「processing process」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for processing eggs based on the gender includes the process of identifying live eggs from a plurality of eggs, the process of extracting a content from each of the eggs identified as live eggs, the process of examining the extracted content from each of the eggs and identifying the gender of the eggs, and the process of injecting a vaccine selectively into the live eggs based on the gender.例文帳に追加

性別に基づいて卵を処理する方法において、複数の卵から生存卵を識別する工程と、生存卵として識別された卵から内容物を抽出する工程と、各卵から識別された内容物を検査し、卵の性別を識別する工程と、性別に基づいて生存卵にワクチンを選択的に注射する工程とを含むようにした。 - 特許庁

This method for processing eggs based upon characteristics such as genders comprises a process for identifying live eggs from a plurality of eggs, a process for extracting contents from the eggs identified as the live eggs, a process for examining the contents identified from the eggs to identify the genders of the eggs, and a process for selectively injecting a vaccine into the live eggs on the basis of the genders.例文帳に追加

性別に基づいて卵を処理する方法において、複数の卵から生存卵を識別する工程と、生存卵として識別された卵から内容物を抽出する工程と、各卵から識別された内容物を検査し、卵の性別を識別する工程と、性別に基づいて生存卵にワクチンを選択的に注射する工程とを含むようにした。 - 特許庁

A resin molded product producing method includes a process for transferring a resin sheet 1 in a constant direction, a process for the molding processing of the transferred resin sheet 1, a process for cutting the molded resin sheet 1 to separate the same into a resin molded products 7 possible to laminate and a process for laminating the resin molded products.例文帳に追加

本発明の樹脂成形品製造方法は、樹脂シート１を一定方向に移送する工程と、移送される樹脂シート１を成形加工する工程、成形加工される樹脂シート１を切断して積層可能な複数の樹脂成形品７に分離する工程、樹脂成形品７にＸ線を照射する工程、樹脂成形品７を積層する工程を含む。 - 特許庁

To generate electric power in response to quantity of surplus steam varying by a steam quantity supplied to a steam process line, in a process steam-using facility having a steam process line for supplying steam generated by a boiler for a predetermined processing and a surplus steam line for sending the surplus steam not supplied to the steam process line, and a power generation device interposed in the surplus steam line.例文帳に追加

ボイラ等で発生した蒸気を所定のプロセスのために供給する蒸気プロセスラインと、蒸気プロセスラインに供給されなかった余剰蒸気を送気する余剰蒸気ラインとを有し、余剰蒸気ラインに発電装置が介設されたプロセス蒸気利用設備において、蒸気プロセスラインに供給される蒸気量によって変化する余剰蒸気の量に応じた発電ができる。 - 特許庁

Data processing is performed by a work station connected with a data center through a network in a process in which an additive is automatically prepared and poured simultaneously when supplying liquid fuel to calculate actual running fuel economy by equipment as a first process and a process in which the inspection of exhaust gas component and the measurement of fixed speed fuel economy are performed to obtain data as a second process.例文帳に追加

個別車両に対し、第一工程として機器類による、液体燃料の給油と同時に添加剤を自動調合注入して実走行燃費を算出する工程と、第二工程として排出ガス成分検査と定速燃費を測定してデーターを出す工程と、ネットワークを通じてデーターセンターに接続したワークステイションによりデーター処理をすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system for monitoring industrial processes, comprising sensor means for detecting one or more process quantities in at least one process station, acquisition and processing means operating on signals generated by the sensor means for obtaining information on process quality, and means for controlling the manufacturing flow operating on the basis of the information on process quality.例文帳に追加

少なくとも一つの処理ステーションでの一つ以上のプロセス量を検出するためのセンサ手段と、プロセス品質に関する情報を得るための前記センサ手段によって生成された信号で動作する取得及び処理の手段と、プロセス品質に関する前記情報に基づいて動作する製造フローを管理するための手段と、を備える工業プロセスをモニターするためのシステムを提供する。 - 特許庁

A liquid processing apparatus 10 comprises: a process fluid nozzle 65 provided above a wafer W and having a discharge port discharging a chemical to the wafer W; a process fluid supply mechanism 70 supplying the chemical to the process fluid nozzle 65; and a cover mechanism 60 covering the wafer W from above when the chemical is discharged to the wafer W by the process fluid nozzle 65.例文帳に追加

