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process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7866件
To control all functions of an image processing device with a single control means, to share a memory module with a plurality of functions, and to share the extraction of a specific area in a document and an image process for an image signal in the specific area.例文帳に追加
単一の制御手段により画像処理装置の全機能を制御するとともに、メモリー・モジュールを複数の機能で共有し、さらに原稿内の特定領域の抽出とその特定領域の画像信号に対する画像処理とを分担しておこなうこと。 - 特許庁
To provide a plastic optical element which is excellent in transparency and maintains its characteristics in a production process including heat treatment and in various use environments, and to provide a method for manufacturing electronic equipment which executes reflow processing using the plastic optical element.例文帳に追加
本発明の目的は、透明性に優れ、且つ高温処理を伴う製造工程や様々な使用環境において、その特性を維持することができるプラスチック光学素子、及びそれを用いたリフロー処理を行う電子機器の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
This device is an improved model of the waveform measuring device, with a pointing apparatus provided with a menu processing part for performing the process, corresponding to the item chosen sequentially from the menu of two or more hierarchies, displayed on a display screen by a pointing device.例文帳に追加
本発明は、表示画面に表示される複数階層のメニューからポインティングデバイスが順次選択し、ポインティングデバイスが選択した項目に対応する処理を行うメニュー処理部を有するポインティングデバイス付き波形測定装置に改良を加えたものである。 - 特許庁
The clearance measurement system 12 also includes a processing unit 198 constituted to process the first and second signals, based on a measurement difference between the first and second sensed parameters, for the purpose of estimating the clearance between the first and second objects 14, 16.例文帳に追加
クリアランス測定システム(12)はまた、第1と第2の物体(14、16)の間のクリアランスを推定するために、第1および第2の感知パラメータの間の測定差に基づいて、第1および第2の信号を処理するように構成された処理ユニット(198)を含む。 - 特許庁
To provide aliphatic polyester-based conjugate fibers having excellent mechanical properties, heat resistance and wear resistance, therefore excellent in the process passableness in its yarn manufacturing and fabric manufacturing including yarn processing, warping and weaving, and also affording high wear resistance as a product.例文帳に追加
本発明は、優れた力学特性、耐熱性、耐摩耗性を有することで、製糸や糸加工、整経、製織等の製布での工程通過性に優れるとともに、製品としても優れた耐摩耗性を有する脂肪族ポリエステル系の複合繊維を提供するものである。 - 特許庁
In the video signal processing device that generates an interpolation frame interpolating between original-image frames formed by an existing video signal, an interpolation frame generation unit generates interpolation pixel generation information indicating a process in which a pixel forming the interpolation frame is generated, for each pixel.例文帳に追加
実在の映像信号で形成される原画フレーム間を補間する補間フレームを生成する映像信号処理装置であって、まず、補間フレーム生成部が、補間フレームを形成する画素が生成された過程を画素ごとに示す補間画素生成情報を生成する。 - 特許庁
Thereby, since a process for creating the density data (CMYK) corresponding to a plurality of relative movement (or a plurality of recording element groups) can be performed in a lump from the input image data, the increase of the load and the time of data processing can be suppressed.例文帳に追加
これにより、入力画像データから、複数の相対移動(あるいは複数の記録素子群)に対応する濃度データ(CMYK)を生成する工程を一括して行うことが出来るので、データ処理の負荷および処理時間の増大を抑制することができる。 - 特許庁
In a die structure design process following the layout design, a parameter input related to a plurality of components arranged in a temporary die structure is performed, and the deformation processing of the shapes of the components is performed, and the final press die is displayed in the form of a drawing.例文帳に追加
そしてレイアウト設計工程に続く型構造設計工程では、仮の型構造内に配置された複数の部品に関するパラメータ入力を行って当該部品の形状の変形処理を行って最終的なプレス金型を図面化して表示する。 - 特許庁
To provide an onboard multiple application execution apparatus guaranteeing the operation of a plurality of applications without impairing a real time property with a limited processing capability, and of securing safety while maintaining convenience by keeping a cancellation process from occurring.例文帳に追加
限られた処理能力のなかでリアルタイム性を損なうことなく複数のアプリケーションの動作保証を図り、打ち切り処理の発生を抑制することで利便性を保ちつつも安全性を確保することができる車載用マルチアプリ実行装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method and a program for rim roll forming analysis simulation capable of performing the analysis processing of the deformation mode in a short time while maintaining the desired analysis accuracy in a rim roll forming process of forming a wheel rim of a vehicle wheel.例文帳に追加
