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pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29471件
After a resist pattern 2a is formed by exposure/development treatment by means of a circuit pattern mask 3, laser is cast selectively on a part which fines the resist pattern 2a through an irradiation mask 4.例文帳に追加
回路パターンマスク3による露光・現像処理で、レジストパターン2aを形成した後、このレジストパターン2aの微細化を行う部分に対して照射マスク4を介して選択的にレーザを照射する。 - 特許庁
For example, a pattern graph showing the relation between air supply quantity and inverter frequency, a pattern graph showing the relation between air supply quantity and power consumption, and a pattern graph showing an energy saving quantity are displayed on the same screen.例文帳に追加
例えば、給気量とインバータ周波数の関係を示す図形グラフ、給気量と消費電力の関係を示す図形グラフ、及び省エネルギ量を示す図形グラフとを同一画面に表示した。 - 特許庁
An irradiation area is determined based on the resulting projection pattern irradiation image or the projection pattern irradiation image and a projection pattern non-irradiation image to be identified as measurable area and the coordinate operation between images and the generation of a distance image are executed for the measurable area.例文帳に追加
この投光パターン照射画像、あるいは投光パターン照射画像と投光パターン非照射画像に基づいて照射領域を求め、これを可測領域として識別する。 - 特許庁
A first exposure is made with an optical aligner using an L/S pattern, and a second exposure is made using the same L/S pattern but 90° tilted to expose a square lattice pattern 9 on a photoresist film.例文帳に追加
光学露光装置を用いて、 L/Sパタ−ンにより第1の露光を行い、これと90°傾けたL/Sパタ−ンにより第2の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン9を露光する。 - 特許庁
Furthermore, in the losing variation pattern kind determination table, a determination value which differs depending on the storage number of the total reservations is allocated to the variation pattern kind including a variation pattern other than the super ready-to-win state.例文帳に追加
また、はずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチ以外の変動パターンを含む変動パターン種別に対しては、合算保留記憶数に応じて異なる判定値が割り当てられている。 - 特許庁
The user observing the pattern MA reads the information on the pattern of the action specified by the pattern MA to recognize what action the autonomously acting robot R has taken.例文帳に追加
このパターンMAを見た使用者は、そのパターンMAにより特定される行動の態様に関する情報を読取ることにより、自律行動ロボットRがどのような行動をしたかを認識する。 - 特許庁
Moreover, when an exposing pattern is not formed on the irradiated object, the distortion-free irradiation pattern can be exposed or the pattern having desired distortion can be exposed with a coil 20 or an electrode.例文帳に追加
また被照射体に被露光パターンが形成されていない場合には、コイル20又は電極により、歪みの少ない照射パターンを露光したり、任意の歪みを持ったパターンを露光することができる。 - 特許庁
Pattern information for executing arpeggio articulation and phrase pronuciation fitted to the extended tone color and a sequencer for executing pattern articulation in response to the pattern information are mounted on the extension board 3.例文帳に追加
音色拡張ボード3には、該拡張された音色になじむアルペジオ発音やフレーズ発音を実行するためのパターン情報と該パターン情報に応じてパターン発音を行うシーケンサが搭載されている。 - 特許庁
After the groove pattern 3 is formed through development, the groove pattern 3 is re-exposed, to form a silanol-group containing layer 4 as a surface layer on the groove pattern 3, thereby controlling the amount and distribution of the silanol group.例文帳に追加
現像により溝パターン3を形成した後に、溝パターン3を再び露光して、溝パターン3の表層にシラノール基含有層4を形成することにより、シラノール基の量、分布が制御される。 - 特許庁
A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加
