「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(787ページ目) - Weblio英語例文検索

In this plate for the screen printing, wherein a print pattern part 5 is formed on a mesh screen 3 provided on a frame 2 in a tensioned state, the pattern part 5 is formed of a resin and provided with at least one opening 5a, and parts among the respective pattern parts 5 on the side of a printed surface A of the mesh screen 3 are coated with metal foil 6.例文帳に追加

版枠２に張設されたメッシュスクリーン３に印刷パターン部５を形成してなるスクリーン印刷用版において、上記印刷パターン部５を、樹脂により形成され、少なくとも１つの開口５ａを有するものとし、上記メッシュスクリーン３の印刷面Ａ側の上記各印刷パターン部５の間の部分を金属箔６により覆う。 - 特許庁

Continuously, the directional pattern is respectively measured by using plural weight coefficient groups, for which the weight coefficient is changed to some extent on the basis of a weight coefficient group composed of respective calculated weight coefficients, the absolute value of a difference between the directional pattern calculated for each of weight coefficient groups and the measured directional pattern is respectively found and an added total value, to which this difference is added, is found.例文帳に追加

続いて、算出した各重み係数からなる重み係数群を基準に重み係数を若干変更した複数の重み係数群を使用してそれぞれ指向性パターンを測定し、各重み係数群毎に算出した指向性パターンと測定した指向性パターンの差の絶対値をそれぞれ求め、この差を加算した加算合計値を求める。 - 特許庁

The matching processing part is provided with a similarity determination means (the CPU 1, for example) comparing teacher data d related to a reference pattern P for the face image with the predetermined area of the image data for determining similarity between them and a pattern dimension changing means (the CPU 1, for example) changing a dimension of the reference pattern P based on the similarity determination result.例文帳に追加

マッチング処理部は、顔画像に対する基準パターンＰに係る教師データｄと画像データの所定範囲とをパターンマッチング処理により比較して、それらの類似度を判定する類似度判定手段（例えば、ＣＰＵ１）と、類似度の判定結果に基づいて、基準パターンＰの寸法を変更するパターン寸法変更手段（例えば、ＣＰＵ１）とを備える。 - 特許庁

The control device 20 is provided with a game control means 100 for controlling the game, a lottery means 10 for performing a lottery, a pattern stop control means 120 for controlling stop of the pattern on the basis of a result of the lottery, and an winning judging means 140 for judging an winning when the predetermined pattern stops at the predetermined position.例文帳に追加

制御装置20は、遊技を制御するための遊技制御手段100と、抽選を行うための抽選手段110と、抽選結果に基づいて図柄の停止制御を行うための図柄停止制御手段120と、所定の図柄が所定の位置に停止したときに入賞と判定するための入賞判定手段140とを備えている。 - 特許庁

When the end of the actions of the conveyor 52 is followed by the deletion of the identifying pattern, and now there is none of the stopped pattern on the second truck 52b from the left, a voice of 'squeaking' from a lever 53 operated by a character 54 is outputted while a second balloon 56 expressing the action sound in a character string is displayed o the special pattern display device 4.例文帳に追加

コンベア５２の動作が終わり、左から２番目の台車５２ｂ上の識別図柄が停止図柄ではなく、これを消去する場合には、キャラクタ５４の操作するレバー５３の音声「ギーコ ギーコ ギーコ」を出力し、同時にこの動作音を文字列で表した第２の吹き出し５６を特別図柄表示装置４上に表示する。 - 特許庁

Furthermore, the information processor holds external character information including an external character code, an external character pattern corresponding to the external character code, and version information on the external character pattern, and provides the updated external character information as external character information in which the external character pattern and the version information have been updated to the image forming apparatus for forming an image by using the external character information.例文帳に追加

また、情報処理装置は、外字コード、該外字コードに対応する外字パターン、及び該外字パターンのバージョン情報を含む外字情報を保持し、前記外字情報を用いて画像形成を行う画像形成装置に、外字パターンとバージョン情報とが更新された外字情報である更新外字情報を提供する。 - 特許庁

