| 例文 |
layer processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3236件
This processing release paper comprises a laminate which is composed of a substrate and the releasing resin layer adhered to at least one of both the surfaces of the substrate, wherein the substrate has a surface resistivity (Ω) and/or a volume resistivity (Ω.cm) of 0.1×1010 to 6.0×1010.例文帳に追加
工程剥離紙を、基体と、この基体の少なくとも一方の面に設けられた離型性樹脂層との積層体からなる構成とし、基体を表面抵抗値(Ω)および/または体積抵抗値(Ω・cm)が0.1×10^10〜6.0×10^10の範囲内のものとする。 - 特許庁
The tungsten film 204 is formed on the oxide layer (Fig. 2b) by processing an oxide 202 using a silane-based gas mixture (for example, SiH6, SiCl2H2, or a combination of these gases) (Fig. 2a), and then thermally decomposing a W(CO)6 precursor at a temperature between about 250°C and 550°C.例文帳に追加
タングステンの膜204は、シランベースのガス混合体(例えば、SIH_6、SiCl_2H_2およびそれらの組合せ)を用いて酸化物202を処理し(図2a)、続いて、W(CO)_6の先駆物質を約250℃から550℃の温度範囲で熱分解することによって酸化物層の上に形成される(図2b)。 - 特許庁
To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加
レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁
Since the Si density in the light shielding film 120 is changed, a stress caused by a thermal strain during anneal processing is absorbed at an area where Si density is low, and thereby is less prone to occur, thus making it possible to prevent the occurrence of cracks in a dielectric or a semiconductor layer that may start from the light shielding film 120.例文帳に追加
遮光膜120中のSi濃度を変化させたので、アニール処理の際に熱歪みによる応力が、Si濃度の低い部位で吸収されるため、発生し難くなり、遮光膜120を起点とする絶縁膜や半導体層に対するクラックの発生を防止することができる。 - 特許庁
To provide a flexible multi-layer circuit substrate that is prepared by using a polyimide film remarkably improving adhesion reliability after an environment test such as PCT and a cold shock test, and can be used for the interposer of a semiconductor package dealing with minute processing for high density.例文帳に追加
PCTや冷熱衝撃試験などの環境試験後における接着信頼性が著しく改善されたポリイミドフィルムを用いて作成され、高密度化のための微細加工に対応可能な半導体パッケージのインターポーザーにも用いることができるフレキシブルな多層回路基板を提供する。 - 特許庁
Also, the processing method for board has the process of machining the board 101 by a laser beam from the rear surface of one surface of the board 101 toward the one surface, and a guidance hole 109 is formed on the board 101 by making the laser beam reach the laser stopping layer 108.例文帳に追加
また、基板の加工方法は、基板101の一方の面の裏面から一方の面に向い基板101にレーザー光により加工を行い、レーザー光をレーザーストップ層108に到達させることにより基板101に先導穴109を形成することを有する。 - 特許庁
To provide a polyester decorative panel having curved chamfered partrs susceptible of bending processing of curvature with a radius of 3-10 mm, having a polyester resin layer having a pencil hardness of 2-5H and excellent in scratch resistance and not polluting environment.例文帳に追加
半径が3〜10mmの曲率の曲げ加工を行なうことができると共にポリエステル樹脂層の鉛筆硬度が2〜5Hと耐擦傷性に優れ、かつ、環境を汚染することがない曲面状面取り部を有するポリエステル化粧板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide various mold releasing polyester films suitable for a green sheet for ceramic capacitor with thermal wrinkles reduced during processing, the protection of a liquid crystal polarizing plate, a photoresist, a multi-layer substrate produced by being coated with an epoxy resin, etc.例文帳に追加
環境負荷を低減するために従来品より厚みが薄いフィルムであっても、加工時の熱しわが少ないセラミックコンデンサ用グリ−ンシ−ト、液晶偏光板保護、フォトレジスト、さらにはエポキシ樹脂をコ−ティングして製造される多層基板用などに好適な各種離型用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
Gate electrodes 22 are formed on an upper surface, both right and left side surfaces and bottom surface of a semiconductor layer 11a for channel formation formed by processing a semiconductor substrate 11 into a Fin shape and a channel region is included which is surrounded on four sides by the gate electrodes 22.例文帳に追加
半導体基板11をFin状に加工して形成されたチャネル形成用半導体層11aの上面、左右両側面及び底面にゲート電極22が形成され、ゲート電極22により4面を囲まれるチャネル領域を有することを特徴とする。 - 特許庁
