, a package structure body of laminated dies, and the method for forming the same, wherein an elastic adhesive layer provided on a first die covers the entire upper surface of the first die to form a frame on a first peripheral end except for an opening formed on a first contact pad.例文帳に追加
本願発明は構造と、積層したダイのパッケージの構造体と、その形成方法を提供することであって、第1のダイ上に備えられた弾性接着剤層は、第1のダイの全上表面を覆い、第1コンタクトパッド上に形成された開口を除いた第1の周辺端部に枠を形成する。 - 特許庁
The method includer a process for applying a reaction mixture containing a pore forming agent containing a polyol, an isocyanate compound, and a volatile silicone oil on the surface of the base material 12 and a process in which the reaction mixture is subjected to reaction between the polyol and the isocyanate compound to form a porous coated layer 14 on the base material 12.例文帳に追加
基材12の表面に、ポリオール、イソシアネート化合物、および揮発性シリコーン油を包含する気孔形成剤を含有する反応混合物を適用する工程、および該反応混合物を該ポリオールと該イソシアネート化合物との反応条件に供して基材12上に多孔質被覆層14を形成する方法。 - 特許庁
To provide a method for easily removing a residual generated in dry-etching on SiN (silicon nitride) which is an insulting film layer in a process for manufacturing a semiconductor substrate and efficiently cleaning the semiconductor substrate without the corrosion of a-Si, polysilicon and a wiring material, which are used for a glass substrate and a thin film circuit.例文帳に追加
半導体基板を製造する工程で、絶縁膜層であるSiN(窒化シリコン)等のドライエッチング時に発生する残渣物を容易に除去でき、さらにガラス基板や薄膜回路に使用されるa−Si、ポリシリコンや配線材料を全く腐食することなく極めて効率良く半導体基板を洗浄する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a joint-covered welded can drum for which embedment of resin into a stepped recess at a welded part is made effectively while thinning of a resin covering layer at a shoulder part of the welded part is prevented, excellent in combination of anticorrosiveness, adhesiveness, processability and sanitariness, and solso to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加
溶接部における段差凹部への樹脂の埋め込みが有効に行われていると共に、溶接部における肩部での樹脂被覆層の薄肉化も防止され、耐腐食性、密着性、加工性及び衛生的特性の組合せに優れた継ぎ目被覆溶接缶胴及びその製法を提供するにある。 - 特許庁
This method for producing a dendritic titanium powder comprises the steps of: dissolving lower titanium chloride into a molten salt to form a mixed molten salt; forming a melt layer of a reductive metal on the bath surface of the mixed molten salt; and reducing the lower titanium chloride with electrons which the reductive metal releases when dissolving in the mixed molten salt.例文帳に追加
溶融塩にチタン低級塩化物を溶解させて混合溶融塩とし、混合溶融塩の浴面に還元剤金属の溶融層を形成し、還元剤金属が混合溶融塩に溶解する際に放出される電子によってチタン低級塩化物を還元して樹枝状チタン粉を得ることを特徴とする。 - 特許庁
In the method of manufacturing a non-aqueous electrolytic liquid secondary battery, a separator is interposed between a member containing silicon system material and a positive electrode, and a metal lithium layer is interposed between the separator and the above member, and aging is performed for a prescribed time in this state, thereby, lithium is made to be stored in the silicon system material.例文帳に追加
本発明の非水電解液二次電池の製造方法においては、シリコン系材料を含む部材と正極との間にセパレータを介在させると共に、セパレータと前記部材との間に金属リチウム層を介在させ、この状態下に所定時間エージングを行い、シリコン系材料にリチウムを吸蔵させる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a color filter which can reduce uneven colors and fluctuating display speed by improving the flatness of the colored layers formed by ink jetting in light shading layer apertures in an ink jet system, and making the distance even between the color filter and the TFT substrate facing it in the LCD panel.例文帳に追加
インクジェット方式において、遮光層開口部内に吐出、形成された着色層の平坦性を向上させ、LCDパネルに於けるカラーフィルタと対向するTFT基板との距離を均一化させる事により、色ムラや表示速度ムラの低減が可能なカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method for producing the animal fibers comprises previously and primarily oxidizing the surface layer part thereof with an oxidizing agent, blowing an aqueous treating liquid containing ozone as ultrafine bubbles of ≤5 μm in the aqueous treating liquid, making the treating liquid collide with the fibers, carrying out vapor-phase reaction with the ozone gas and then treating the fibers with a reducing agent.例文帳に追加
