| 例文 |
layer processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3235件
To provide an olefinic thermoplastic elastomer sheet which has rubber elasticity, flexibility, and molding and processing characteristics comparable to those of previous olefinic thermoplastic elastomers, has good mechanical characteristics and is excellent particularly in marring resistance, its manufacturing method, and a laminate having a surface layer comprising the sheet.例文帳に追加
従来のオレフィン系熱可塑性エラストマーと同様のゴム弾性、柔軟性および成形加工性を有し、しかも、機械的特性が良好で、特に耐傷付性に優れたオレフィン系熱可塑性エラストマーシートおよびその製造方法並びにこのシートよりなる表層を有する積層体を提供する。 - 特許庁
The present invention is basically based on knowledge that a system is adjusted to the optimal state for processing the next frame by including information on the next frame in a physical layer header (PHY header) of a certain frame, and thus, radio communication with high throughput is achieved.例文帳に追加
本発明は、基本的には、あるフレームの物理層ヘッダ(PHYヘッダ)に次のフレームの情報を含めることで、次のフレームを処理するために最適な状態にシステムを調整することができ、これによりハイスループットな無線通信を達成できるという知見に基づく。 - 特許庁
When it is decided that the communication controller is mounted on the music device having the different signal processing form, data transmission to and reception from the communication controller and data transmission to and reception from a music system network are temporarily stopped according to its lower layer.例文帳に追加
異なる信号処理形式の音楽装置に差し換えられて装着されたと判定した場合には、その有する下位層に従っての音楽装置と前記通信用制御装置との間におけるデータ送受信及び音楽システムネットワークへのデータ送受信を一時的に停止する。 - 特許庁
To provide a surface processing method of a member for OA equipment capable of completely peeling off and removing a functional layer formed on the surface of used member for OA equipment without damaging a base and thus, to reuse and recycle the used member for OA equipment.例文帳に追加
使用済みOA機器用部材表面に形成された機能層を、基材を傷めることなく完全に剥離、除去することができ、これにより使用済みOA機器用部材をリユースやリサイクル可能とすることができるOA機器用部材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing method capable of giving a high quality-polished surface where a metal layer is efficiently removed and the generation of defects in polishing such as a metal residue, dishing, and erosion are suppressed in manufacturing a semiconductor device formed of wiring materials such as metals of copper, copper alloy and the like.例文帳に追加
銅または銅合金等の金属を配線材料とする半導体装置の製造において、金属層が効率的に除去され、かつ金属残り、ディッシング、エロージョン等の研磨不良の発生が抑制された高品位の被研磨面を与えることができる、基板処理方法を提供する。 - 特許庁
Pressure of a processing chamber for forming an EL layer by using the printing method (or called a printing chamber) in a pixel part of a light-emitting device is put in a pressurizing state of atmospheric pressure (normal pressure) or the atmospheric pressure or more, and the inside of the printing chamber is filled with an inert gas or put in a solvent atmosphere.例文帳に追加
発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a printed circuit board which can easily prevent a resin from staying in a via hole without conducting a permanganate treatment, when forming the via hole for electrically connecting interconnection metal layers arranged with an insulation layer between by laser processing, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
絶縁層を挟んで配置される配線金属層間を電気的に接続するためのビアホールをレーザ加工で形成する場合、過マンガン酸処理を行わずにビアホールに樹脂が残るのを防止することが容易にできるプリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To dynamically revise a sender base station address to be received and to relive the processing load on the mobile stations in a wireless LAN system comprising a plurality of base stations and mobile stations, and transmitting frames imparted with sender lower layer address particular to the base stations from the base station.例文帳に追加
複数の基地局と移動局から成り、該基地局から無線上に基地局固有の送信元下位層アドレスを付与したフレームを送出する無線LANシステムに関し、動的に受信すべき送信元基地局アドレスを変更することを可能にすると共に移動局の処理負荷を軽減する。 - 特許庁
