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p-Inの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 17764



例文

In the image forming apparatus 100, transfer material P on a conveyance sucking belt 112 is conveyed toward a detection feasible position under an optical detection sensor 110, while air flow by the suction fan 111 is made to act on the transfer material P through a plurality of through-holes, so as to suck the transfer material P.例文帳に追加

画像形成装置100では、複数の貫通穴を介して吸引ファン111による空気流を搬送吸着ベルト112上の転写材Pに作用させて吸着しつつ光学検知センサ110下方の検知可能位置に向けて搬送する。 - 特許庁

When P2>P/31/2, the interval D of the axis R becomes larger than the print dot pitch P and the chip interval d can be increased as compared with a conventional LED array chip where the light emitting parts are arranged in a row, at a pitch P, on a chip having a rectangular upper surface.例文帳に追加

P2>P/√3のとき、軸Rの間隔Dは印刷ドットピッチPよりも大きくなり、上面形状が長方形のチップ上に発光部をピッチPで一列に配置した従来のLEDアレイチップよりも、チップ間隙dを大きくすることができる。 - 特許庁

In a rear end clamp, a biting margin of a printing plate P by a clamp rubber 51 of the rear end clamp is increased when the rigidity of the printing plate P is large and is reduced when the rigidity of the printing plate P is small according to the rigidity of the recording material attached to an outer peripheral surface of a recording drum.例文帳に追加

後端クランプは、記録ドラムの外周面に装着される記録材料の剛性に応じて、後端クランプのクランプゴム51による刷版Pの咥え代を、刷版Pの剛性が大きなときに大きくし、刷版Pの剛性が小さいときに小さくする。 - 特許庁

A leaked liquid-measuring instrument 10 is provided, where the instrument 10 is connected between the connection terminal part (p) of the internal electrode body P and a connection terminal part q(r) of the external electrode body Q(R) to measure the change in electrical resistance or current due to the leaked liquid between the above electrode bodies P and Q(R).例文帳に追加

内電極体Pの接続端子部pと外電極体Q(R)の接続端子部q(r)との間に接続されて前記電極体P、Q(R)間の漏液による電気抵抗又は電流の変化を測定する漏液測定器10を設ける。 - 特許庁

例文

Thereafter, the p-type GaN substrate 7 is turned into a thin film so as to be restrained from increasing in resistance and turned to a p-type GaN electrode forming region 8 (Figure 1 (d)), and a p-type electrode 11 and an n-type electrode 12 are formed using evaporation, lithography, and dry etching (Figure 1 (e)).例文帳に追加

その後、抵抗値を抑えるためにp型GaN基板7を薄膜化してp型GaN電極形成領域8とし(図1(d))、p型電極11およびn型電極12を、蒸着、リソグラフィ、ドライエッチングを用いて形成する(図1(e))。 - 特許庁


例文

In, for example, a high-breakdown-voltage P-type MOS transistor structure, a low-density P-type diffusion region 109 is formed on a low-density N-type diffusion region 108 to the right and the left of a gate G, and a high-density P-type diffusion region 106 is formed thereupon.例文帳に追加

例えば高耐圧P型MOSトランジスタ構造では、低濃度N型拡散領域108の上において、ゲートGの右方及び左方に、低濃度P型拡散領域109が形成され、その上に高濃度P型拡散領域106が形成される。 - 特許庁

The pole P is inserted into the pole supporting cylinder 6 and the tapered cylindrical part 6a is thrust by the tapered surface 16 by tightening of the nut member 14 and the pole P is grasped by the inward deformation in the radial direction of an elastic piece 8 formed between the slits 7, by which the pole P is stabilized.例文帳に追加

ポール支持筒6内にポールPを挿入し、ナット部材14の締付けによりテーパ面16でテーパ筒部6aを押圧し、スリット7間に形成された弾性片8の半径方向内方への変形によりポールPを挾持して、ポールPの安定化を図る。 - 特許庁

In the manufacturing method of a semiconductor laser, there are formed by an MOCVD method successively on an n-type substrate 101 an n-type buffer layer 102, an n-type clad layer 103, an active layer 104, a first p-type clad layer 105, a p-type etching stop layer 106, and a second p-type clad layer 107.例文帳に追加

n型基板101上に、MOCVD法により、n型バッファ層102、n型クラッド層103、活性層104、p型第1クラッド層105、p型エッチングストップ層106、およびp型第2クラッド層107を、順次形成する。 - 特許庁