獣毛繊維を、前もって酸化剤でその表層部分を一次酸化し、水性処理液中で、オゾンを5ミクロン以下の超微細気泡として含んだ該水性処理液を吹き付けて該繊維に衝突させてオゾンガスによる気相反応させた後、還元剤で処理する上記獣毛繊維の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a porous electroformed shell that reduces the number of processes and manufacturing time and can stabilize forming positions of airholes by making formation of an electroforming layer in an electroforming solution and the elution of particles stuck in advance to a surface of a master mold (or another member) progress simultaneously.例文帳に追加
電鋳液中における電鋳層の形成と、予め母型(又は他部材)の表面に付着させた粒子の電鋳液中への溶け出しとが同時進行することによって、工程数や製造時間の軽減を図り、通気孔の形成位置を安定化することのできる多孔質電鋳殻の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an adhesive composition constituting an adhesive sheet embedding an adhesive layer in a recess on the surface of a substrate and a semiconductor chip in the press mounting of a semiconductor chip on the surface of a substrate in a state comparable or superior to conventional compositions even by the pressing under lower temperature and lower load compared with conventional method.例文帳に追加
基材の表面に半導体チップを圧着により搭載する際に、従来よりも低温及び低荷重での圧着によっても、基材及び半導体チップの表面における凹部に従来と同程度又はそれ以上に接着層を埋め込むことが可能な接着シートを構成する接着剤組成物を提供する。 - 特許庁
The evaluation method comprises a step of preparing the medicine, and a rough skin model skin comprising the horny cell layer sheet isolated from a skin tissue maintained under culture and then dried, a step of administering the medicine to the rough skin model skin, and a step of obtaining the total transmittance of the rough skin model skin.例文帳に追加
前記評価方法は、前記薬剤と、培養下で維持された表皮組織から単離された後に乾燥された角層シートからなる肌荒れモデル表皮とを用意するステップと、前記薬剤を前記肌荒れモデル表皮に投与するステップと、前記肌荒れモデル表皮の全透過率を得るステップとを含む。 - 特許庁
The method of this invention further includes a heat treatment step to trap contaminants so as to prevent peeling between layers in the concentrated ionization layer after the implantation step (a) and before the peeling step (c), and also a step to remove zones disturbed in the peeling step (c) by trapping contaminants after the step (c).例文帳に追加
本方法は、注入ステップa)の後で、はく離ステップc)の前に、前記イオンの濃縮された層において前記基板の層間はく離を引き起さない、汚染物質をトラップする熱処理ステップ、並びに、ステップc)の後に、汚染物質をトラップすることにより、およびはく離ステップc)によりかき乱されたゾーンを取り除くステップも含む。 - 特許庁
In a channel forming process in the method of manufacturing the full depletion type SOI transistor, especially, the NMOS transistor, ion implantation for threshold control for the channel forming portion is executed for an interface between an SOI layer and a buried insulation film at plurality of times while changing acceleration energy and dividing a dose quantity.例文帳に追加
完全空乏型SOIトランジスタ、特にNMOSトランジスタの製造方法におけるチャネル形成工程において、チャネル形成部へ閾値調整のためのイオン注入をSOI層/埋め込み絶縁膜との界面に、加速エネルギーを変えてドーズ量を分割して複数回行うことを特徴とする - 特許庁
To provide a method for plating a printed circuit board, which prevents nickel of a substrate layer from diffusing into the surface in an assembly step, by filling cavities of a pad for bonding of the printed circuit board with reduction plating, which are formed during plating, and which improves the reliability of an electroless plating step.例文帳に追加
プリント回路基板のボンディング用パッドのメッキ時に発生する空隙を還元メッキによって塞ぐことにより、アセンブリ工程時に下地ニッケルが表面に拡散することを防止して無電解メッキ工程の信頼性を向上させることが可能なプリント回路基板のメッキ方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a piezoelectric resonance device which has high sealing reliability and high mass-productivity and its manufacturing method while suppressing an influence of an alloy layer with infavorable solderability generated on an abutting surface when a piezoelectric element is temporarily fixed by using ultrasonic thermocompression bonding, in the case the element is connected to a base substrate and sealed by soldering.例文帳に追加