Due to the formation of the notches 11, when a peeling force acts on the wafer processing tape 1, an outside part is peeled prior to the notches 11 in a gluing agent layer 4 and the base material film 5, and an inner part from the notches 11 is remained to the wafer ring 14 while being in a state of a convex shape.例文帳に追加
切込部11の形成により、ウェハ加工用テープ1に剥離力が作用すると、粘着剤層4及び基材フィルム5において切込部11よりも外側の部分が先に剥離し、切込部11よりも内側の部分は凸状をなした状態でウェハリング14に残るようになる。 - 特許庁
To provide a thermal transfer image-receiving sheet which exhibits a high transfer density at a high speed processing, has less defects on an image caused by heat fusion of ink and little inferiority of passing properties, and provides a good image without unevenness of transfer of a protective layer, and a method for forming the image using this.例文帳に追加
高速処理において転写濃度が高く、インクとの熱融着に起因する画像故障、および通過性の不良が少なく、かつ保護層の転写ムラがない良好な画像を提供するための感熱転写受像シートおよびこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁
An input and output port of a processing module PM, respective memory interfaces IF and respective memory banks are connected by connection wires wired in matrix (lattice) shape along a Y-direction (the first direction) and an X-direction (the second direction) in an arrangement area (upper layer thereof) for a plurality of memory macros.例文帳に追加
処理モジュールPMの入出力ポートと、各メモリインタフェースIFと、各メモリバンクとは、複数のメモリマクロの配置領域(の上層)にY方向(第1方向)およびX方向(第2方向)にマトリクス状(格子状)に配線された接続配線により接続されている。 - 特許庁
In the plate making method for the photosensitive planographic printing plate, a photosensitive planographic printing plate material, having a radiation-sensitive photosensitive layer on the base is heated up to 80 to 150°C by using an electromagnetic induction heating system, during development processing, after the photosensitive planographic printing plate material has been exposed to an image pattern.例文帳に追加
支持体上に放射線感応性の感光層を有する感光性平版印刷版材料を画像様に露光した後、現像処理する間に、電磁誘導加熱方式を用いて80〜150℃に加熱することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
To provide a film forming method in which a coat having a thickness is formed by utilizing a discharge and then the characteristics of the coat, such as coat strength, thermal conductivity, density or surface roughness, are improved by suppressing the enlargement of an alloy layer formed by discharge processing and reducing grain boundaries or voids in the coat.例文帳に追加
放電を利用して厚みを持った被膜を形成させた後、放電加工合金層の拡大を抑制して、被膜内の粒界や空隙を減少させ、被膜の強度・熱伝導率・密度・表面粗さなどの被膜の特性を向上させる成膜方法を提供する。 - 特許庁
The electrode board 10 is provided with a transparent substrate 1, a transparent electrode layer 3 formed on the rear surface of the substrate 1, a polarizing plate 2 laminated to the upper surface of the substrate 1 and a herd coated processing part 7 laminated on the upper surface of the plate 2.例文帳に追加
上部透明電極板10は、透明基板1と、透明基板1の裏面上に形成された透明電極層3と、透明基板1の表面上に積層された偏光板2と、偏光板2の上面上に積層されたハードコート処理板7とを備える。 - 特許庁
To provide a wafer in which the thickness of an epitaxial layer is controlled during processing so that a region close to the edge of the wafer has a thickness larger or smaller than the thickness of a region close to the center of the wafer, and to provide a method for manufacturing the wafer.例文帳に追加
本発明は、ウェハの中央部に近接する領域における厚さと比較して前記ウェハのエッジに近接する領域の厚さが増大するか又は減少するようにエピタキシャル層の厚さが処理の間に制御されるウェハ、及び前記ウェハを製造する方法に関する。 - 特許庁
Pressure of a processing chamber (or called a printing chamber) for forming an EL layer by using a printing method in a pixel part of a light-emitting device is put in a pressurizing state of atmospheric pressure (normal pressure) or more, and the inside of the printing chamber is filled with inert gas or put in a solvent atmosphere.例文帳に追加