車両用ホイールのホイールリムを成形するリムロール成形過程で、その変形態様を、所望の解析精度を維持しつつ、短時間で解析処理することができるリムロール成形解析シミュレーション方法及びリムロール成形解析シミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁
The data processing device couples the photosensing device, and continuously processes and analyzes the signal detected by the photosensing device, and further momentarily calculates the thickness change of the cake layer on the at least one local plane during the filtration process.例文帳に追加
前記データ処理装置は前記光感知装置を接続し、前記光感知装置から検出され前記信号を連続的に処理と分析する、さらにすぐにこの膜濾過工程中に少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を算出する。 - 特許庁
Thereafter, when notification that the recipient has extracted the document by the device of the transmission destination is not received within a period of validity, the communication control section 36 performs the same process again and retransmits the document to the image processing device located in the vicinity of the recipient at that time.例文帳に追加
その後、通信制御部36は、送信先の装置で受取人が文書を取り出した旨の通知を有効期限内に受信しなければ、再び同じ処理を行い、その時点で受取人の近くにある画像処理装置に文書を再送する。 - 特許庁
To provide a processing apparatus for the drum type workpiece which is simple in structure but can process the spline after correcting the circumferential wall section so that the spline diameter of the circumferential wall section of the drum type workpiece reaches a predetermined value.例文帳に追加
本発明の課題は、簡単な構造でありながら、ドラム形状のワークの周壁部のスプラインの直径が所定値になるように周壁部を矯正した後に、スプラインに加工を施すことのできるドラム形状ワークの加工装置を提供することである。 - 特許庁
The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample.例文帳に追加
同一真空装置に集束イオンビーム光学系31と電子ビーム光学系41を備え、ウェーハ21の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ72を備えた。 - 特許庁
When a crack reaching the surface processing indentation 11a and the internal crack 12c is formed in a process for dicing the silicon substrate 10 into element chips 10a by an external force, detection of a separated/unseparated part and redicing of a unseparated part are performed for the element chip.例文帳に追加
外力によってシリコン基板10を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕11aと内部亀裂12cとに至る亀裂を形成する際に、素子チップ10aについての分離/未分離部分の検出、未分離部分の再割断を行う。 - 特許庁
To prevent the generation of deficiency such that rule cracking is developed when a strong rule is applied to a corrugated cardboard sheet at once by the creaser of a corrugated cardboard sheet box making machine and, if a rule not developing rule cracking is appalied, bending deficiency is generated in the bending processing of a downstream process.例文帳に追加
段ボールシート製函機のクリーザで段ボールシートに対して一度に強い罫線を付与すると罫割れが生じ、罫割れが生じないような罫線の付与では下流工程の折り曲げ加工で折り曲げ不良が生じていたが、これらの不良発生を防止する。 - 特許庁
The three dimensional processing section 30 carries out the three dimensional process to the menus M1, M2 which are arranged in the first and the second images G1, G2 to provide a parallax Db which is greater than the parallax Dmax which has the greatest three dimensional effect in the reference region.例文帳に追加
3次元処理部30は、基準領域内において最も立体感が大きい画素の視差Dmaxよりも大きい視差Dbを有するように、第1および第2の画像G1,G2に配置するメニューM1,M2に3次元処理を行う。 - 特許庁
To provide a liquid application method by which a process for applying a liquid such as flux to a substrate is simplified and the failure attributed to liquid application is eliminated and the uniform coating of even a warped substrate is achieved without necessitating the precision of a jig to be used for coating and processing accuracy.例文帳に追加
フラックス等の液体の基板への塗布工程を簡素化し、液体塗布が原因の不良をなくし、塗布に使用する治具の部品精度、加工精度を必要とせず、反りのある基板に対しても均一に塗布が可能な液体塗布方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process liquid for a waterless planographic printing plate, the liquid suppressing decrease in developing property and peeling of an ink repelling layer due to changes in an amino compound content and stably processing any type of positive or direct-drawing waterless planographic printing plates for a long period of time.例文帳に追加
アミノ化合物の含有量の変動による現像性の低下、インキ反発層剥離を抑制し、ポジ型、直描型水なし平版印刷版のいずれをも長期間安定して処理することができる水なし平版印刷版用処理液を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an RFID tag for reducing a material cost and a processing cost, and furthermore, reducing a cost of a whole of RFID manufacturing as much as possible by employing a process for continuously mounting semiconductor elements onto a manufactured circuit.例文帳に追加