The second frame image insertion section includes a double-speed frame image generator that generates a double-speed frame image consecutively time-sequentially to each of the first frame images, a white image pattern generator that generates a white image pattern including the white image, and a second frame image transformer that transforms the double-speed frame image into the second frame image based on the white image pattern.例文帳に追加

第２フレーム画像挿入部は、第１フレーム画像のそれぞれから時系列に後ろに連続する倍速フレーム画像を生成する倍速フレーム画像生成部と、白画像を含んだ白画像パターンを生成する白画像パターン生成部と、白画像パターンに基づいて、倍速フレーム画像を第２フレーム画像に変換する第２フレーム画像変換部とを備える。 - 特許庁

A second liquid crystal display device 12 is installed with inclination from the rear part to the front part of a game board 10, so that the pattern display part is adjacent to the right side of the pattern display part of a first liquid crystal display device 11 and projected forward as separated from the pattern display part of the first liquid crystal display device with respect to the front surface of the game board 10.例文帳に追加

第二液晶表示装置１２を、その図柄表示部が、第一液晶表示装置１１の図柄表示部の右側に隣接し、且つ、遊技盤１０の前面に対して、第一液晶表示装置１１の図柄表示部から遠くなるにしたがい前方へせり出すように遊技盤１０の後方から前方にわたり傾斜させて設置した。 - 特許庁

A rendering mode decision means 2958a determines a rendering pattern for an "ultra-big chance" rendering in which a variation rendering for showing whether the ready-for-win state is formed on the valid line is executed sequentially more than once at a prescribed ratio when a variable display pattern of a "ready-for-win rendering C" is specified from a variable display pattern command.例文帳に追加

第一演出態様決定手段２９５８ａは、変動表示パターンコマンドから「リーチ演出Ｃ」の変動表示パターンが特定された場合に、有効ライン上にリーチ状態が形成されるか否かの変動演出を複数回にわたって順次実行する「ドデカチャンス」演出の演出パターンを所定割合で決定するものである。 - 特許庁

On an image-transferred object 8, a colored patch pattern TK is formed at a position corresponding to an opposed position with respect to detecting means for detecting a toner adhesion amount, and a transparent patch pattern TW is formed in an area in a width direction other than the opposed position in such a manner that an image area ratio in the width direction parallel to the colored patch pattern TK is variable.例文帳に追加

被転写体８においてトナー付着量を検知する検知手段との対向位置に対応する位置に有色パッチパターンＴＫを形成して、その対向位置を除く幅方向の範囲において有色パッチパターンＴＫに並列する幅方向の画像面積率を可変して透明パッチパターンＴＷを形成する。 - 特許庁

Moreover, the ratio of a surface stress value obtained from the stress pattern A to a virtual surface stress value obtained from a line formed by extending the stress pattern B at the inner layer side of the glass to the glass surface is 0.8-0.95; otherwise, the thickness of the compressive stress layer formed by the stress pattern A is 2-15 μm.例文帳に追加

さらに、圧縮応力パターンＡから求められる表面応力値と、ガラス内層側の圧縮応力パターンＢをガラス表面まで延長させたラインから求められる仮の表面応力値との比が０．８以上０．９５以下、又は応力パターンＡによる圧縮応力層厚が２μｍ以上１５μｍ以下の化学強化ガラス。 - 特許庁

This resistor network creation device is provided with, a division part for acquiring data of a wiring pattern including its connecting location information with a via to divide the wiring pattern into rectangular patterns; a division pattern processing part for setting nodes and resistors so that they correspond to the divided rectangular patterns; and an output part for outputting the positions of the set nodes and resistors as information for specifying a resistor network.例文帳に追加