A compression stress layer having a depth of not less than 50 μm is formed by chemical reinforcement processing on the surface of a glass substrate made of glass material containing 40-70 wt.% of SiO_2, 0.1-20 wt.% of Al_2O_3, 3-20 wt.% of Na_2O, and not containing Li_2O.例文帳に追加
SiO_2を40〜70重量%、Al_2O_3を0.1〜20重量%、Na_2Oを3〜20重量%含有し、Li_2Oを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。 - 特許庁
This adhesive film includes a base material film, and a pressure sensitive adhesive layer formed on the base material film, and is used for processing a semiconductor wafer, wherein weight reduction in the pressure sensitive adhesive at a reflow temperature measured by differential thermal analysis is ≤1.5%.例文帳に追加
本発明の粘着フィルムは、基材フィルムと該基材フィルム上に設けられた粘着剤層とからなり、半導体ウエハを加工するために用いる粘着フィルムであって、示差熱分析により測定した、リフロー温度における前記粘着剤層の重量減少が1.5%以下である。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a substrate for light emitting element mounting such that when at least an insulating layer is laminated on a substrate having a projection part for a light emitting element mounting position, the projection part is easily exposed and there is neither a problem of positioning nor a problem of precision of opening processing.例文帳に追加
発光素子搭載位置の凸部が形成された基板に、少なくとも絶縁層を積層した際に、その凸部を容易に露出することができ、しかも位置合わせの問題や開口加工の精度の問題も生じにくい発光素子搭載用基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring board that is superior in suppression of warpage of a substrate, performs processing while maintaining back-to-back manufacture of superior size stability and mass-productivity up to an outermost layer (a laminate surface by the back-to-back manufacture), and can secure higher size stability and operation efficiency.例文帳に追加
基板のそりの抑制に優れ、寸法安定性や量産性の優れた背合わせによる製造を最外層(背合わせによる積層面)まで維持しながら加工することができ、更なる寸法安定性及び高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a continuous web processing device capable of suppressing impairment of quality of a product caused by the instability of layer of a front girth part and a rear girth part in double-folding a continuous web having a crotch part with intermittently formed leg openings while conveying the continuous web.例文帳に追加
脚回り開口部が間欠的に形成された股下部とを有する連続ウエブを搬送しながら2つに折り畳む場合において、前胴回り部と後胴回り部との重ね合わせが不安定になることに起因する製品の品質低下を抑制し得る連続ウエブの処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plug-in connection body for a power cable capable of preventing the occurrence of lumpy overlapping parts at both ends of a connecting part and preventing a gap to be created when connecting a shield layer or performing a preventive protection processing after forming the connecting part, and provide a connecting method for the power cable using the plug-in connection body for a power cable.例文帳に追加
接続部の両端において、コブ状の重なり部分が生じず、接続部形成後に行う遮蔽層の接続や防止保護処理の際に隙間が生じてしまうことのない電力ケーブル用差込型接続体及びこれを用いた電力ケーブルの接続方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device and a method for picking by a unit layer capable of preventing generation of loss time in pallet replacement in delivery of different kinds for improving processing ability to improve operability, and achieving a high degree of freedom in designing action patterns of picking in various modes of mixed stacking.例文帳に追加
本発明は、異なる品種の受け渡し時におけるパレット交換に伴うロス時間の発生を防止して処理能力を高めて稼働率を向上させ、かつ種々の混載態様でピッキングの動作パターンの設計の自由度の高い層単位ピッキング装置および方法を実現する。 - 特許庁
To provide a remover for multistage processing which safely and efficiently removes an etching residue in a short time that is formed in the forming process of a semiconductor multi-layer wiring structure and a display panel such as a liquid crystal panel, and to provide a stripping method using the remover.例文帳に追加