A guide 28 constitutes a passage R through which the paper P passes from the pair of resist rollers 24 to the transfer roller 34 and which is curve-shaped in a planar view from a direction perpendicular to the carrying direction of the paper P and parallel to the paper P.例文帳に追加

ガイド28は、レジストローラ対24と転写ローラ34との間において用紙Pが通過する経路Rであって、用紙Pの搬送方向に直交しかつ用紙Pに平行な方向から平面視したときに、湾曲した形状をなす経路Rを構成している。 - 特許庁

例文

In a solar cell element 10 comprising a semiconductor substrate 1 having a p-type semiconductor layer, the p-type semiconductor layer has an Si-N bond internally and a passivation layer 7 is provided on the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

p型半導体層を有する半導体基体1を備えた太陽電池素子10であって、前記p型半導体層は内部にSi−N結合を有しており、前記p型半導体層の上にパッシベーション層7が設けられている太陽電池素子10とする。 - 特許庁

例文

By a selection on a selector switch 1b on the tachometer body P side, an output pulse of a waveform shaping circuit 12 in a second sensor device R is inputted into an arithmetic circuit 4 on the tachometer body P side while bypassing an input circuit 2 on the tachometer body P side.例文帳に追加

回転計本体P側の切替スイッチ1bの切り替えによって、第2のセンサ装置Rにおける波形整形回路12の出力パルスを、回転計本体P側の入力回路2をバイパスして、回転計本体P側の演算回路4に入力する。 - 特許庁

An element value specifying part 32 specifies element values C corresponding to image data Din of respective pixels P on the basis of positions of respective pixels P in each unit areas Au when the plurality of pixels P are divided into unit areas Au having line-symmetrical or point-symmetrical concave polygon-shape.例文帳に追加

要素値特定部32は、複数の画素Pを線対称または点対称の凹多角形の単位領域Auに区分したときの各単位領域Auにおける各画素Pの位置に基づいて当該画素Pの画像データDinに応じた要素値Cを特定する。 - 特許庁

The obtained reference point P_c(j) or a point P' which is not an infinite point O on the elliptic curve E/GF(p^m) when the reference point P_c(j) is the infinite point O, is substituted in each equation P^#_c(j) of the expansion equation for computation.例文帳に追加

上記展開式の各式P^♯_c(j)に、上記求まった参照点P_c(j)又は、その参照点P_c(j)が無限遠点Oである場合には楕円曲線E/GF(p^m)上の無限遠点Oではない点P’を代入して計算をする。 - 特許庁

For example, in a unit sell 6_11 of a MOS sensor, there are provided an n conductivity type charge storage 24 becoming a photodiode, and a p-conductivity well region 25 of a scanning transistor on the surface of a p-conductivity epitaxial layer 21a on a p-conductivity silicon substrate 21.例文帳に追加

たとえば、MOSセンサの単位セル6_11は、P導電型シリコン基板21上のP導電型エピタキシャル層21aの表面に、フォトダイオードとなるN導電型の電荷蓄積部24、および、走査トランジスタ部のP導電型ウェル領域25が設けられている。 - 特許庁

The load may include a container 6 to store the lower portion of the PET bottle P, a ring body 8 attachably/detachably fixed to the outer circumference of the lower portion of the PET bottle P, and weights 7a, 7b attachably/detachably fixed to a recess P3 in the undersurface of the PET bottle P.例文帳に追加

また、荷重体としては、ペットボトルPの下部を収容する容器6や、ペットボトルPの下部外周に嵌合により着脱自在に固定されるリング体8や、ペットボトルPの下面の凹部P3に着脱自在に固定される重り7a、7bを用いてもよい。 - 特許庁

The dopant of a p-type clad layer and a p-type active layer is Ge, with its carrier concentration in the range of 8×1017 to 12×1017 cm-3, the thickness of the p-type active layer is set to 0.5 to 1.2 μm, and the oxygen concentration is set less than 3×1016 cm-3.例文帳に追加

p型クラッド層およびp型活性層のドーパントをGeとし、そのキャリヤ濃度を8×10^17cm^-3以上12×10^17cm^-3未満、p型活性層の層厚を0.5μm以上1.2μm以下で酸素濃度を3×10^16cm^-3未満とする。 - 特許庁

The pair of guide members 31, 32 are vertically moved in accordance with conveyance of the paper money P into the upper part of the storage part 1 and are once removed onto an upper face side of the paper money P to press the paper money P into the storage part 12 from above by the pair of guide members 31, 32.例文帳に追加