材料費および加工費を低減させ、またこれに加えて、製造された回路に半導体素子を連続的に実装しうるプロセスとすることにより、RFID製造全体にかかるコストをできるだけ低減するRFIDの製造方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, as the surface of the orientation film 15 draws gently-sloping inclination at the parts where the spacers present, the uniform orientation treatment of the whole parts including the parts where the spacers are present can be carried out in a process for performing orientation processing to the orientation film 15.例文帳に追加
これにより、配向膜15の表面がスペーサ21が存在する箇所においてなだらかな傾斜を描くので、配向膜15に配向処理を行う工程において、スペーサ21が存在する部分を含めて全体に均一に配向処理を行うことができる。 - 特許庁
It possible to photograph a microscopic image at high speed, makes it unnecessary to open and process many image files when browsing by storing the image data in one file, and eliminates need of a large capacity memory, thereby achieving high-speed processing or display.例文帳に追加
本発明によれば、顕微鏡画像を高速に撮影することが可能であり、画像データを1つのファイルに格納することによって閲覧時に多数の画像ファイルを開いて処理する必要がなく、多量のメモリも不要で、高速に処理や表示ができる。 - 特許庁
In the color filter for the display device, having a color filter layer constituted by performing heat-treatment on the plastic film, the plastic film is made of crosslinking resin and heated at temperature of heat-processing temperature of the color filter layer or more, prior to the formation process of the color filter layer.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に加熱処理してなるカラーフィルタ層を有する表示装置用カラーフィルタにおいて、プラスチックフィルムが架橋性樹脂からなり、かつカラーフィルタ層の形成工程より先にカラーフィルタ層の加熱処理温度以上の温度で加熱されている - 特許庁
To provide a method for improving qualities of foods, capable of forming active water showing an effectively physiological effect on animals and plants by a simple process, and restoring damage to cells, or the like, of various foods received during their processing or washing by using the active water.例文帳に追加
動植物に対し、有効な生理作用を示す活性水を簡単な方法で生成させ、これを利用して、各種食料品が加工中又は洗浄中に受けた細胞等の損傷を修復して品質を向上させることを目的とする。 - 特許庁
To provide a digital still camera which can realize reduction of power consumption and processing time required for exposure compensating process and focusing provided without deteriorating the quality of display image, during liquid-crystal display of images of subjects during the zooming drive.例文帳に追加
本発明の課題は、ズーム駆動中に被写体の撮像画像を液晶表示する際、表示画面の見栄えを悪くすることなく、露出補正処理、及びフォーカス処理に要する消費電力や処理時間の低減化が可能なデジタルスチルカメラを提供することである。 - 特許庁
To enhance the efficiency of data processing and the availability for users when a distributing content and a distributing time for digital content are set, and also implement the excellent user's operability for the digital content or the advertisement, and an efficient distributing process in accordance with a terminal position and the likes.例文帳に追加
デジタルコンテンツの配信内容や配信時刻の設定に際してのデータ処理効率やユーザ利便性を向上させ、また、携帯端末の位置等に応じた効率的配信処理や、デジタルコンテンツや広告に対する優れたユーザ操作性を実現可能とする。 - 特許庁
The image adjustment processing unit executes a process for restraining signal intensity to pixels each having a value below the threshold that determined from the standard deviation of the signal intensity of each image signal of a high-frequency band component out of the image signals obtained by the biorthogonal wavelet conversion and the binominal wavelet conversion.例文帳に追加
そして、双直交ウェーブレット変換及び二項ウェーブレット変換で得られた画像信号のうち、高周波帯域成分の画像信号の信号強度の標準偏差から決定された閾値以下の画素に対して、信号強度を抑制する処理を行う。 - 特許庁
As for the method of production, e.g. in the case of using the d-limonene and polystyrene as the raw materials of the molding materials, a process of mixing the d-limonene with the polystyrene, distilling the mixture to distil off the d-limonene and then mold-processing the residual mixture, etc., is provided.例文帳に追加
製造方法としては、例えば、d−リモネン、成形体原料としてポリスチレンを使用した場合、d−リモネンおよびポリスチレンを混合した後、その混合物を蒸留し、d−リモネンを留出した後、残った混合物を成形加工する方法などがある。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus which can improve yield by displaying existence or non-existence of a wafer in relation to a process progress of the wafer to precisely inform an operator of a processing state of wafers to avoid disposal of nondefective products even when the device stops.例文帳に追加
ウエハの有無と、ウエハのプロセス進捗状況とを対応させて表示し、装置が停止した場合にも、操作者にウエハの処理状況を正確に知らせて、良品を廃棄するのを防ぎ、歩留りを向上させることができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To well dry a substrate surface while preventing a watermark from occurring on the substrate surface in an apparatus and a method of processing the substrate for drying the substrate surface wetted with a process liquid by means of a solvent with low surface tension such as IPA.例文帳に追加