被覆層4を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層5を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁
A user observes the pattern pairs under observation environment where the recorded image is scheduled to be observed, judges a pattern pair perceived to be color matched most and selects the pattern pair on a display 104.例文帳に追加
ユーザは、記録画像を観察する予定の観察環境においてパターン対を観察し、最も等色していると知覚したパターン対を判定し、ディスプレイ104上でそのパターン対を選択する。 - 特許庁
Further an ATC emergency brake (pattern control emergency brake output 120f) and an ATC normal brake (pattern control normal brake output 120e) are driven on the basis of the variable speed pattern control.例文帳に追加
更に、その可変速度パターン制御に基づいて、ATC非常ブレーキ(パターン制御非常ブレーキ出力120f)、及びATC常用ブレーキ(パターン制御常用ブレーキ出力120e)が駆動する。 - 特許庁
Furthermore, a registration control pattern of black color and a process control pattern of black color are formed, while being superimposed on a portion of a previously formed color pattern, so that the registration displacement of black color and the density of the black color can be detected with high accuracy.例文帳に追加
なお、黒のレジコンパターン及び黒のプロコンパターンについては、先に形成されたカラーのパターンの一部領域に重ねて形成するので、黒のレジずれ及び黒の濃度を精度良く検出できる。 - 特許庁
A variation pattern specification command is generated by a variation pattern determination process (S32) on the basis of a game condition (namely the value of a command pointer), a higher bite table of the variation pattern specification command and the value of a search pointer.例文帳に追加
変動パターン指定コマンドは、遊技状態(即ちコマンドポインタの値)と、変動パターン指定コマンド上位バイトテーブルと、検索ポインタの値とに基づいて、変動パターン決定処理(S32)により生成される。 - 特許庁
To prevent the revision of an error diffusion matrix pattern from being expressed on an output image even when the error diffusion matrix pattern is revised while attaining the revision of the error diffusion matrix pattern for suppressing the generation of a texture.例文帳に追加
テクスチャの抑制のため誤差拡散マトリクスパターンを変更可能としつつ、この誤差拡散マトリクスパターンの変更を行なっても、その変更が出力画像に表出しないようにする。 - 特許庁
When a substrate 31 having an irregular pattern on a surface is manufactured, plotting of a pattern in accordance with the irregular pattern is performed for a disk 11 to which a resist 12 is applied by scanning of an electron bean EB.例文帳に追加
表面に凹凸パターンを有する基板31を作製する際、レジスト12が塗布された円形基盤11に、電子ビームEBの走査により凹凸パターンに応じたパターンの描画を行う。 - 特許庁
This building board 10 forming a pattern by a paint film on its surface is provided, and a projecting weir part 15 is formed along an outer peripheral fringe of a pattern part 14 desiring clear division from the other pattern by colors.例文帳に追加
表面に塗膜による模様を形成した建築板10であって、他の模様と明確に色分けされることを望む模様部分14の外周縁に沿って凸状堰15が形成されている。 - 特許庁
A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23.例文帳に追加
ウエハステージ23の基準板36上に、前記各レチクルパターンRP1,RP2の投影光学系11を介した投影像に各別に受光する第1センサパターン及び第2センサパターンを設ける。 - 特許庁
The mold 20 is pushed against the body 12 to be transferred with such a posture whereby the transfer pattern, substantially equal to a pattern obtained by projecting the pattern of the mold 20 on the body 12 to be transferred, can be obtained.例文帳に追加
このような姿勢をもってモールド20を被転写体12に対し押圧することにより、モールド20のパターンを被転写体12に投影させたのと実質的に等しい転写パターンが得られる。 - 特許庁
A threshold value change pattern selecting unit 42 changes a change pattern of the threshold value in relation to the speed (v) used in the starting judging unit to other change pattern in response to the ON signal from the satellite sensor 30.例文帳に追加
閾値変化パターン選択部42ではサテライトセンサ30からのオン信号に応じて、起動判定部60で用いられる速度vに対する閾値Tの変化パターンを別の変化パターンに変更する。 - 特許庁