収納部12の上部への紙幣Pの搬送に応じて、一対のガイド部材31,32を上下動させ、一対のガイド部材31,32を紙幣Pの上面側に一旦外した後、一対のガイド部材31,32で紙幣Pを上方から収納部12内に押さえ込む。 - 特許庁

A lens pitch P (μm) of the first film 2, a haze value H (%) by measurement of backward diffusion and total light transmittance T (%) in the second film 3, and a pixel pitch Pp (μm) of the liquid crystal panel 4 satisfy H/T×Pp/P>1.6 and P≥110 μm.例文帳に追加

第1のフィルム2のレンズピッチP(μm)と、第2のフィルム3の後方拡散測定によるヘイズ値H(%)および全光線透過率T(%)と、液晶パネル4の画素ピッチPp(μm)とが、H/T・Pp/P>1.6、かつP≧110μmの関係を満たす。 - 特許庁

The PNP bipolar transistor 164 is formed by P-type, N-type, and P-type impurity diffusion regions 122, 126, and 128 that are formed in the direction of the depth of a substrate, and the zener diode 150 is formed by the N-type and P-type impurity diffusion regions 126 and 128.例文帳に追加

PNPバイポーラトランジスタ164は、基板の深さ方向に形成したP型、N型及びP型不純物拡散領域122,126,128にて形成され、ツェナーダイオード150は、N型及びP型不純物拡散領域126,128にて形成される。 - 特許庁

This exposure method, which transfers the pattern of a mask M onto the substrate P, includes a register process for registering the mask M and the substrate P and an addition process for adding the information of the register result in the register process onto the substrate P.例文帳に追加

マスクMのパターンを基板P上に転写する露光方法において、前記マスクMと前記基板Pとを位置合わせする位置合わせ工程と、前記位置合わせ工程における位置合わせ結果の情報を前記基板P上に付ける付加工程とを有する。 - 特許庁

To provide a PDC-P channel packet network access method by which a communication server of a general office can surely transmit an electronic mail without being affected by an external environment of a path between the server and a PDC-P terminal in the case that the communication server transmits the electronic mail to the PDC-P terminal.例文帳に追加

一般のオフィスの通信サーバからEメールをPDC−P端末に送信する際に、経路間の外部環境に影響されずに送信でき、確実にEメールを送信することができるPDC−Pパケットネットワークアクセス方法を提供すること。 - 特許庁

A copper alloy having a composition comprising, by mass, 0.03 to 0.3% Fe and 0.01 to 0.1% P in such a manner that Fe/P as the mass ratio between Fe and P is controlled to 2.0 to 4.0, and also comprising 0.005 to 0.5% Sn, and the balance copper with inevitable impurities is used.例文帳に追加

Fe:0.03〜0.3質量%、P:0.01〜0.1質量%を含有し、FeとPとの質量比であるFe/Pが2.0〜4.0であり、かつSn:0.005〜0.5質量%を含有し、残部銅及び不可避不純物からなる銅合金を用いる。 - 特許庁

The semiconductor laser element 1 is formed by stacking, in a following sequence, an n-type semiconductor substrate 11, an n-type clad layer 12, an active layer 13, a p-type first clad layer 14, a current block layer 15, a p-type second clad layer 16, and a p-type contact layer 17.例文帳に追加

本発明の半導体レーザ素子1は、n型半導体基板11、n型クラッド層12、活性層13、p型第1クラッド層14、電流ブロック層15、p型第2クラッド層16、及びp型コンタクト層17が、この順に積層されてなる。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a banding due to an instantaneous change in the transporting speed of photographic paper P, by relieving the impact exerted on the photographic paper P when a guide roller 23 of a guide member 20 and the photographic paper P come into contact with each other right after the passage through an exposure area.例文帳に追加

露光エリアの通過直後でガイド部材20のガイドローラ23と印画紙Pとが接触した際に、印画紙Pに加わる衝撃を緩和し、これによって、印画紙Pの搬送速度の瞬間的な変化に起因するバンディングの発生を抑える。 - 特許庁

This element has a configuration in which a p-type electrode 8 is formed on the p-type layer 7 and an n-type electrode 9 is formed on the surface of a second n-type layer 4 exposed by removing a part of a multilayer structure from the p-type layer 7 to the second n-type layer 4.例文帳に追加

p型層7の上にはp型電極8が形成され、p型層7から第2のn型層4までの多層構造の一部が除去されて露出された第2のn型層4の表面にn型電極9が形成された構成となっている。 - 特許庁