処理液で濡れた基板表面をIPAなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生するのを防止しながら基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁
An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加
あるいは、CMPで研磨するSiO_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を2回に低減する。 - 特許庁
By providing a processing software for executing the post-encoding process only to the second production person 108 with a predetermined printing technique level targeted by the first production person 100, an printing operation with the optimum encoded image quality can be enabled.例文帳に追加
このポストエンコード処理を実施するための処理ソフトウェアは、第一制作担当者100が意図する所定の印刷技術レベルを備えた第二制作担当者108にのみ用意しておくことで、最適な符号化画像の品質を保って印刷することが可能になる。 - 特許庁
To obtain cellulosic fiber dyeable with a a cationic dye which develops dyeing having resistance to wet-heat treatment even in a processing process adopting the wet-heat treatment.例文帳に追加
湿熱処理に耐性のある染色発現を達成する、すなわち湿熱処理を採用する加工工程を行っても実用上満足できるカチオン染料染色特性および染色濃度を有するカチオン染料可染性セルロース系繊維及びその織編物を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing device comprising a sucking device wherein a semiconductor substrate can be pre-heated to a high temperature, with a sucking device excellent in response in temperature control, for an excellent process with a semiconductor substrate.例文帳に追加
吸着装置を用いた半導体処理装置において、半導体基板を高温に予備加熱することが可能であり,温度制御の応答性の良い吸着装置を備え,半導体基板に優れた処理を行うことを可能とする半導体処理装置を提供する。 - 特許庁
Whether or not to preserve processed data generated in a work flow is judged according to data inputted in an input process, and the performance of the workflow including preservation processing and the performance of the workflow without preservation are switched according to the judged result.例文帳に追加
入力工程にて入力されたデータに従って、ワークフローにて生成された処理済みデータを保存するか否かを判定し、当該判定結果に従って、保存処理を含むワークフローを実行するか、保存することなくワークフローを実行するかを切り替える。 - 特許庁
The communication navigation terminal T has a processing means 10 which statistically analyzes map data of a user's moving area from information on movement trajectory, and executes a process for dynamically altering the map data of the initial moving area based on the information on movement trajectory.例文帳に追加
通信ナビゲーション端末装置Tにおいて、ユーザの行動範囲の地図データを移動軌跡情報から統計解析すると共に、この統計解析結果に基づいて初期の行動範囲の地図データを動的に変更する処理を実行する処理手段10を備えた。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for manufacturing a satisfactorily qualified polysilicon film on a substrate in the process for manufacturing semiconductor by continuously generating uniform plasma under the pressure in the vicinity of atmospheric pressure and processing the substrate by the plasma.例文帳に追加
半導体素子の製造工程におけるポリ−Si膜の製造において、大気圧近傍の圧力下で均一なプラズマを継続して発生させ、基材を該プラズマで処理して、基材上に良質のポリ−Si膜を製造する方法及びその装置の提供。 - 特許庁
Each of a plurality of liquid materials is supplied in the equal flow rate, thereby mixing the liquid materials in a mixing ratio to provide the required predetermined ratio for the process in the amount of substances of a plurality of materials to be supplied to a processing chamber 22 per unit time.例文帳に追加
複数の液体材料の各々は、等しい流量で供給されることにより、単位時間当たりに処理室22に供給する複数の材料の物質量が処理に要求される所定の比率となるような混合比で混合される。 - 特許庁
Each processor can thus process the processes for applying the image effects in divided image signal field units, so that the plurality of processors can be used efficiently to increase the throughput of the entire image generation processing.例文帳に追加
こうすると、各プロセッサにおいて画像効果を適用する処理を画像信号のフィールド単位に分割して処理することができるようになることから、複数のプロセッサを効率的に活用でき、画像生成処理全体のスループットを向上することができるようになる。 - 特許庁
A zero run processing section 7 for a process of counting zero coefficients is provided not in a Huffman encoding section 5 but before the Huffman encoding section 5, the zero coefficients are processed before Huffman encoding and the Huffman encoding section 5 processes non-zero coefficients and a zero run length only.例文帳に追加
ゼロ係数をカウントする処理を行なうゼロラン処理部7を、ハフマン符号化部5の中ではなく、ハフマン符号化部5の前に設け、ゼロ係数の処理をハフマン符号化の前に行ない、ハフマン符号化部5では、非ゼロの係数とゼロランレングスのみを処理する。 - 特許庁
A magnesium diboride compound sheath superconducting wire is produced by containing MgB_2 into a compound metal tube formed with at least two different metal tubes, and performing the process of a cross sectional area reduction until a processing degree exceeds 99%.例文帳に追加