本発明では、発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。 - 特許庁
As for a method for hardening the resin-coated carrier (material to be dried) in a multistage stationary drying furnace, a drying processing is performed under a condition where the relation of B≥A is satisfied as to the thickness A of each layer of the material to be dried in containers arranged at many stages and a distance B between one and the other containers.例文帳に追加
樹脂をコーティングしたキャリア(被乾燥物)を多段静置型乾燥炉にて硬化する方法において、多段に配置された収納容器中の被乾燥物層の厚みAと他段との間隔Bとが、B≧Aの関係を有する条件で乾燥処理する。 - 特許庁
The injection mold has a movable mold 10, which is composed of a template 11, a core mold 12, a heat insulating material 13 and a surface processing layer 14, and a fixed mold 20 comprising a core mold 22 and constituted so as to fill a resin molding space 30 with a molten resin to mold an optical element.例文帳に追加
型板11、コア型12、断熱材13、表面加工層14からなる可動側金型10と、コア型22からなる固定側金型20とを有し、樹脂成形空間30に溶融樹脂を充填して光学素子を成形する射出成形用金型。 - 特許庁
Correction processing with a predetermined content to at least any of thicknesses of the element figures, plane figures and arrangement positions on a conductor layer which are reflected to input data through a conductor figure input means is conducted to at least the conductor figures of the element figures.例文帳に追加
また、エレメント図形の少なくとも導体図形に対し、導体図形入力手段による入力データに反映された、該エレメント図形の厚さ、平面形状及び導体レイヤ上の配置位置の少なくともいずれかに、予め定められた内容の補正処理を行なう。 - 特許庁
To manufacture a wiring structure that uses an interlayer film of an insulating organic material with less processes, without using an etching mask or etching stopper layer in an interlayer film work, nor affected by a reactive product generated through plasma processing.例文帳に追加
層間膜加工におけるエッチングマスクやエッチングストッパ層を用いることなく、また、プラズマ処理により生成する反応生成物の悪影響を受けることなく、絶縁性を有する有機材料による層間膜を用いた配線構造をより少ない工程で製造できるようにする。 - 特許庁
A first electrode of the plasma processing apparatus fits a dielectric 205 having the same material as a base material into an upper base material 105a formed from a desired dielectric, and adheres and fixes the upper base material 105a and the dielectric 205 by a conductive adhesion layer 210a.例文帳に追加
プラズマ処理装置の第1の電極は、所望の誘電体から形成された上部基材105aに、該基材と同じ材質の誘電体205を嵌め込み、上部基材105aと誘電体205との間を導電性接着層210aにより接着固定させる。 - 特許庁
To readily and quickly monitor moisture the variations in an unsaturated layer, by extracting actual minute variations in he specific resistance by an original technique that uses apparent specific resistance data itself obtained by an electric exploration technique, and by allowing high-speed data processing without having to perform inverse analysis.例文帳に追加
電気探査の手法により得られた見掛比抵抗データそのものを使用し、逆解析は行わずに高速のデータ処理を可能とする独自の手法により、微細な実際の比抵抗変化を抽出して、不飽和層内の水分変化を簡便に且つ迅速にモニタリングできるようにする。 - 特許庁
The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加
塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁
The Fe-based electrode layer takes in the carbon as a by-product of a sinter processing process for the ohmic electrode to suppress an increase in contact resistance between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode, caused by accumulation of carbon on a junction interface between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode.例文帳に追加
Fe系電極層が、オーミック電極のシンター処理工程における副生成物であるカーボンを取り込むことによって、カーボンがSiC半導体基板とオーミック電極との接合界面に堆積してSiC半導体基板とオーミック電極とのコンタクト抵抗が高くなることを抑制できる。 - 特許庁
To provide a flexible multi-layer circuit substrate that is prepared by using a polyimide film remarkably improving adhesion reliability after an environment test such as PCT and a cold shock test, and can be used for the interposer of a semiconductor package dealing with minute processing for high density.例文帳に追加