In mod p groups, an even h is chosen of value approximately (9/16)(log_2n)^2, values r and n are determined using sieving and primality testing on r and n, and a value t is found to compute p=tn+1 where p is prime.例文帳に追加

mod p群において、偶数hが約(9/16)(log_2n)^2の値として選択され、値rとnは、rとnに対するふるいと素数性テストを使用して判定され、値tが、pが素数の場合に、p=tn+1を計算するために見出される。 - 特許庁

When an I picture format and a P picture format are both included, a frame kind converting means 104 converts I pictures into P pictures and the image composing means 103 puts together the moving picture data, which are all in the P picture format.例文帳に追加

また、Iピクチャ形式とPピクチャ形式のフレームが含まれる場合は、画像合成手段103は、フレーム種別変換手段104がIピクチャをPピクチャに変換し、符号化種別が全てPピクチャ形式に揃えられて動画像データを合成処理する。 - 特許庁

In order to load the paper sheets P on the standby tray 10 with excellent alignment property, the tray members 10a, 10b are turned upwardly when the downwardly curled paper sheets P are loaded, and the tray members 10a, 10b are turned downwardly when the upwardly curled paper sheets P are loaded.例文帳に追加

用紙Pを待機トレイ10上に整列よく載せるため、下側カールした用紙Pを載せる場合には、トレイ部材10a、10bは上向きに回動し、上側カールした用紙Pを載せる場合には、トレイ部材10a、10bは下向きに回動させる。 - 特許庁

A processing control unit acquires a designated return point P by converting a prescribed place (P) into a position (a latitude, a longitude) on a map when the prescribed place (P) is pressed by the user on a guidance route R1 connecting a stating place S to a destination G as shown in Fig. (a).例文帳に追加

処理制御部は、(a)に示すように、出発地Sと目的地Gとを結ぶ誘導経路R1上において、所定箇所(P)が利用者により押圧された場合に、地図上の位置(緯度、経度)に変換する等により、指定された復帰ポイントPを取得する。 - 特許庁

A P-type SiC area 30 is formed in a part of the surface layer of an N-type SiC epitaxial area 20, and a gate electrode is formed through a gate insulating film 40 on the surface of the P-type SiC area 30 and the surface of the N-type SiC epitaxial area 20 adjacent to this P-type SiC area 30.例文帳に追加

N型SiCエピタキシャル領域20の表層の一部にP型SiC領域30を設け、P型SiC領域30とこれに隣接するN型SiCエピタキシャル領域20の表面にゲート絶縁膜40を介してゲート電極を設ける。 - 特許庁

The liquid crystal, a cell gap and the chiral agent are selected in such a manner that 450×d/p+290≤Δnd≤459×d/p+590 is satisfied, when the refractive index anisotropy of the liquid crystal, the cell gap and the helical pitch of the chiral agent are defined as Δn, d (nm) and p (nm), respectively.例文帳に追加

更に、液晶の屈折率異方性をΔn、セルギャップをd(nm)、カイラル剤のヘリカルピッチをp(nm)としたときに、450×d/p+290≦Δnd≦459×d/p+590を満足するように、液晶、セルギャップ及びカイラル剤を選択する。 - 特許庁

An h-ary operation section 35 calculates k-multiplication of the point P in h-ary system wherein the h-multiplication of the point P by an h-multiplication operation section 36 and the addition of integral multiple points equal to or less than (h-1)-folds with respect to the point P by an addition operation section 38 are combined.例文帳に追加

h進法演算部35は、h倍算演算部36による点Pのh倍算と、加算演算部38による点Pの(h−1)倍以下の整数倍点の加算を組み合わせたh進法により、点Pのk倍算を計算する。 - 特許庁

A guide rib 32 is installed in an inner wall of a holder part 30 to be slanted with respect to an inserting direction of a beverage can P, so the beverage can P is easily inserted into the holder and is securely held by a long-sized holding line expanding up and down along the slim-shaped can P.例文帳に追加

ホルダ部30の内壁面にドリンク缶Pの挿入方向に対してガイドリブ32を斜め方向に設定することで、ドリンク缶Pの挿入作業性を高め、かつ、細長状のドリンク缶Pの上下に亘り長寸の保持ラインで確実な保持を図る。 - 特許庁

In a semiconductor device 1, a deep N well (DNW) 12 is formed at the upper layer part of a P type substrate 11, a P well 13 is formed partially at the upper layer part of the DNW 12, and an N type LDMOS 26 is formed at the upper layer part of the P well 13.例文帳に追加