When determining that the long performance pattern is changed based on a result of the combination lottery during the game in the first game state, the slot machine changes the long performance pattern to another long performance pattern in the next and subsequent games.例文帳に追加
第1遊技状態の遊技中における役抽選結果に基づいてロング演出パターンを変更することに決定したときは、次遊技以降に他のロング演出パターンに変更する。 - 特許庁
The carrier transmission unit 32 includes a transmission pattern holding unit 33 for holding a transmission pattern of a carrier signal to be transmitted, and a transmission unit 34 for transmitting the carrier signal on the basis of the transmission pattern.例文帳に追加
キャリア送信部32は、送信するキャリア信号の送信パターンを保持する送信パターン保持部33、および送信パターンに基づいてキャリア信号を送信する送信部34を備えている。 - 特許庁
To detect and inspect a micro circuit pattern with high sensitivity in defect inspection of a pattern to be inspected for inspecting a defect/foreign matter on the pattern to be inspected such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, a photomask or the like.例文帳に追加
半導体ウェーハや液晶ディスプレイ、ホトマスクなどの被検査パターンにおける欠陥・異物を検査する被検査パターンの欠陥検査において、微細な回路パターンを高い感度で検出し、検査する。 - 特許庁
An object 14 on which displacement measurements are to be performed is provided with a visible pattern 16, and the visible pattern 16 is projected onto a plurality of optical sensors 12 as an image pattern formed of changes in systematic radiant intensity.例文帳に追加
変位測定を行うべき物体14は可視パターン16を備えており、該可視パターンは系統的放射強度の変化よりなる画像パターンとして複数の光センサ12上に投影される。 - 特許庁
To form a sharp-cut embossed pattern and to prevent the embossed pattern from fading with time, as regards an embossed pattern formed on the surface of a leather sheet.例文帳に追加
皮革シートの表面に形成した型押しによる凹凸模様に関して、輪郭のはっきりした凹凸模様を形成すること、および時間の経過に伴う凹凸模様の薄れを防止することを課題とする。 - 特許庁
To provide a character processor in which the size of pattern data of an ornamented character form is not enlarged when generating pattern data of the ornamented character form on the basis of pattern data of a standard character form.例文帳に追加
標準文字体のパターンデータに基づいて修飾文字体のパターンデータを生成する場合に、修飾文字体のパターンデータのサイズが増大することが無い文字処理装置を提供する。 - 特許庁
In a rail decoration 30 provided at the game panel 12, a pattern stoppage switch unit 35 having pattern stopping switches 31 to 33 for stopping the variable display of patterns on a pattern display device is incorporated.例文帳に追加
遊技盤12に設けられたレール飾り30には、図柄表示装置上の図柄の可変表示を停止させる図柄停止スイッチ31〜33を有した図柄停止スイッチユニット35が組み込まれている。 - 特許庁
Further, the standby period for prohibiting the alteration of the amount of damping water is determined on the basis of the minimum pattern area among the average pattern area of the whole region and the pattern area of each region.例文帳に追加
また、湿し水の供給量の変更を禁止する待機期間は、全領域の平均的な絵柄面積または各領域の絵柄面積のうちの最小の絵柄面積により決定される。 - 特許庁
The pattern forming process 20 comprises the steps of removing the primary coating film on the part where the liquid-repellent film is not formed, coating the liquid pattern material and annealing it to form a pattern of a specified shape.例文帳に追加
パターン形成工程20は、撥液膜の形成されていない部分の下地膜を除去し、液体パターン材料を塗布してアニールすることにより、液体パターン材料を所定形状のパターンにする。 - 特許庁
To provide an apparatus for forming colored pattern and a method of forming colored pattern by which a treatment time for applying colored pattern material onto a plurality of portions on a substrate and curing the material.例文帳に追加