PCTや冷熱衝撃試験などの環境試験後における接着信頼性が著しく改善されたポリイミドフィルムを用いて作成され、高密度化のための微細加工に対応可能な半導体パッケージのインターポーザーにも用いることができるフレキシブルな多層回路基板を提供する。 - 特許庁
Also, the processing method for board has the process of machining the board 101 by a laser beam from the rear surface of one surface of the board 101 toward the one surface, and a guidance hole 109 is formed on the board 101 by making the laser beam reach the laser stopping layer 108.例文帳に追加
また、基板の加工方法は、基板101の一方の面の裏面から一方の面に向い基板101にレーザー光により加工を行い、レーザー光をレーザーストップ層108に到達させることにより基板101に先導穴109を形成することを有する。 - 特許庁
To provide a polyester decorative panel having curved chamfered partrs susceptible of bending processing of curvature with a radius of 3-10 mm, having a polyester resin layer having a pencil hardness of 2-5H and excellent in scratch resistance and not polluting environment.例文帳に追加
半径が3〜10mmの曲率の曲げ加工を行なうことができると共にポリエステル樹脂層の鉛筆硬度が2〜5Hと耐擦傷性に優れ、かつ、環境を汚染することがない曲面状面取り部を有するポリエステル化粧板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide various mold releasing polyester films suitable for a green sheet for ceramic capacitor with thermal wrinkles reduced during processing, the protection of a liquid crystal polarizing plate, a photoresist, a multi-layer substrate produced by being coated with an epoxy resin, etc.例文帳に追加
環境負荷を低減するために従来品より厚みが薄いフィルムであっても、加工時の熱しわが少ないセラミックコンデンサ用グリ−ンシ−ト、液晶偏光板保護、フォトレジスト、さらにはエポキシ樹脂をコ−ティングして製造される多層基板用などに好適な各種離型用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
Gate electrodes 22 are formed on an upper surface, both right and left side surfaces and bottom surface of a semiconductor layer 11a for channel formation formed by processing a semiconductor substrate 11 into a Fin shape and a channel region is included which is surrounded on four sides by the gate electrodes 22.例文帳に追加
半導体基板11をFin状に加工して形成されたチャネル形成用半導体層11aの上面、左右両側面及び底面にゲート電極22が形成され、ゲート電極22により4面を囲まれるチャネル領域を有することを特徴とする。 - 特許庁
The fixing agent for processing a silver halide photographic dry plate having at least one silver halide emulsion layer on a glass supporting body is characterized by containing an oxidizer which is capable of dissolving metallic silver or a chelate metal salt respectively.例文帳に追加
ガラス支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真乾板を処理するための定着剤が、各々、金属銀を溶解可能な酸化剤またはキレート金属塩を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真乾板用定着剤。 - 特許庁
The member for the semiconductor manufacturing apparatus incorporated in the semiconductor manufacturing apparatus for processing a semiconductor wafer is made of a porous alumina substrate with a surface layer having a porosity of 20-60% and the depth of a pore of 10-100 μm.例文帳に追加
半導体ウエハを処理する半導体製造装置に配置される半導体製造装置用部材において、表層が20%〜60%の気孔率を持ち、気孔の深さが10μm〜100μmの多孔質のアルミナ基材であることを特徴とする半導体製造装置用部材。 - 特許庁
In the processing method for a planographic printing plate in which a planographic printing plate having an infrared sensitive layer on a support is developed with an alkali developer after imagewise exposure, the alkali developer at the start of development contains nonreducing sugar and an alkali-soluble resin.例文帳に追加
支持体上に赤外線感光層を有する平版印刷版を画像露光後、アルカリ現像液を用いて現像処理する処理方法において、現像開始時の該アルカリ現像液が非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁
The polishing method efficiently provides a surface of high quality with no deteriorated layer by processing that occurs after diamond mechanical polishing, by oxidizing the surface of silicon carbide single crystal wafer that has been rough-lapped in diamond mechanical polishing, and then removing an oxide film on the surface by finish polishing.例文帳に追加
ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化した後に仕上げ研磨(ポリッシュ)で表面の酸化膜を除去することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁
By using the first management processing section 165, the additional monitor signal transmission line 167 and the monitor signal transmission line 162, a part of the management signal, set to an OAM layer, in a signal to be transmitted between an OLT 11 and the ONU 100 is outputted to an external node 70.例文帳に追加
第1マネージメント処理部165と追加監視信号伝送路167と監視信号伝送路162とを用いることにより、OLT11とONU100との間で伝送される信号のOAMレイヤに設定されている管理信号の一部を外部ノード70に出力することができる。 - 特許庁
To realize excellent magnetic signal read out characteristics by preventing to sustain an injury in processing of facing surface of a medium by making resistance of a conductive layer of a magnetroresistive (MR) effect element small enough to pass a current for detection of a magnetic signal.例文帳に追加
磁気抵抗効果素子に対して磁気的信号検出用の電流を流すための導電層の抵抗を十分小さくしながら、媒体対向面の加工の際に導電層が損傷を受けることを防止して、良好な磁気的信号読み出し特性を実現する。 - 特許庁
To provide a method of surface treatment by which an antiglare layer is formed with a short processing time without necessitating a complicated process, an apparatus for plasma discharge treatment, an antiglare film and an antiglare low reflection film formed by the method of surface treatment and the apparatus for plasma discharge treatment.例文帳に追加
処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁
A paste-form band electrode 1 for winding is structured so that an active material mix layer 2 is formed on at least one of the main surfaces of a current collector, and grooves 3 orthogonal in the longitudinal direction are provided by laser processing at least at the start side end about the longitudinal direction.例文帳に追加
集電体の少なくとも一主面に活物質合剤層2が形成されて成る捲回型ペースト式帯状電極1であって、長手方向の少なくとも巻き始め側端縁部に、レーザー加工により長手方向に直交する溝3が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁
When the printer 20 receives the image data subjected to CMY conversion transmitted from the PC 10 and the Anoto pattern data, a printing processing part 203 synthesizes the data in accordance with control information of toner amounts of color input from a layer thickness control part 202 and forms a color image.例文帳に追加
プリンタ20がPC10から送信されてきたCMY変換された画像データと、アノトパターンデータとを受信すると、印刷処理部203は、層厚制御部202から入力される色のトナー量の制御情報に従い、それぞれのデータを合成してカラー画像を形成する。 - 特許庁
The bio-implant manufacturing method includes: a process 1 for manufacturing the base material having the porous layer on the front surface; and a process 2 for hydrothermally processing the base material obtained in the process 1 in a water solution containing at least calcium ion of 3.75 mM and at least phosphoric acid ion of 1.5 mM.例文帳に追加
表面に多孔質層を有する基材を製造する工程1と、工程1で得られた基材を、少なくとも3.75mMのカルシウムイオン及び少なくとも1.5mMのリン酸イオンを含む水溶液中にて水熱処理する工程2と、を含む生体インプラントの製造方法。 - 特許庁
The adhesive processing sheet is provided with an adhesive layer on one surface of a support body which is not lower than 15N/mm^2 and not greater than 250N/mm^2 in bending modulus when a slender sheet with a width of 20mm is bent at 3.0mm of a radius of curvature.例文帳に追加
加工用粘着シートは、支持体の一方の面に粘着剤層を有する加工用粘着シートであって、この支持体は、幅20mmの細長いシートを曲率半径3.0mmで曲げた時の曲げ弾性率が15N/mm^2以上、250N/mm^2以下である。 - 特許庁
After the first laminate is stacked, a cutting means penetrates all of the laminate 110 and the internal-layer circuit board 100 across the two slits 24 to form an unnecessary piece and to form the opening 21, thereby performing processing for forming a terminal 20 including the terminal 20a.例文帳に追加
積層後、2つのスリット24に跨って積層板110及び内層回路基板100の全てを貫通するように切断手段を通して、不要な除去片を形成すると同時に開口部21を形成して、端子20aを備えた端子部20の形状加工を行う。 - 特許庁
To improve the suitability of an emulsion layer (gelatin) washing off at washing in the production of an aluminum planographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer process and to produce an aluminum planographic printing plate excellent in ink receptivity and printing durability while preventing the sticking of a deposit on a roller in a processing apparatus.例文帳に追加