半導体多層配線構造や液晶パネルなどの表示パネルの配線構造形成工程において形成されるエッチング残渣物を安全に、かつ短時間に効率的に除去することのできる多段階処理用剥離液およびこれを用いた剥離方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a memory cell of a floating gate structure which can form a silicon nitride film without involving reduction in yield while suppressing fluctuations in transistor threshold voltage as an etching stop layer for the processing of a bottom borderless contact on a control gate electrode.例文帳に追加
浮遊ゲート構造のメモリセルを備えてなる半導体装置において、制御ゲート電極上にボトムボーダレスコンタクト加工用のエッチングストップ層として、トランジスタの閾値電圧変動を抑制しつつ、歩留りの低下を伴わずに窒化珪素膜を形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To allow a developer to have good property of dissolving a non-image portion and stable developing property in a development processing method for a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing at least an organic boron salt on a support, and to ensure both excellent image quality and printing durability in printing.例文帳に追加
有機ホウ素塩を少なくとも含有する感光層を支持体上に有する感光性平版印刷版の現像処理方法に於いて、現像液が非画像部の溶出性が良好で安定した現像性を有し、且つ印刷時には画質及び耐刷性共に優れている事にある。 - 特許庁
The layer 1 control section 310 generates finger user allocation information denoting to whom of users a finger is allocated, outputs the information to a demodulation section 36, and the demodulation section 36 carries out demodulation processing in a way such that phase compensation data generated by using this information are applied to the same user and the same path.例文帳に追加
レイヤ1制御部310は、フィンガをどのユーザに割り当てたかを示すフィンガ・ユーザ割当情報を作成し、復調部36に出力し、復調部36は、この情報を用いて、生成された位相補償データが同一ユーザ同一パスに対してつながるようにして、復調処理を行う。 - 特許庁
The member for the semiconductor manufacturing apparatus incorporated in the semiconductor manufacturing apparatus for processing a semiconductor wafer is made of a porous alumina substrate with a surface layer having a porosity of 20-60% and the depth of a pore of 10-100 μm.例文帳に追加
半導体ウエハを処理する半導体製造装置に配置される半導体製造装置用部材において、表層が20%〜60%の気孔率を持ち、気孔の深さが10μm〜100μmの多孔質のアルミナ基材であることを特徴とする半導体製造装置用部材。 - 特許庁
In the processing method for a planographic printing plate in which a planographic printing plate having an infrared sensitive layer on a support is developed with an alkali developer after imagewise exposure, the alkali developer at the start of development contains nonreducing sugar and an alkali-soluble resin.例文帳に追加
支持体上に赤外線感光層を有する平版印刷版を画像露光後、アルカリ現像液を用いて現像処理する処理方法において、現像開始時の該アルカリ現像液が非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁
The fixing agent for processing a silver halide photographic dry plate having at least one silver halide emulsion layer on a glass supporting body is characterized by containing an oxidizer which is capable of dissolving metallic silver or a chelate metal salt respectively.例文帳に追加
ガラス支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真乾板を処理するための定着剤が、各々、金属銀を溶解可能な酸化剤またはキレート金属塩を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真乾板用定着剤。 - 特許庁
An adhesive tape for cutting processing that is used for manufacturing a semiconductor chip, a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) device, a functional glass substrate, and a semiconductor package and the like from a plate-like to-be-cut object, has a base material 1 and an adhesive layer 2 arranged on the base material 1.例文帳に追加
切削加工用粘着テープは、板状の被切削物から半導体チップ、MEMSデバイス、機能性ガラス基板、および半導体パッケージ等を製造するために使用される切削加工用粘着テープであり、基材1と、基材1上に配された粘着層2と、を備える。 - 特許庁
Moreover, the finishing work using a polish polishing of the backside of the wafer 10 is performed, using a CMP unit and with a grinding damaged layer 28 formed newly at grinding of the backside of the wafer 10 which is removed by polishing, the wafer 10 is subjected to ultra-thin processing down to a thickness of 100 μm.例文帳に追加
更にCMP装置を用いてウェーハ10裏面のポリッシュ研磨による仕上げ加工処理を行い、ウェーハ10の裏面研削の際に新たに形成された研削ダメージ層28を研磨除去すると共にウェーハ10を厚さ100μmにまで超薄型加工する。 - 特許庁
A transmission data extract section 23 generates transmission timing signals 26-1-26-n deciding a transmission timing to a destination line in response to the line exchange information 11 and extracts transmission B channel data 12-1-12-n from the multiplexed B channel 25 to provide an output of it to the layer 1 processing sections 1-1-1-n.例文帳に追加