本発明は、圧電素子をベース基板にハンダにて接続及び封止する場合に、超音波熱圧着を用いて仮止めを行う際に当接面に発生するハンダ接合性の悪い合金層の影響を抑えて、封止信頼性が高く量産性の高い圧電共振装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can execute high-quality heat treatment of a semiconductor substrate having a large area in a low temperature process by enabling to suppress adhesion of particles on a semiconductor layer, to improve stability of flame and uniformity of heat, and to promote cooling of a nozzle head.例文帳に追加
パーティクルの半導体層への付着を抑制することができ、火炎の安定性向上と均熱化促進を図ることができ、さらに、ノズルヘッドの冷却を促進することができ、低温プロセスで大面積の半導体基板の熱処理を品質良く行うことが可能な半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁
To provide a sensor element available to an electrochemical measurement system capable of carrying, on the surface of a collector body, a sensing layer formed by including a biocatalyst identifying a target substance or a selectively permeable membrane selectively-obstruct permeation of a coexistence interfering substance causing an undesirable electrochemical reaction and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
標的物質を識別する生体触媒を含んでなる感応層、または好ましくない電気化学的反応を引き起こす共存妨害物質の透過を選択的に阻止する選択透過膜を集電体表面に強く担持できる、電気化学測定系に利用されるセンサ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the epitaxial wafer at least comprises a heat treatment process conducting heat treatment for a silicon single crystal in ingot state, a wafer processing process wherein the heat-treated ingot is sliced into wafers with mirror surface, and an epitaxial growth process wherein an epitaxial layer is formed on the wafers.例文帳に追加
エピタキシャルウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行なう熱処理工程と、前記熱処理したインゴットを鏡面状のウエーハに加工するウエーハ加工工程と、前記ウエーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル成長工程を有するエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁
To provide a tandem-type thin film solar cell module having electric conductivity and high light conversion efficiency in which current leakage through an intermediate layer with light transmissivity and light reflectivity is prevented from occurring and an ineffective area not contributing to electricity generation is prevented from enlarging, and its manufacturing method.例文帳に追加
導電性を有し、かつ、光透過性及び光反射性を有する中間層を介した電流リークが抑制され、且つ、発電に寄与しない無効面積の拡大が抑制された高い光変換効率を有するタンデム型薄膜シリコン太陽電池のモジュール及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a membrane and electrode assembly in which a surface of catalyst supporting particles including micro pores of a catalyst layer is evenly and thinly coated with electrolyte without giving thermal and mechanical damage to a polymer electrolyte membrane, and which is superior in a balance of conductivity, proton conductivity, and gas dispersibility.例文帳に追加
高分子電解質膜に熱的および機械的損傷を与えることなく、触媒層の細孔内を含む触媒担持粒子の表面に電解質を均一に薄く被覆させ、電気伝導性、プロトン伝導性、およびガス拡散性のバランスが良好な触媒層を有する膜・電極接合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
This invention relates to: the method of manufacturing the organic electronic element which has a transparent electrode, a counter electrode, and at least one organic layer between them, at least one electrode being formed in the following two steps; the organic electronic element; an organic photoelectric conversion element; and an organic electroluminescent device.例文帳に追加
透明電極、対電極、およびその間に少なくとも1層の有機層を有する有機エレクトロニクス素子であって、すくなくとも一方の電極が、下記2つのステップによって形成されたことを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機光電変換素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁
The production method of the resin film has a process for heating and curing a resin layer comprising the resin composition and further irradiating an active energy ray.例文帳に追加
架橋基を有する熱硬化性樹脂又は架橋基を有する熱硬化性樹脂及び架橋剤を含む樹脂組成物を用いて、樹脂膜を製造する方法であって、前記樹脂組成物より構成される樹脂層を加熱硬化し、更に活性エネルギー線を照射する工程を有することを特徴とする樹脂膜の製造方法により解決される。 - 特許庁