ビアとの接続位置情報を含む配線パターンのデータを取得し、前記配線パターンを矩形パターンに分割する分割部と、分割後の前記矩形パターンに対応するように、ノード及び抵抗を設定する分割パターン処理部と、設定したノード及び抵抗の位置を、抵抗網を特定する情報として出力する出力部と、を具備する。 - 特許庁

This gravure printing plate is made of a pattern image area 2 consisting of ink receiving parts grooved so as to square with an aimed pattern formed on the outer peripheral part of a metal plate main body 1 and resin buffer layers 3 abutting against the board at the pressing of the plate main body to the board formed on the portion except the pattern image area of the outer peripheral part of the plate main body.例文帳に追加

本発明は、金属からなる版本体１の外周部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部２が形成され、版本体の外周部のパターン画線部を除く部分に基板に対する版本体の押し付け時に基板に当接する樹脂製の緩衝層３を形成してなる。 - 特許庁

When the image read section reads a test pattern outputted from an image output section, a paper sheet 300 on which the test pattern image is outputted is set on a platen glass pane 303 of the image read section in a way that a main scanning direction 301 of the image output section at output of the test pattern image is dissident with a main scanning direction 302 of the image read section.例文帳に追加

画像出力部によって出力されたテストパターン画像を画像読取部によって読取る際、テストパターン画像が出力された用紙３００を、テストパターン画像を出力したときの画像出力部の主走査方向３０１と、画像読取部の主走査方向３０２とが一致しないようにして、画像読取部のプラテンガラス３０３上にセットする。 - 特許庁

A pattern 5a on a TAB tape 5 is carried to an inspection section 1 by a tape conveyance mechanism 10, illumination light is applied from a transmission illumination means 1a, the transmitted illumination image of the pattern 5a is imaged by a CCD line sensor 1c, illumination light is applied from a vertical illumination means 1b, and the vertical illumination image from the pattern 5a is imaged.例文帳に追加

テープ搬送機構１０により、ＴＡＢテープ５上のパターン５ａを検査部１に搬送し、透過照明手段１ａから照明光を照射し、ＣＣＤラインセンサ１ｃでパターン５ａの透過照明画像を撮像するとともに、落射照明手段１ｂから照明光を照射し、上記パターン５ａの落射照明画像を撮像する。 - 特許庁

A pattern is formed by a conductor paste 6 on the surface of a laminated body that is formed by laminating the desired number of first green sheets 1 made of glass ceramics pattern-formed by a conductor paste 4, and a second green sheet 5 which is hardly sintered at sintering temperature of the conductor is placed on the surface while the surface of a formed pattern 6 faces the inside of the laminated body.例文帳に追加

導体ペースト４によってパターン形成されたガラスセラミックスからなる第１のグリーンシート１を所望枚積層した積層体表面に、導体ペースト６によってパターン形成されるとともに、導体焼結温度では焼結しない第２のグリーンシート５を、パターン６の形成面が上記積層体内部に向いた状態で表面に配置する。 - 特許庁

A minute pattern resin film 22 is formed on one main surface of a key top body 36 by using a minute pattern forming resin film 20 having properties such that it retains liquid state at ordinary temperature and is cured with light to form a minute pattern (e.g., line width and line interval of 0.1 mm or less) by transfer or others followed by curing by UV irradiation.例文帳に追加

常温下で液状を保持し光を受けて硬化する性質の微細模様形成用樹脂膜２０を用い転写その他により微細模様（線幅及び線間例えば０．１ｍｍ以下）を形成し、ＵＶ光照射により硬化させた微細模様樹脂膜２２を、キートップ本体３６の一方の主表面に形成する。 - 特許庁

When the value in the total reserved memory number counter is at least the previous value in the reserved memory number counter (Step S101C), the CPU determines that the number of reserved memory tends to increase, and selects a variation pattern from a first reduced variation pattern table in which the reduction time is set shorter than in a second reduced variation pattern table (Step S102A).例文帳に追加