半導体装置1において、P型基板11の上層部分にディープNウエル(DNW)12を形成し、DNW12の上層部分の一部にPウエル13を形成し、Pウエル13の上層部分にN型LDMOS26を形成する。 - 特許庁

A feed roller pair 2 rotating while holding the recording medium P from both surfaces thereof to feed the recording medium P is provided on the downstream side in a feed direction of the recording head 42 and a fixing roller fixing an image while pressing the recording medium P is provided on the downstream side of the feed roller pair 2.例文帳に追加

記録ヘッド42の搬送方向下流側に、記録媒体Pを表裏から挟圧しつつ回転して搬送する搬送ローラ対20を設け、その下流側に、記録媒体Pを押圧しながら画像を定着させる定着ローラ54を設ける。 - 特許庁

An impedance controller 10 latches P-channel control signals PCNT5-PCNT1 to change P-channel impedance control signals PCNTY5-PCNTY1 when P-channel transistors PTr5-PTr1 in an output buffer 30 with an impedance control turn off.例文帳に追加

インピーダンス制御部10は、インピーダンス・コントロール付き出力バッファ30のPチャンネルトランジスタPTr5〜PTr1がオフになる時にPチャンネル制御信号PCNT5〜PCNT1をラッチしてPチャンネルインピーダンスコントロール信号PCNTY5〜PCNT1を変化させる。 - 特許庁

p-t-Amyloxystyrene is produced by reacting a p-halophenol with 2-methyl-1-butene and/or 2-methyl-2-butene, preparing a Grignard reagent from the obtained p-t-amyloxyhalobenzene and reacting the reagent with a vinyl halide in the presence of a catalyst.例文帳に追加

p−ハロフェノールを2−メチル−1−ブテン又は/及び2−メチル−2−ブテンと反応させて得られたp−第三級−アミルオキシハロベンゼンからグリニャール試薬を調製し、これを触媒存在下ビニルハライドと反応させp−第三級−アミルオキシスチレンを製造する。 - 特許庁

Accordingly, when large tension is applied to paper P in transporting the paper P, the driving force of the rotary shaft 20 is transmitted through the external gear 40 and the internal gear 38 to the roller part 26, whereby the roller part 26 transports the paper P to keep the paper from breaking off.例文帳に追加

従って、ペーパーPの搬送時にペーパーPに大きなテンションが掛かっても、回転軸20の駆動力が外ギヤ40及び内ギヤ38を介してローラ部26に伝達されることで、ローラ部26がペーパーPを搬送し、ペーパーPが切れることがない。 - 特許庁

This carrier device to carry the recording medium P toward the image transferring part includes an abutting member 32 to make a head end of the recording medium P moving in a carrier route by blocking the carrier route of the recording medium P abut and to open the carrier route thereafter.例文帳に追加

画像転写部に向けて記録媒体Pを搬送する搬送装置であって、記録媒体Pの搬送経路を閉鎖してその搬送経路を移動する記録媒体Pの先端を突き当てるとともに、その後に搬送経路を開放する突当部材32を備える。 - 特許庁

A container 11 which has a rotation mechanism 20 and a measurement part which measures AC impedance of paste P are used to measure the AC impedance of the paste P by the measurement part while rotating the paste P stored in the container 11 by the rotation mechanism 20.例文帳に追加

回転機構20を有する容器11と、ペーストPの交流インピーダンスを測定する測定部とを用い、容器11内に収容したペーストPを回転機構20により回転させながら、測定部によりペーストPの交流インピーダンスを測定する。 - 特許庁

When a takeout direction of the recording material P shown by an arrow 5 is not equal to the combining direction of the recording material P, a control part 3 displays an instruction to rotate the housing direction of the recording material P in the recording material cassette 69 by 90 degrees on a control panel 108.例文帳に追加

制御部3は、矢印5で示される記録材Pの取り出し方向と記録材Pの梳き目方向とが等しくない場合には、記録材カセット69に対する記録材Pの収納方向を90度回転させる指示を操作パネル108に表示させる。 - 特許庁

A p-n joint part between a p-type diffusion layer 2 and an n-type silicon substrate 1 is formed in an element formation area divided by an element isolation area 5 on the surface of a semiconductor substrate 1, and a radiation sensitive area is formed by the p-n joint part.例文帳に追加

半導体基板1の表面の素子分離領域5により区画された素子形成領域に、p型拡散層2とn型シリコン基板1とのpn接合部が形成されており、このpn接合部により放射線有感領域が構成されている。 - 特許庁