送信データ抽出部23は送信先回線への送出タイミングを決める送信タイミング信号26-1〜26-nを回線交換情報11に応じて発生させ、多重化Bチャネル25上から送信Bチャネルデータ12-1〜12-nを抽出してレイヤ1処理部1-1〜1-nに出力する。 - 特許庁
To eliminate a processing circuit in a data link layer in the middle to miniaturize a media converter and to reduce power consumption by adopting an optical repeater in which a signal can be directly converted at a low-order level when converting the electric signal of IEEE802.3 standard 10/100Base-Tx to an optical signal and repeating it.例文帳に追加
IEEE802.3規格の10/100Base-Txの電気信号を、光信号に変換して中継する場合に、下位のレベルで、信号が直接変換できる光リピータを採用することにより、途中のデータリンク層での処理回路が省略でき、メディアコンバータの小型化、低消費電力化が図れる。 - 特許庁
The method for manufacturing the light weight cellular concrete panel comprises performing surface-processing within a period keeping fluidity of a colored paint and a mortar composition coated on the surface of the ALC panel by the physical means of an gaseous stream, a water stream, pressing, sculpturing, scratching and the like and laminating the same as a decoration layer.例文帳に追加
ALCパネル表面に塗布した着色塗料とモルタル組成物が流動性を有する時期に気流、水流、押圧、彫塑、引っ掻き、等の物理的手段で表面加工し、化粧層として積層させることを特徴とした軽量気泡コンクリートパネルの製造方法とする。 - 特許庁
The simultaneously molding and decorating sheet is constituted by laminating a thermoplastic substrate sheet on the emboss processed side of a release sheet made of a thermoplastic resin receiving emboss processing on at least a part of one side thereof and a decorative layer is formed on the surface on the side opposite to the release sheet laminated surface of the substrate sheet.例文帳に追加
片面の少なくとも一部にエンボス加工が施された熱可塑性樹脂製剥離シートのエンボス加工面側に熱可塑性基体シートが積層され、且つ該基体シートの剥離シート積層面とは反対側の面には加飾層が形成された成形同時加飾用シートである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a flash memory device capable of preventing a smiling phenomenon on an ONO layer and a bird's beak phenomenon on a tunnel oxide film, controlling increase of a surface resistance of a control gate, and increasing productivity by shortening the whole processing time.例文帳に追加
ONO層のスマイリング現象及びトンネル酸化膜のバーズビーク現象を防止することができ、コントロールゲートの面抵抗の増加を抑制することができるうえ、全体時間時間を短縮して生産性を向上させることができるフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The MAC layer processing means has a means (1001) for recording a transmission order list showing a transmission order allocated to each terminal which shares the wireless media, and a means (1003) for determining transmission timing of its terminal for the wireless media according to the transmission order list and the carrier sense information.例文帳に追加
MAC層処理手段は、無線媒体を共用する各端末に割り当てられる送信順番を示す送信順リストを記録する手段(1001)と、送信順リストおよびキャリアセンス情報に応じて無線媒体に対する自端末の送信タイミングを決定する手段(1003)とを有する。 - 特許庁
The method for processing the semi-permeable membrane comprises a process of bringing the semi-permeable membrane having a separation function layer containing a primary amino group into contact with a reagent which reacts with the primary amino group to produce a diazonium salt or its derivative, and a process of bringing the semi-permeable membrane into contact with an oxidizing agent.例文帳に追加
第一級アミノ基を含む分離機能層を有する半透膜を、第一級アミノ基と反応してジアゾニウム塩またはその誘導体を生成する試薬に接触させる工程と、酸化剤に接触させる工程とを有する半透膜の処理方法とする。 - 特許庁
To provide a connection mode control apparatus or the like in a network capable of continuing reproduction processing or the like in a node being a subordinate node of a node whose function is stopped without interruption even when the function of the node belonging to a higher-order layer in the tree-structure network is stopped.例文帳に追加
ツリー構造のネットワークにおいて上位階層に属するノードの機能が停止した場合でも、その停止したノードの下位にあったノードにおける再生処理等を中断することなく継続させることが可能なネットワークの接続態様制御装置等を提供する。 - 特許庁
Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加