An N-type diamond semiconductor crystal layer 4, doped with sulfur which serves as donor atoms, is formed through a CVD method on a P-type diamond semiconductor crystal 2 which is formed of high-pressure synthetic diamond doped with boron or natural IIb diamond to form a P-N junction 6.例文帳に追加
ホウ素ドープした高圧合成ダイヤモンド又は天然のIIb型ダイヤモンドから形成されたp型ダイヤモンド半導体結晶2上に、例えばプラズマCVD法によってドナー原子となるイオウをドープしたn型ダイヤモンド半導体結晶層4を成長させてpn接合6を形成したものである。 - 特許庁
To provide a deodorization device by which odor components are perfectly removed from a gas, and further, the efficiency of removing odor components absorbed into treatment water used for deodorization treatment can be improved by improving the treatment efficiency of each packed layer in the inside of the device, and to provide a deodorization method.例文帳に追加
ガス中から臭気成分を完全に除去すると共に、脱臭装置内の各充填層の処理効率を向上させることにより脱臭処理に用いる処理水中に吸収された臭気成分の除去効率を向上させることが可能な脱臭装置及び脱臭方法を提供する。 - 特許庁
In the road traffic-sign paving method, luminous paints from 5 wt.% to 10 wt.% are mixed besides conventional paints as a road traffic-sign paint material, sand, gravel and recycled aggregate are used as aggregate, and a road traffic-sign paving section 5 independent from an asphalt surface layer surface 6 is formed.例文帳に追加
道路交通標示塗装材料に従来の塗料の他に、夜光塗料5重量%以上10重量%未満を混入し、更に骨材として、砂、砂利、リサイクル骨材を使用して、アスファルト表層面6とは独立した道路交通標示舗装部分5を形成した道路交通標示舗装方法。 - 特許庁
The method for molding with a synthetic material includes the steps of installing a pile (2) of a layer (20) disposed in a mold (1) according to a suitable direction of fiber obtained from a web of the fiber embedded in a thermosetting or thermoplastic material, and operating the mold under specific pressure and temperature conditions.例文帳に追加
合成材料によるモールド成形方法が、熱硬化性又は熱可塑性材料に埋め込まれた繊維のウェッブから得られていて該繊維の好適な方向に従い配置された層(20)のパイル(2)をモールド(1)内に設置すること、及び該モールドに特定の圧力及び温度条件を作用させることから構成される。 - 特許庁
In the manufacturing method, the tubular body is obtained by forming the fiber-reinforced carbonaceous base material in the aggregate through the gas phase growth of pyrocarbon and then reacting and converting the pyrocarbon located at least on the outer surface of the fiber-reinforced carbonaceous base material into SiC with an SiO gas to form the SiC layer.例文帳に追加
上記骨材に熱分解炭素を気相成長させて繊維強化炭素質基材を形成した後、前記繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面に位置する熱分解炭素をSiOガスでSiCに反応転化させてSiC層を形成して上記管状体を得る製造方法。 - 特許庁
In the polishing method of polishing a target surface to be polished by supplying the metal polishing solution to a polishing pad on a platen to bring the metal polishing solution into contact with the target surface and relatively moving the target surface and the polishing pad, the barrier layer containing tantalum, tantalum nitrides, tantalum alloys, and other tantalum compounds is polished using the metal polishing solution.例文帳に追加
金属用研磨液を研磨定盤上の研磨パッドに供給し、被研磨面と接触させて被研磨面と研磨パッドを相対運動させて研磨する研磨方法において、上記の金属用研磨液を用いて、タンタル、窒化タンタル、タンタル合金、その他のタンタル化合物からなるバリア層を研磨する研磨方法。 - 特許庁
To provide an airbag breaking groove forming device and a manufacturing method of a vehicular interior member capable of forming an airbag breaking groove excellent in invisibility while properly controlling the thickness of the residue of the formed airbag breaking groove even though the vehicular interior member is equipped with a hard base layer.例文帳に追加
硬質の基材層を備えた車両用内装部材であっても、形成されるエアバッグ破断溝の残部の厚さの管理を適切に行いながら、インビジブル性に優れたエアバッグ破断溝を形成することができるエアバッグ破断溝形成装置及び車両用内装部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an inorganic board, capable of producing the inorganic board containing mineral fibers, an inorganic powdery material and a binder as indispensable components and having an embossed uneven pattern having a good close adhesion with a decorative layer in a good productivity, and a highly designed inorganic decorative board by using the inorganic board as a substrate.例文帳に追加
鉱物質繊維と無機質粉状体と結合剤とを必須成分として含む、化粧層との密着性が良いエンボス凹凸模様を有する無機質板を、生産性良く製造することができる無機質板の製造方法と、この無機質板を基板とする高意匠の無機質化粧板を提供する。 - 特許庁