基板における複数の箇所に着色パターン材料を塗布しかつ硬化させるときの処理時間を短縮し得る着色パターン形成装置及び着色パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The pattern variable display means (370) is provided with a pattern moving means (371) for making the right and left pattern images respectively displayed on the right and left divided screens pass through a hiding part and move to the other divided screen.例文帳に追加
図柄変動表示手段(370)には、左右の分割画面の各々表示される左右の図柄画像)を、隠蔽部分を通過させて他方の分割画面に移動させるための図柄移動手段(371)を備える。 - 特許庁
A stripe pattern which human beings cannot sense is drawn on the video projection screen 1, and when the stripe pattern is imaged with the imaging device, it is drawn so as to generate a stripe-like pattern due to aliasing.例文帳に追加
映像投影スクリーン1には、人が感知できない縞模様が描かれており、この縞模様は撮像装置により撮像されたとき、エイリアシングによる縞状のパターンを生じさせるように描かれている。 - 特許庁
The frequency characteristics of the respective test pattern groups (A-E) are compared, and a test pattern group (C) for adjustment is then specified from among the respective test pattern groups (A-E) on the basis of an output value of a predetermined standard frequency.例文帳に追加
そして、各テストパターン群(A〜E)の周波数特性を比較し、予め定めた基準周波数の出力値に基づいて各テストパターン群(A〜E)の中から調整用テストパターン群(C)を特定する。 - 特許庁
As has been explained previously, the specific pattern composite processing unit 440 composes image data input from the preceding stage and specified specific pattern in a specified area, based on the specified pattern information and composite region information.例文帳に追加
特定パタン合成処理440は前記説明したように、特定パタン情報、合成領域情報を元に前段から入力された画像データに指定の特定パタンを指定の領域に合成する。 - 特許庁
The whole of a left pattern, a middle pattern and a right pattern are variably started in capsules 02a to 02c (a), and a young girl character (Dear Dream) 03 is displayed on the front side of the capsule 02c (b).例文帳に追加
カプセル02a〜02c内で左図柄、中図柄及び右図柄の全てを変動開始させ(a)、さらに、女の子のキャラクタ(夢夢ちゃん)03をカプセル02cの前面側に表示させる(b)。 - 特許庁
The optical member can further comprise a second optical pattern which is formed on the first optical pattern and has a plurality of second shielding parts in the cross direction with respect to the first optical pattern.例文帳に追加
また、光学部材は、第1光学パターン上に形成され、第1光学パターンと交差して導電性物質を含む複数の第2遮蔽部を備えた第2光学パターンをさらに含むこともできる。 - 特許庁
Moreover, a extended region of the rectangular VIP pattern is generated on the base of its central point, and as this extended region is merged with a slanted second wiring pattern, a merged pattern is generated.例文帳に追加
さらに、長方形のVIAパターンをその中心点を基準に拡張した拡張領域を生成し、この拡張領域を斜めの第2配線パターンにマージしてマージパターンを生成する。 - 特許庁
On the surface of the decorative plywood 10A, a combined pattern of a combined geometrically pattern of a large number of the cut butt end pieces 31, 31... themselves and a pattern by means of the growth rings 31n of the cut butt end pieces is revealed.例文帳に追加
化粧合板10Aの表面には、多数の木口切片31、31…自体の幾何学的な組合せ模様と、その年輪31nの模様との組合せによる模様が表現される。 - 特許庁
The photomask has a glass substrate 15, an isolated line pattern 11c disposed on the substrate 15 and an auxiliary pattern 13 of a phase shifter formed near the isolated line pattern 11c.例文帳に追加
本発明に係るフォトマスクは、ガラス基板15と、該基板15の上に配置された孤立ラインパターン11cと、該孤立ラインパターン11cの近傍に形成された位相シフタの補助パターン13と、を具備するものである。 - 特許庁
To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.例文帳に追加
少なくともその一部にパターン幅が0.25μm以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁
A normal account journalizing pattern is fetched out of the normal account journalizing pattern master 6 by a normal account journalizing pattern extraction part 10 on the basis of the assets class within the assets master 6 of the designated assets.例文帳に追加