その後、フォトマスク5を介して露光光線6により絶縁層4の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁
To provide a processing method for a photosensitive planographic printing plate by which photosensitive planographic printing plates each having a layer of a positive photosensitive composition containing a photothermal conversion material and an alkali-soluble resin can stably be developed after imagewise exposure over a long period of time.例文帳に追加
光熱変換物質とアルカリ可溶性樹脂とを含有するポジ型感光性組成物の層を有する感光性平版印刷版を、画像露光後、安定した現像処理を長期間にわたって実施できる、感光性平版印刷版の刷版方法を提供する。 - 特許庁
In a wafer processing tape 1, semicircular or tongue-shaped notches 11 directing outside an adhesive agent layer 3 in a plan view are formed to such a depth that reaches a peel base material 2 from a base material film 5 side so as to correspond to a region P to be stuck to a wafer ring 14.例文帳に追加
ウェハ加工用テープ1では、ウェハリング14への貼付領域Pに対応して、平面視において接着剤層3の外側を向く半円状又は舌片状の切込部11が基材フィルム5側から剥離基材2に到達する深さで形成されている。 - 特許庁
To form a hard deposit layer in any arbitrary pattern on the surface of a wire tool of fixed abrasive grain type, to suppress a drop of the cutting efficiency resulting from repetitive use and elongate the tool life, and to reduce the labor required to conduct processing and also enhance the productivity easily.例文帳に追加
固定砥粒式ワイヤ工具のワイヤ表面に任意のパターンで硬質堆積層を形成することができて、繰り返し使用による切断能率の低下を抑えるとともに工具寿命を延ばすことができ、且つ、加工に手間がかからず、容易に生産性を上げることができるようにする。 - 特許庁
In the plate making method for the photosensitive planographic printing plate, a photosensitive planographic printing plate material, having a radiation-sensitive photosensitive layer on the base is heated up to 80 to 150°C by using an electromagnetic induction heating system, during development processing, after the photosensitive planographic printing plate material has been exposed to an image pattern.例文帳に追加
支持体上に放射線感応性の感光層を有する感光性平版印刷版材料を画像様に露光した後、現像処理する間に、電磁誘導加熱方式を用いて80〜150℃に加熱することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
An input and output port of a processing module PM, respective memory interfaces IF and respective memory banks are connected by connection wires wired in matrix (lattice) shape along a Y-direction (the first direction) and an X-direction (the second direction) in an arrangement area (upper layer thereof) for a plurality of memory macros.例文帳に追加
処理モジュールPMの入出力ポートと、各メモリインタフェースIFと、各メモリバンクとは、複数のメモリマクロの配置領域(の上層)にY方向(第1方向)およびX方向(第2方向)にマトリクス状(格子状)に配線された接続配線により接続されている。 - 特許庁
To provide a film forming method in which a coat having a thickness is formed by utilizing a discharge and then the characteristics of the coat, such as coat strength, thermal conductivity, density or surface roughness, are improved by suppressing the enlargement of an alloy layer formed by discharge processing and reducing grain boundaries or voids in the coat.例文帳に追加
放電を利用して厚みを持った被膜を形成させた後、放電加工合金層の拡大を抑制して、被膜内の粒界や空隙を減少させ、被膜の強度・熱伝導率・密度・表面粗さなどの被膜の特性を向上させる成膜方法を提供する。 - 特許庁
The electrode board 10 is provided with a transparent substrate 1, a transparent electrode layer 3 formed on the rear surface of the substrate 1, a polarizing plate 2 laminated to the upper surface of the substrate 1 and a herd coated processing part 7 laminated on the upper surface of the plate 2.例文帳に追加
上部透明電極板10は、透明基板1と、透明基板1の裏面上に形成された透明電極層3と、透明基板1の表面上に積層された偏光板2と、偏光板2の上面上に積層されたハードコート処理板7とを備える。 - 特許庁
To provide a wafer in which the thickness of an epitaxial layer is controlled during processing so that a region close to the edge of the wafer has a thickness larger or smaller than the thickness of a region close to the center of the wafer, and to provide a method for manufacturing the wafer.例文帳に追加
本発明は、ウェハの中央部に近接する領域における厚さと比較して前記ウェハのエッジに近接する領域の厚さが増大するか又は減少するようにエピタキシャル層の厚さが処理の間に制御されるウェハ、及び前記ウェハを製造する方法に関する。 - 特許庁