To provide an organic electroluminescent element using as a luminescent material a mixture of high molecular and low molecular luminescent materials wherein a high molecular luminescent layer is patterned in manufacturing of a full-color high molecular organic electroluminescent element by a laser transfer method, and color purity and luminous characteristics is improved.例文帳に追加
本発明の目的はレーザー転写法によりフールカラー高分子有機電界発光素子を製作する時高分子発光層のパターニングが可能であって色純度及び発光特性を向上させる高分子及び低分子発光物質の混合物を発光材料として用いる有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁
A heat-shrinkable multilayered film has at least one layer comprising a resin compsn. prepared by compounding a saponified ethylene/vinyl acetate copolymer with an ethylene content of 20-60 mol% and a saponification value of 98 mol% or less lowered in the saponification value of its vinyl acetate component by a re-acetylation method with other saponified ethylene/vinyl acetate copolymer.例文帳に追加
再酢化法により酢酸ビニル成分のケン化度を低下させたエチレン含有量20〜60モル%,ケン化度98モル%以下のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物(A)、或いは更に他のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物(B)を配合した樹脂組成物の層を少なくとも1層有してなる。 - 特許庁
In this surface treatment method for an Fe-Cr alloy member, the above member is immersed into a treating solution containing a reducing agent to form an Fe-Cr spinel film, a magnetic layer is formed on the surface thereof, and, if required, heating is performed in an inert gas, and sealing treatment is carried out.例文帳に追加
Fe−Cr合金部材の表面処理方法において、還元剤を含有する処理溶液に前記部材を浸漬してFe−Crスピネル系皮膜を形成し、その表面にマグネタイト層を形成し、必要に応じて、不活性ガス中で加熱して封孔処理を行う表面処理方法である。 - 特許庁
In this method of forming the film having the composition containing Si, C, and N and used as the etching stopper layer, the film having the composition containing Si, C, and N is formed on a substrate disposed in a reaction chamber having a heated heating body by causing the vapor of an amino silicon component to exist in the reaction chamber.例文帳に追加
例えば、エッチングストッパ層として用いられるSiとCとNとを含む組成の膜を設ける方法であって、加熱された加熱体を有する反応室内にアミノシリコン化合物の蒸気を存在させることにより、反応室内に配置された基体上にSiとCとNとを含む組成の膜を設ける膜形成方法。 - 特許庁
To provide a method and a device for close data retrieval, which can efficient ly retrieve neighborhood data by reducing random access to a disk and solving the problem that the bottom layer needs to be reached without fail so as to find the closest vector, and a storage medium stored with a neighborhood data retrieving program.例文帳に追加
ディスクのランダムアクセスを削減し、最近傍ベクトルを求めるために、必ず最下位の階層までたどらなければならないといった問題を解決し、効率的な近傍データを検索することができる近傍データ検索方法及び装置及び近傍データ検索プログラムを格納した記憶媒体を提供する。 - 特許庁
To provide an existing mortar regenerative method that can increase the strength of a crack part after repaired by sufficiently filling a repairing agent to the inner side of the crack even when the width of a crack formed in an existing mortar layer due to aging, deterioration, or the like is so narrow as a millimeter unit.例文帳に追加
既設のモルタル層に、経年変化や老朽化等に起因して生じたクラックの幅がミリメートル単位という非常に狭い場合であっても、そのクラックの奥側まで補修剤を十分に充填することができ、補修後のクラック部分の強度を高めることができる既設モルタル再生工法を提供する。 - 特許庁
To provide a mask substrate for charged particle beam exposure where a silicon oxide film is applicable to mask manufacturing in thickness and a silicon film layer has a thickness appropriate to a mask membrane, and which is a film that is of low stress, without defect, and excellent in uniformity, and its manufacturing method.例文帳に追加
荷電粒子線露光用マスク基板としてのSOI基板において、シリコン酸化膜をマスク製造に適した厚さとし、シリコン薄膜層をマスクメンブレンに適した厚さで、かつ低応力で欠陥の無い均一性に優れた薄膜とする荷電粒子線露光用マスク基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To put it concretely, in this cleaning method, the air containing harmful gas such as volatile organic gas is allowed to pass through a low-temperature plasma reaction layer for generating plasma by application of a voltage where the filter comprising the sheet or the fiber structure carrying the catalyst particles is loaded, to thereby decompose the harmful gas such as volatile organic gas.例文帳に追加