銀錯塩拡散転写法を利用したアルミニウム平版印刷版の製版処理において、水洗処理時の乳剤層(ゼラチン)のウォッシュ・オフ性を向上させ、インキ受理性及び耐刷力に優れたアルミニウム平版印刷版の製版方法を提供することにある。 - 特許庁
The film processing device is provided with: a peeling means 14 of peeling a stacked body such as an emulsion layer from a film base in a frame image non-forming region of a negative film 4; and a printing means 17 of printing information on the contents of the negative film 4 to the peeled region.例文帳に追加
本発明は、ネガフィルム4のコマ画像非形成領域におけるフィルムベースから乳剤層等の積層体を剥離する剥離手段14と、該剥離領域に対して該ネガフィルム4の内容に関する情報を印刷する印刷手段17とを備えてなるフィルム処理装置である。 - 特許庁
In the case where the display condition signal has two or more of display conditions, the image display data of the uppermost layer in superposed layers is used for the image display data after composition when the semi-transmission ON/OFF information is OFF, and semi- transmission compositing processing is conducted when the ON/OFF information is ON.例文帳に追加
表示状態信号が2レイヤ以上表示状態の場合、半透過ON/OFF情報がOFFであれば、重なっているレイヤの1番上のレイヤの画像表示データが合成後の画像表示データとなり、半透過ON/OFF情報がONの場合には、半透過合成処理を行う。 - 特許庁
The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加
非晶質シリコン膜12aは、フォトリソグラフィ処理でWaの3倍の幅寸法45nmでパターニングされるが、スリミング技術で30nmに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜15に変質させ、これによって寸法がWaである15nmに形成される。 - 特許庁
This information processor is adapted to deliver a report to a higher layer via a control device (operation button management device) 2 interposed between operation elements such as an operation button A-1, A-2, etc. and operation input devices Device A, Device B, etc. such as pointing devices to perform application processing.例文帳に追加
操作釦「A−1」、「A−2」、…等の操作要素と、ポインティングデバイス等の操作入力用デバイス「Device A」、「Device B」、…との間に介在される制御デバイス(操作釦管理用デバイス)2を経由して上位階層へと通知が届けられて、アプリケーション処理が行われる構成にした。 - 特許庁
The resin molded article manufacturing method comprises a molding step of forming a resin-made base, a predetermined processing step of generating cracks on a surface of the formed base, and a laminating step of providing a resin layer capable of recognizing the cracks from the outer surface side on an outer surface of the base with the cracks.例文帳に追加
樹脂製の基台を成形する成形工程と、成形した基台の表面にひびを発生させる所定の処理工程と、ひびが生じた基台の外面に、ひびが外面側より認識できる樹脂層を設ける積層工程とから樹脂成形品の製造方法を構成した。 - 特許庁
To provide a method of producing a master plate for planographic printing plate which can utilize the conventional processing unit and printer as they are, attains direct plate making from digital information of a computer or the like and has a photosensitive layer capable of forming a wholly uniform image and having a wide electric conductivity latitude of a developing solution.例文帳に追加
従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であり、全体に均一な画像を形成し得る、現像液の電導度ラチチュードが広い感光層を有する平版印刷版原版の製造方法を提供する。 - 特許庁
Thus, an infrared ray transmitted through a sound hole 22a formed on a cover board 22 to a capacitor structure part 12 is reflected on the vibrating film 32A on which the infrared reflecting paint has been applied in reflow processing, so that it is possible to prevent the electret layer 34B from being exposed to the heat of the infrared ray.例文帳に追加
これにより、リフロー処理の際、カバー基板22に形成された音孔22aを介してコンデンサ構造部12に到達する赤外線を、赤外線反射塗料が塗布された振動膜32Aで反射させて、エレクトレット層34Bが赤外線の熱に曝されてしまわないようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, which includes a step for processing a glass sheet having a plate shape to form a glass substrate that excels in plate thickness distribution and flatness and does not have an affected layer on a main plane or an end surface thereof with high productivity.例文帳に追加
本発明は、板形状を有するガラス素基板を、板厚分布と平坦度に優れ、ガラス基板の主平面や端面に加工変質層を有さないガラス基板に、高い生産性で加工する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|