Pressure of a processing chamber (or called a printing chamber) for forming an EL layer by using a printing method in a pixel part of a light-emitting device is put in a pressurizing state of atmospheric pressure (normal pressure) or more, and the inside of the printing chamber is filled with inert gas or put in a solvent atmosphere.例文帳に追加
本発明では、発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of producing a master plate for planographic printing plate which can utilize the conventional processing unit and printer as they are, attains direct plate making from digital information of a computer or the like and has a photosensitive layer capable of forming a wholly uniform image and having a wide electric conductivity latitude of a developing solution.例文帳に追加
従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であり、全体に均一な画像を形成し得る、現像液の電導度ラチチュードが広い感光層を有する平版印刷版原版の製造方法を提供する。 - 特許庁
Thus, an infrared ray transmitted through a sound hole 22a formed on a cover board 22 to a capacitor structure part 12 is reflected on the vibrating film 32A on which the infrared reflecting paint has been applied in reflow processing, so that it is possible to prevent the electret layer 34B from being exposed to the heat of the infrared ray.例文帳に追加
これにより、リフロー処理の際、カバー基板22に形成された音孔22aを介してコンデンサ構造部12に到達する赤外線を、赤外線反射塗料が塗布された振動膜32Aで反射させて、エレクトレット層34Bが赤外線の熱に曝されてしまわないようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, which includes a step for processing a glass sheet having a plate shape to form a glass substrate that excels in plate thickness distribution and flatness and does not have an affected layer on a main plane or an end surface thereof with high productivity.例文帳に追加
本発明は、板形状を有するガラス素基板を、板厚分布と平坦度に優れ、ガラス基板の主平面や端面に加工変質層を有さないガラス基板に、高い生産性で加工する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a coverlay film which is intended for a tape carrier for a semiconductor device in which a wiring layer having a predetermined pattern is formed on a surface of a resin tape and a semiconductor chip mounting part is formed at a predetermined position and which has excellent flame retardancy and superior workability, and small curl variation due to a processing environment.例文帳に追加
樹脂テープ表面に所定パターンの配線層を形成し、所定の箇所に半導体チップ搭載部を形成した半導体装置用テープキャリア用に、難燃性および加工性に優れ、加工環境によるカール量変化の少ないカバーレイフィルムを提供する。 - 特許庁
The method of regenerating the core metal for the conductive roller, which is used for the conductive roller having the core metal and an elastic layer arranged on the outer periphery of the core metal, includes a stage for making the maximum height Ry of the core metal small by burnishing processing.例文帳に追加
芯金と該芯金の外周に配された弾性層とを有する導電性ローラに用いられる導電性ローラ用芯金の再生方法であって、該芯金の最大高さRyをバニッシング処理によって小さくする工程を有する導電性ローラ用芯金の再生方法。 - 特許庁
The light emitting element 100 has its light extraction efficiency improved as compared with a configuration wherein only fine unevenness 109 is provided since a surface of an n-type layer 106 on the side of n-type electrodes 107 is subjected to unevenness processing in two stages of recessed portions 108 and fine unevenness 109 which differ in depth and width.例文帳に追加
発光素子100は、n型層106のn電極107側の面に、凹部108と微細な凹凸109とによる、深さ、幅の異なる2段階の凹凸加工が施されているため、微細な凹凸109のみを施した場合に比べて光取り出し効率が向上している。 - 特許庁
To solve a problem which has become important in material cost, man-hour, environmental load, and quality in a process to form the cathode layer of a solid-state catalyst electrolytic capacitor that the electrolytic polymerization liquid used for polymerization is wholly discarded and replaced if the amount of electricity for processing reaches a certain level due to the problem of electrical properties.例文帳に追加
固体電解コンデンサの陰極層を形成する工程において、重合時に使用する電解重合液は電気特性の問題から処理電気量があるレベルに達すると全液廃棄交換しており、材料コスト、工数、環境負荷、品質で重要な課題となっている。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|