具体的には、浄化方法は、触媒微粒子が担持された、シートまたは繊維構造体からなるフィルターが装填され、電圧の印加によりプラズマを発生する低温プラズマ反応層内に、揮発性有機ガス等の有害ガスを含む空気を通過させて、揮発性有機ガス等の有害ガスを分解することを特徴とする。 - 特許庁
This manufacturing method of a conductive material includes processes of: applying a solution or paste with a conductive material 1 dispersed or dissolved therein to an application object 4 having an adherend 3 and a layer formed on a surface of the adherend 3 and containing a fiber 2; and cleaning the application object 4 with the solution or paste applied thereto.例文帳に追加
被着体3とその被着体3の表面に形成された繊維2を含む層とを備える被塗布体4に、導電性材料1が分散又は溶解した溶液又はペーストを塗布する工程と、上記液又はペーストを塗布した被塗布体4を洗浄する工程とを有する導電体の製造方法。 - 特許庁
To provide a tempering apparatus and a method using high-frequency induction heating, in which tempering performance can be improved by raising the temperature of an entire thermosetting treatment layer to be formed on a work to a temperature region required for tempering, provided that the work has a cylindrical plane of a different diameter on its outside surface.例文帳に追加
外径面に径が異なる円筒面を有するワークの形成すべき熱硬化処理層全体に対して、焼戻しに必要な温度域に上昇させて焼戻処理性能の向上を図ることができる高周波誘導加熱焼戻装置及び高周波誘導加熱焼戻方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method capable of forming a structure with a large hollow section and a space section having a complicated constitution and further the structure having a high aspect ratio with an excellent form accuracy without deteriorating the surface state, because a sacrificial layer can be removed by an etching at a sufficient speed from a fine etching opening.例文帳に追加
微細なエッチング開口から犠牲層を十分な速度でエッチング除去することが可能で、これによって大きな中空部や複雑な構成の空間部を有する構造体、さらには高アスペクト比の構造体を形状精度良好に、かつ表面状態を劣化させずに形成できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁
In the processing method, a photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer on an aluminum substrate with 0.1-8 mg/m2 coating weight of Si atoms is exposed, developed with a developing solution containing nonreducing sugar and a base (other than silicates) and desensitized in two or more processing baths.例文帳に追加
Si原子付着量が0.1〜8mg/m^2であるアルミニウム支持体上に感光層を設けてなる感光性平版印刷版を、露光し、非還元糖及び塩基(但し珪酸塩を除く)を含む現像液で現像後、不感脂化処理を2浴以上の処理浴で行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the electrode 11 for the fuel cell is equipped with a process of forming the spacer member 2 at the peripheral part of the surface of the electrode base material 1, a process of coating a catalyst paste in a region surrounded by the spacer member 2, and a process of forming the catalyst layer 3 by crimping after drying the catalyst paste.例文帳に追加
本発明による燃料電池用電極11の製造方法は、電極基材1表面の周縁部にスぺーサ部材2を形成する工程と、スぺーサ部材2で囲まれる領域に触媒ペーストを塗布する工程と、触媒ペーストを乾燥した後、圧着して触媒層3を形成する工程とを備える。 - 特許庁
In this manufacturing method of the electric double layer capacitor electrode 2 for using a PVDC resin carbide and forming and molding slurry, the phenol resin of a resol type and fibrous resin whose actual carbon ratio is equal to or less than 30 wt.% are added at the time of forming the slurry, polyethylene glycol or the derivative up to 2,000,000 molecular weight.例文帳に追加
PVDC樹脂炭化物を使用し、スラリーを作製し、成形する電気二重層コンデンサ電極2の製造方法において、スラリーを作製する際に、分子量2百万までのポリエチレングリコール又はその誘導体と、レゾールタイプのフエノール樹脂と、残炭率30%重量以下の繊維状の樹脂と、を添加する。 - 特許庁
In a method of producing the semiconductor element having a light-emitting semiconductor layer or a light-emitting semiconductor element, two contact locations, and a vertically or horizontally patterned carrier substrate, the carrier substrate is patterned in such a way that the thermal stresses are reduced or compensated sufficiently to ensure that the element does not fail.例文帳に追加
光出射半導体層、又は、光出射半導体素子、2つのコンタクト個所及び垂直又は水平に構造化された支持体基板を有する半導体構成素子の製造方法において、支持体基板は、熱応力を、構成素子が故障しないように十分に小さくし、乃至、補償するように構造化する。 - 特許庁
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