The vacuum heat treatment device 1 is provided with a rotary vessel 4 arranged in a vacuum and further having a storage chamber 42 storing an object P with gas absorbed, and, by heating the object P, the object P is subjected to degassing treatment.例文帳に追加

真空熱処理装置1は、真空中に配置されると共にガスを吸収した被処理物Pが収容される収容室42を持つ回転容器4を備え、被処理物Pを加熱することにより被処理物Pの脱ガス処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device having an N-type SiC layer 3, which has a hexagonal crystal structure, a P-type SiC region 4 provided on the main plane of the N-type SiC layer 3, and a P-type conductive layer 6 provided on the surface of the P-type SiC region 4, wherein the P-type SiC region 4 includes cubic structure SiC in the part touching the P-type conductive layer 6.例文帳に追加

六方晶構造を有するN型SiC層3と、N型SiC層3の主面に設けられたP型SiC領域4と、P型SiC領域4の表面上に設けられたP型導電層6と、を備え、P型SiC領域4のうちのP型導電層6に接する部分は、立方晶構造のSiCを含むことを特徴とする半導体装置が提供される。 - 特許庁

In addition to a surface P+ pinning layer 7 on a photodiode surface and a surface P- region 12 directly below a transfer gate electrode 10, a surface p- region 11 is formed therebetween on an overlapping region of the photoelectric conversion and accumulation section 4 to form an electric field directed from the surface P- region 11 on an overlapping region surface to a drain region through the surface P- region 12.例文帳に追加

フォトダイオード表面の表面P+ピンニング層7と、転送ゲート電極10下の表面P−領域12に加えて、これらの間で光電変換蓄積部4のオーバーラップ領域上に表面P−領域11を形成することにより、このオーバーラップ領域表面の表面P−領域11から表面P−領域12を介してドレイン領域に向かう電界を形成している。 - 特許庁

In the solar cell 10, a p-type electrode 15 is disposed in a first trench 13a formed in a first insulating layer 13, and is contact with a p-type region 11a, while a n-type electrode 16 is disposed in a second trench 14a formed in a second insulating layer 14, and is in contact with a n-type region 11b.例文帳に追加

太陽電池10において、p側電極15は、第1絶縁層13に形成された第1溝部13aに配設されてp型領域11aと接触しており、n側電極16は、第2絶縁層14に形成された第2溝部14aに配設されてn型領域11bに接触する。 - 特許庁

To a p-type semiconductor substrate 1a, the semiconductor device forms an n-well 7 in which concentration increases in the depthwise direction from the main surface of the semiconductor substrate 1a to result in impurity concentration peak 6, and a p-well 11 in which concentration increases in the depth direction from the main surface of the semiconductor substrate 1a to result in impurity concentration peak 10.例文帳に追加

P型の半導体基板1aに半導体基板1aの主表面から深さ方向に濃度を増加し不純物濃度ピーク6を有するNウエル7及び半導体基板1aの主表面から深さ方向に濃度を増加し不純物濃度ピーク10を有するPウエル11を形成する。 - 特許庁

In the second process, the magnet 3 is arranged in a part supposed to have the possibility of generating a void P, and is laterally and vertically moved so that the cement 1 is completely filled in a branch-shaped filling passage 20 easily generating the void P.例文帳に追加

そして、第2工程において、磁石3を、空隙Pが発生するおそれがあると思われる部位に配置し、左右又は上下などに移動させることで、空隙Pが発生し易い枝状充填路20等にセメント1を完全に充填させる。 - 特許庁

In the leg 1a, a housing recessed part 12 having side wall 8 and a bottom wall 10 facing a body panel P and housing a part of an attaching seat 3 is cut out in a face 6 facing the body panel P in the retracted position of the grip body 1.例文帳に追加

脚部1aには、グリップ本体1が格納位置において車体パネルPに対向する面6に、側壁8と車体パネルPに対向する底壁10とを有して取付座3の一部を収容する収容凹部12を切欠形成する。 - 特許庁

例文

In a construction method of void slab buried in concrete C by arranging a large number of hollow pipes P in parallel, the hollow pipes P are arranged on a thin PC plate 1 laid between beams to fix, and the concrete C is placed on the thin PC plate 1.例文帳に追加

多数本の中空管Pを並列させてコンクリートCに埋め込むボイドスラブの構築方法において、梁間に掛け渡した薄肉PC板1上に中空管Pを配置して固定し、この薄肉PC板1上にコンクリートCを打設する。 - 特許庁




  
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