合算保留記憶数カウンタの値が前回保留記憶数カウンタの値以上であるとき（ステップＳ１０１Ｃ）、ＣＰＵは、保留記憶数が増え勝手であると判定して、第２短縮変動パターンテーブルより短縮時間が短く設定されている第１短縮変動パターンテーブルから変動パターンを選択する（ステップＳ１０２Ａ）。 - 特許庁

After a conductive pattern layer 11A is formed by etching the first conductive film 11, the third conductive film 13 is subjected to over-etching through the conductive pattern layer 11A as a mask to form an anchor part 15, and a sealing resin layer 22 and the conductive pattern layer 11A are firmly joined together as the sealing resin layer 22 is made to bite into the anchor part 15.例文帳に追加

第１の導電膜１１をエッチングすることにより導電パターン層１１Ａを形成した後に、導電パターン層１１Ａをマスクとして第３の導電膜１３をオーバーエッチングしてアンカー部１５を作り、アンカー部１５に封止樹脂層２２を食い込ませて封止樹脂層２２と導電パターン層１１Ａの結合を強くする。 - 特許庁

To produce a tolerance including deformation by obtaining an amount of deformation from a picked-up image pattern image and by deforming a reference pattern image which is the basis of the tolerance in accordance with the deformation, and to determine breaks and contacts only as abnormal even if there is deformation in an image pickup pattern, in a defect determination operation using a tolerance that allows a high speed operation.例文帳に追加

高速処理が可能な許容範囲を用いた欠陥判定処理で、撮像パターン画像から変形量を求めて、変形に応じて許容範囲の基になる基準パターン画像を変形させることで、変形を含んだ許容範囲を作成し、撮像パターンの変形がある場合でも、断線，接触のみを異常と判定する。 - 特許庁

The optical transmitter and optical receiver are assigned with a code pattern including a predetermined number of wavelengths smaller than the number of wavelengths being used in the entire system in which the combination of wavelength included in that code pattern is different from that of the code pattern of other channel.例文帳に追加

そして、同一チャネルの光送信装置及び光受信装置に対し、システム全体で使用する波長数より少ない所定数の波長を含む符号パターンであって、当該符号パターンに含まれている波長の組み合わせが、他チャネルの符号パターンの波長組み合わせと異なっている符号パターンを割り当てていることを特徴とする。 - 特許庁

The inspecting pattern corresponding to an individual wiring board with defects in an inner layer circuit has a configuration wherein a resistance value between the conductive pattern and the conductor is varied to indicate the presence of defects in the corresponding individual wiring board by the resistance value of the pattern.例文帳に追加

検査パターンは、各層の導電パターンおよび各層の導電パターンを電気的に接続する導電体からなり、内層回路に不良を有する個別配線板に対応した検査パターンは、その導電パターンと導電体の間の抵抗値を変化させ、パターンの抵抗値により対応する個別配線板の不良の有無を示す構成を有している。 - 特許庁

This invention includes a step of etching the object to be processed using the resist pattern as a mask, a step of irradiating the resist pattern through a photomask with light within a photosensitive wavelength region of the photosensitizer, and a step of removing the resist pattern on the object to be processed.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The pattern processing paper includes a base layer and a pattern layer which is scattered on the surface of this base layer, where the base layer has natural pulp fibers, rayon fiber and binder and the pattern layer has rayon fiber aggregate and binder, and contains inorganic particles having a Mohs hardness of 3 to 6 in the base layer.例文帳に追加

本発明は、ベース層と、このベース層の表面に散在する模様層とを備え、上記ベース層が、天然パルプ繊維とレーヨン繊維とバインダーとを有し、上記模様層が、レーヨン繊維凝集体とバインダーとを有する模様加工紙であって、上記ベース層に、モース硬度が３以上６以下の無機粒子を含有することを特徴とする模様加工紙である。 - 特許庁

To provide an optical unit for a vehicle headlight can make light intensity of a prescribed region within a prescribed light distribution pattern formed by superimposing an additional light distribution pattern formed by one of the reflecting surfaces on a basic light distribution pattern formed by the other lower than light intensity around the prescribed region.例文帳に追加