通常会計仕訳パターン抽出部10により、指定された資産の資産マスタ6内の資産クラスを基に、通常会計仕訳パターンマスタ6から通常会計仕訳パターンを取り出す。 - 特許庁
Based on the attribute information of a toner image, a toner image pattern control section 211 determines a method for detecting an amount of attached toner of a toner image, determines a toner image pattern according to the determination result, and forms the pattern.例文帳に追加
トナー像パターン制御部211は、トナー像の属性情報に基づいて、トナー像のトナー付着量の検出手法を判定し、その判定結果に応じてトナー像のパターンを決定して形成する。 - 特許庁
After the lapse of 1 ms from receiving the pattern stop command 33, all patterns are stopped and displayed, and determined, pattern variation now signals 51, 54 are turned off, and a pattern determination signal 52 is turned on for 100 ms.例文帳に追加
図柄停止コマンド33の受信から1ms経過後に、全図柄が停止表示されて確定し図柄変動中信号51,54がオフされ、図柄確定信号52が100msオンされる。 - 特許庁
A color shift correcting means includes: a pattern image forming means for forming a color shift pattern image in each color on a transfer surface; and a position detecting means for detecting the position of the formed pattern image.例文帳に追加
色ずれ補正手段は、各色ごとの色ずれのパターン画像を転写面上に形成するパターン画像形成手段と、形成されたパターン画像の位置を検出する位置検出手段とを含む。 - 特許庁
A1 is deposited on the surface of a piezoelectric substrate 1 to be etched to be a pattern obtained by negatively inverting an electrode pattern, and Cu or a Cu-based alloy is deposited so as to cover an obtained A1 pattern 2.例文帳に追加
圧電基板1の表面上にAlを堆積し、電極パターンをネガ反転したパターンにエッチングし、得られたAlパターン2を覆うようにCu又はCuを主成分とする合金を堆積する。 - 特許庁
On the insulating film layer a3, a conductor pattern b32 is formed in a drawn-around condition around a conductor pattern b31 to be an electrode of a capacitor element, the drawn-around conductor pattern b32 becomes an inductive element.例文帳に追加
絶縁膜層a3上では、容量素子の電極となる導体パターンb31の周囲に、導体パターンb32を引き回す形態に形成し、当該引き回し導体パターンb32が誘導素子となる。 - 特許庁
The optimum control pattern derivation means derives the optimum control pattern optimum for customer's demand on the basis of the air conditioning load pattern, the geographic electricity/gas fee data, the capacity data, and the customer's demand.例文帳に追加
最適制御パターン導出手段は、空調負荷パターンと地域別電気/ガス料金データと容量データと顧客の要望とに基づいて、顧客の要望に最適な最適制御パターンを導出する。 - 特許庁
An illumination optical system 70 irradiates a substrate W with light for pattern exposure via the mask M, and exposure-transfers the line-like pattern 84 corresponding to the main pattern part 81, on the substrate W.例文帳に追加
照明光学系70が基板Wに対してパターン露光用の光をマスクMを介して照射し、基板Wに主パターン部81に対応するライン状のパターン84を露光転写する。 - 特許庁
On a first substrate 2 located inside of a cylinder, a first antenna pattern 21 is arranged in a spiral pattern and a first distribution circuit 22 for supplying a signal to the first antenna pattern 21 is arranged.例文帳に追加
円筒の内側に位置する第1の基板2に、第1のアンテナパターン21を螺旋状に配設し、さらに、この第1のアンテナパターン21に信号を給電する第1の分配回路22を配設する。 - 特許庁
A CPU 56 executes processing from the variation start of a first special pattern based on an entry to a first start winning port 13 to the stop of a stop pattern and processing from the variation start of a second special pattern based on an entry to a second start winning port 14 to the stop of a stop pattern by a common processing routine (special pattern process processing).例文帳に追加
CPU56が、第1始動入賞口13への入賞にもとづく第1特別図柄の変動開始から停止図柄の停止までの処理と第2始動入賞口14への入賞にもとづく第2特別図柄の変動開始から停止図柄を停止するまでの処理とを共通の処理ルーチン(特別図柄プロセス処理)で実行する。 - 特許庁
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