少なくとも2種の異なる種類の金属管を組み合わせた複合金属管から形成される複合シース中にニホウ化マグネシウムが内包された複合シースニホウ化マグネシウム超電導線材であって、加工度99%以上になるまで減面加工されたものである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a magnetic recording medium in which a shape processing on a master disk for transfer, for separation of an adherend, is not needed, a magnetic recording medium can be easily separated without being damaged in a separation process, and which enables efficient mass production without making an apparatus larger.例文帳に追加
転写用原盤に密着体分離のための形状加工を施すことなく、分離工程において磁気記録媒体を傷つけることなく容易に分離することができ、しかも、装置を大型化させることなく効率よく量産できること。 - 特許庁
Also the method for producing a planographic printing plate including at least a step to expose a photosensitive planographic printing plate equipped with a photosensitive layer on a hydrophilic support, and subsequently a developing step to process the photosensitive layer with the processing liquid for developing is provided.例文帳に追加
また、親水性支持体上に感光層を備える感光性平版印刷版を露光する工程と、その後、該感光層を上記現像用処理液で処理する現像工程とを少なくとも含んでなる平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
The information input/output device applies a comparison process respectively using a threshold Sf for detecting an object in the vicinity of an input screen and a threshold Sh lower than the threshold Sf to shot image data D0 of a proximity object in an image processing part.例文帳に追加
情報入出力装置は、画像処理部において、近接物体の撮像画像データD0に対し、入力画面近傍における物体を検出するための閾値Sfと、この閾値Sfよりも低い閾値Shとをそれぞれ用いた比較処理を施す。 - 特許庁
The metallic film pattern is formed through such a process that the mold 5 is detached from the cured resin 4', a cured resin 4" remaining as residue on an area on which the metallic film is to be formed is removed, thereafter, the metallic film 11 is formed through electroforming processing and the cured resin 4' made unnecessary thereafter is removed.例文帳に追加
硬化樹脂4´よりモールド5を取り外し、金属膜を形成する領域の残渣の硬化樹脂4´´を除去後、電鋳処理を経て金属膜11を形成し、その後不要となった硬化樹脂4´を除去する工程を経て形成される。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which expands the range of a realizable variable power rate by setting the process speed of image reproduction in accordance with a variable power rate and also accelerates the processing speed of image reproduction within the allowable range of a scanner scanning speed.例文帳に追加
変倍率に対応して画像再生のプロセス速度を設定することにより、実現可能な変倍率の範囲を拡大するとともに、スキャナの走査速度の許容範囲内で画像再生の処理速度を高速化する画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The detection region 121, the slab type spectroscopic part 108, the light detection part 111, and the control circuit 114 are formed in one and the same manufacturing process by a heretofore known silicon processing technology, a light source 105 and the power source part are easily integrated by mounting.例文帳に追加
検出領域121,スラブ型分光部108,光検出部111、制御回路114は、公知のシリコン加工技術により同一の製造課程で形成可能であり、光源105や電源部は、装着することで一体化することが容易である。 - 特許庁
To form a deposited film with uniform thickness and quality and few defect on a substrate with a large area at a high processing speed in a process for fabricating a semiconductor device wherein the deposited film is formed on the substrate by plasmanizing a raw material gas by high-frequency power.例文帳に追加
高周波電力によって原料ガスをプラズマ化し、基体上に堆積膜を形成する、半導体装置の製造方法において、高速な処理速度で大面積の基体上に、膜厚、膜質共に均一で欠陥の少ない堆積膜を形成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an epitaxial silicon wafer, in which the polishing process is simplified, thereby the productivity is enhanced and the cost is reduced, the density of LPD (light point defects) generated on the surface of a mirror-polished wafer caused by processing is reduced, and the surface roughness of the surface of the wafer is improved.例文帳に追加
研磨工程の簡略化で生産性が高まり、コストダウンが可能で、鏡面研磨されたウェーハ表面に生じる加工起因のLPDの密度を低減し、ウェーハ表面の表面粗さを改善可能なエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
To select an implementation system for synchronously inputting and processing results of a plurality of preceding processes having mutually asynchronous relationship by one subsequent process from a plurality of implementation systems, and to automatically implement the selected implementation system in a reconfigurable circuit.例文帳に追加
互いに非同期の関係にある複数の前段処理の処理結果を1つの後段処理が同期的に入力して処理するための実装方式を、複数の実装方式の中から選択して自動的に再構成可能回路に実装できるようにする。 - 特許庁
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