一方の反射面により形成される基本配光パターンに他方の反射面により形成される付加配光パターンを重畳させることにより形成される所定配光パターン中の所定領域の光度を、該所定領域周囲の光度よりも低下させることが可能な車両前照灯用光学ユニットを提供する。 - 特許庁

The GPU 15 specifies a shape of a diagram being a plotting object, and selects a kind of interleave pattern adapted to the specified diagram shape, and sets so that the same pattern does not overlap in the interleave patterns even when any kind of interleave pattern is selected in the picture element areas designated by the frame buffer 18.例文帳に追加

ＧＰＵ１５は、描画対象となる図形の形状を特定し、特定された図形の形状に適合するインターリーブパターンの種類を選定するとともに、フレームバッファ１８で指定される画素領域が、どの種類のインターリーブパターンが選定された場合であっても当該インターリーブターン内で同一のものが重複しないように設定する。 - 特許庁

The personal computer 40 reads the selling price of the Sushi from the ID tag when the image recognizing device 42 recognizes the plate on the basis of the recognized image pattern to compare a standard pattern of the Sushi corresponding to the selling price with the recognized image pattern to judge a topping ingredient of the Sushi to write judged topping information in the ID tag.例文帳に追加

パソコン４０は、画像認識装置４２が認識した画像パターンに基づいて皿を認識したときは、ＩＤタグからすしの販売価格を読取り、その販売価格に対応したすしの標準パターンと認識した画像パターンとを比較することによりすしのネタを判断すると共に、判断したネタ情報をＩＤタグに書込む。 - 特許庁

At this time, the substrate S is etched with an ion beam, while controlling the tilt angle of the substrate so that the incident direction of the beam at the previously-found position on the element becomes parallel to a pattern sidewall for obtaining a pattern for the optical element having the pattern sidewall parallel with respect to the incident beam to the element.例文帳に追加

このとき、先に求めた回折光学素子上の任意の位置における光線の入射方向とパターン側壁とが平行になるように、基板Ｓのチルト角度を制御しながらイオンビームエッチングを行うことにより、回折光学素子に対する入射光線と回折光学素子パターン側壁が平行な回折光学素子用パターンを得る。 - 特許庁

An element isolation region is formed in a boundary of the element isolation region by forming a dielectric pattern locally in a boundary of an element region and carrying out etching using the dielectric pattern as a mask, and thereafter a semiconductor film is formed in an element region adjacent to the element isolation region by selective growth using the dielectric pattern as a mask.例文帳に追加

誘電体パターンを素子領域の境界部に局所的に形成し、前記誘電体パターンをマスクにエッチングを行うことで素子分離領域を前記素子領域の境界部に形成し、その後、前記素子分離領域に隣接する素子領域に半導体膜の成膜を、前記誘電体パターンをマスクとした選択成長によりに実行する。 - 特許庁

The method for film forming the organic semiconductor layer comprises the steps of forming an electrically-charged region having the desired pattern on a substrate, and making the electrically-charged region that has the desired pattern absorb the organic semiconductor material, by making the formed electrically-charged region, having the intended pattern contact an organic semiconductor material solution.例文帳に追加

基板の上に所望のパターンの帯電領域を形成する帯電領域形成工程と、形成された所望のパターンの帯電領域を有機半導体材料の溶液に接触させて、該有機半導体材料を該所望のパターンの帯電領域に吸着させる工程と、を含むことを特徴とする有機半導体層の成膜方法。 - 特許庁

The method for forming a metallic pattern 10 is characterized by irradiating infrared laser 8, under vacuum, at a laminated body 1 for forming a metal pattern including a photothermal conversion layer 3 and a metal transfer layer 4, evaporating the metal transfer layer in a region 9 where the infrared laser has been irradiated, and forming a metal pattern on a contactless transferred body 5.例文帳に追加

光熱変換層３と金属転写層４とを有する金属パターン形成用積層体１に真空下で赤外レーザー８を照射し、該赤外レーザーを照射した領域９の金属転写層を蒸発させて、非接触の被転写体５の上に金属パターンを形成することを特徴とする金属パターン１０の形成方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

Second higher harmonics are generated by performing wavelength conversion by a nonlinear effect of a nonlinear element by irradiating an antenna pattern with pulse light at a state wherein bias voltage is applied on the antenna pattern by arranging the nonlinear element on the antenna pattern formed on the surface of a substrate and the terahert waves are generated by operating an optical switch by the second higher harmonics.例文帳に追加

基板の表面に形成されたアンテナパターンの上に、非線形素子を配置してバイアス電圧を印加した状態で、アンテナパターンにパルス光を照射することで、非線形素子の非線形効果による波長変換を行なって第２高調波を発生し、その第２高調波で光スイッチを動作させることによってテラヘルツ波を発生させる。 - 特許庁

The electrode structure 10 of the parallel MOSFET circuit can secure the area (the mounting area of parts) for mounting the parts such as the other circuit for the whole area of the printed circuit board 4 and an area (the formation area of a pattern) for forming the pattern, can widen the width of the pattern, and is suitable for high density as a product.例文帳に追加

本発明の並列ＭＯＳＦＥＴ回路の電極構造１０では、プリント基板４の全領域に対して他の回路のような部品を実装するための領域（部品の実装領域）、パターンを形成する領域（パターンの形成領域）が確保できる上にパターンの幅も広くでき、製品としての高密度化に適している。 - 特許庁

A designated background pattern and a composite pattern are outputted as a reference print, and after an image for composition and a composite position are designated using the reference print, and the image for composition and composition position are extracted by reading the reference print, and a composite image is prepared by using the original image of the pattern using extracted information.例文帳に追加

指定された背景パターンおよび合成パターンを参照プリントとして出力し、前記参照プリント用いた合成用画像および合成位置の指定の後、参照プリントを読み取って合成用画像および合成位置を抽出し、この抽出情報を用いて、パターンのオリジナル画像を用いて合成画像を作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having sensitivity to active light rays such as far-ultraviolet light represented by an ArF excimer laser, for example, superior in the flatness of a pattern surface without impairing fundamental material properties such as transparency to radiation, sensitivity, a resolution, and a pattern shape, and useful as a chemical amplification type resist which is improved against pattern collapse on a substrate.例文帳に追加

活性光線、例えばＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応し、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The design sheet 1 having the metallic-luster-finished window frame pattern includes: a metallic-luster-finished design layer 30 formed from a window frame pattern 3 on a transparent substrate sheet 7 and including at least one high refractive dielectric layer 10; and a concealing layer 40 formed so as to match the window frame pattern 3 of the metallic-luster-finished design layer 30.例文帳に追加

金属光沢調窓枠柄を有する意匠シート１は、透明な基体シート７上に窓枠パターン３で形成され、少なくとも１層の高屈折誘電体層１０を含む金属光沢調意匠層３０と、前記金属光沢調意匠層３０の窓枠パターン３と同調するように形成された隠蔽層４０と、を備えている。 - 特許庁

Then, an insulating film 7 mainly composed of polyester plastic is formed on the coil pattern 4c existent between the terminal part 4b and the outside terminal of the coil pattern 4c with the screen printing means and afterwards, a jumper 4e for connecting the terminal part 4b and the outside terminal of the coil pattern 4c is formed on the insulating film 7 with screen printing means.例文帳に追加

そして、終端部４ｂとコイルパターン４ｃの外側終端との間に存在するコイルパターン４ｃ上にポリエステル系プラスチックを主成分にした絶縁膜７をスクリーン印刷手段によって形成し、その後、絶縁膜７上に終端部４ｂとコイルパターン４ｃの外側終端とを接続するジャンパ４ｅをスクリーン印刷手段によって形成する。 - 特許庁

The method for forming a photoresist pattern includes steps of irradiating a photoresist structure 12 which includes an antireflection film 14 on a base 13 and a resist pattern 16 comprising a chemically amplified photoresist in contact with the antireflection film and on the antireflection film, with energy rays, and then heating the photoresist structure at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature and lower than the melting point of the resist pattern.例文帳に追加

下地１３上の反射防止膜１４と、反射防止膜と接触し、かつ反射防止膜上の化学増幅フォトレジストからなるレジストパターン１６とを含むフォトレジスト構造体１２に、エネルギー線を照射し、その後、フォトレジスト構造体を、レジストパターンのガラス転移点以上かつ融点未満の加熱温度で加熱する - 特許庁

The components of a control circuit protected by a protection part 37 are mounted on the multi- layer circuit board 30, and the connections are generated by middle layer pattern wirings 33 and 34, obverse surface pattern wiring 35, and rear surface pattern wiring 36, wherein the layers of the multi-layer wiring board 30 are connected by interstitial via holes 39 and bias holes 40.例文帳に追加

保護部３７によって保護される制御回路の各部品は、多層プリント配線板３０に搭載され、各部品は、中層パターン配線３３，３４、表面パターン配線３５、裏面パターン配線３６の各パターン配線により接続され、多層プリント配線板３０の各層は、インタスティシャルバイアホール３９、バイアホール４０により接続されるパターン配線構造とする。 - 特許庁

To provide a pinball game machine generating the capability of making a player continuously do a pinball game machine enhancing the Interest of the game by making the player positively participate during the progress of the game to raise expecting feeling to the game and making it possible to change symbols constituting a probability valuable pattern and the pattern constituting a non-probability valuable pattern.例文帳に追加

遊技者を積極的に遊技の進行に参加させることにより、遊技への期待感を高めるとともに、確変図柄を構成する図柄や非確変図柄を構成する図柄を変更可能にすることで、遊技の面白みを増やして遊技者に弾球遊技を継続して行わせ得る可能性が生ずる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

The current pattern data of a power supply body 10 controlled based on a signal which a current pattern generator 1 receiving the input of a signal from a current pattern control device 20 outputs is created as reference data stored in a reference data memory unit 5 and a predetermined constant stored in a constant register 4 are read and multiplied with each other.例文帳に追加

電流パターン制御装置２０からの信号を入力する電流パターン発生器１の出力する信号を基に、制御される電源本体１０の電流パターンデータが、基準データメモリ部５に格納されている基準データと、定数レジスタ４に格納されている所定の定数が読み出され乗算されることによって作成される。 - 特許庁

First, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 for respectively displaying the variable patterns are provided in a pattern display device 35, and the first, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 can be slidably driven in a vertical direction respectively by a sliding mechanism and first, second and third actuators M1, M2 and M3.例文帳に追加

図柄表示装置３５にあって、変動図柄をそれぞれ表示する第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３を設け、それら第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３をスライド機構と第１、第２、及び第３アクチュエータＭ１，Ｍ２，Ｍ３とによってそれぞれ上下方向にスライド駆動可能に構成する。 - 特許庁

The integrated circuit chip 10 comprises a semiconductor substrate 11 having cell regions A_cell1, A_cell2 and a peripheral region A_peri, a chip pad wiring pattern 12 formed on the substrate 11, a protective film 16 covering the pattern 12, and relocated chip pads 17 connected to the pattern 12 and formed on the regions A_cell1, A_cell2.例文帳に追加

集積回路チップ１０は、セル領域Ａ_cell1、Ａ_cell2と周辺領域Ａ__periを有する半導体基板１１と、半導体基板１１上に形成されたチップパッド配線パターン１２と、チップパッド配線パターン１２を覆う保護膜１６と、チップパッド配線パターン１２と接続されセル領域Ａ_cell1、Ａ_cell2上に形成された再配置チップパッド１７とを備える。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