液処理装置１０は、ウエハＷの上方に設けられ、ウエハＷに薬液を吐出する吐出口を有する処理流体ノズル６５と、処理流体ノズル６５に薬液を供給する処理流体供給機構７０と、処理流体ノズル６５によりウエハＷに薬液が吐出される際にウエハＷを上方から覆うことができるカバー機構６０と、を備えている。 - 特許庁

A CPU 56 executes processing from the variation start of a first special pattern based on an entry to a first start winning port 13 to the stop of a stop pattern and processing from the variation start of a second special pattern based on an entry to a second start winning port 14 to the stop of a stop pattern by a common processing routine (special pattern process processing).例文帳に追加

ＣＰＵ５６が、第１始動入賞口１３への入賞にもとづく第１特別図柄の変動開始から停止図柄の停止までの処理と第２始動入賞口１４への入賞にもとづく第２特別図柄の変動開始から停止図柄を停止するまでの処理とを共通の処理ルーチン（特別図柄プロセス処理）で実行する。 - 特許庁

This particulate matter processing device is provided with a plasma processing device 10 for charging particulate matter in exhaust gas by atmospheric pressure plasma and a catalyst processing device 20 for inducing the charged particulate matter in the exhaust gas G2 fed into from the plasma processing device 10 into a catalyst layer 22 selectively by an applied electric field to decompose and process it by catalyst action in the catalyst layer 22.例文帳に追加

排ガス中の粒子状物質を大気圧プラズマにより荷電させるプラズマ処理装置１０と、プラズマ処理装置１０から送入される排ガスＧ２中の荷電した粒子状物質を、印加電界により選択的に触媒層２２に誘導して、触媒層２２の触媒作用によって分解処理する触媒処理装置２０を備える。 - 特許庁

To provide a wafer processing method that surely detects whether an unprocessed wafer is present, copes with irregular processing such as processing without a wafer, and prevents wafer loss such as transferring the unprocessed wafer to the next process, and also to provide a wafer processing system, and a method and system for manufacturing an epitaxial wafer.例文帳に追加

未処理のままのウェーハが存在するか否を確実に検出でき、また空処理等の不規則な処理にも対応することができ、従って未処理のウェーハを次工程へ送ってしまう等の損失を防止できるウェーハの処理システム及び処理システム並びにエピタキシャルウェーハの製造方法及びエピタキシャルウェーハの処理システムを提供する。 - 特許庁

A processing apparatuses configuration is provided which can simultaneously process three sides of a display panel substrate with a variety of sizes by arranging a work processing apparatus suitable for the three sides, making variable the width of a work processing means for two opposed, processed sides, and three-dimensionally arranging a supply means of supply parts in each work processing apparatus.例文帳に追加

３つの辺に対応した処理作業装置を配置するとともに、対向する２辺処理辺の処理作業手段の幅を可変可能とすることや、各処理作業装置へ供給部品の供給手段を立体的に配置することなどで、各種表示パネル基板サイズに対しても３辺を同時に処理することが可能な処理装置構成を提供する。 - 特許庁

In a substrate processing by the substrate processing apparatus, a hydrophobizing step (S101) for selectively hydrophobizing the peripheral edge of the main surface of the substrate and a liquid film forming step (S102) for supplying the processing liquid to the substrate which is horizontally held after the hydrophobizing process is performed and forming the liquid film of processing liquid covering the main surface of the substrate are performed.例文帳に追加

この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 - 特許庁

The information processing apparatus which can process multiple tasks in parallel with one unit processor, wherein processing time limits are respectively set for at least some of the multiple tasks, includes a hardware means for management of multiple processing time limits corresponding to those multiple tasks with processing time limits respectively set therefor among the multiple tasks.例文帳に追加

一単位のプロセッサによって複数のタスクを並行して処理可能な情報処理装置であって、前記複数のタスクの少なくとも一部には処理期限が設定され、前記複数のタスクのうち処理期限が設定された複数のタスクに対応した、複数の処理期限管理用ハードウエア手段を備えることを特徴とする、情報処理装置。 - 特許庁

The resin is a phenol resin or an epoxy resin, and the carbon material is exposed so that the upper face becomes an area ratio of 10 to 90% to the whole surface area of the upper face by at least one of blast process mechanical polishing processing, heating processing, plasma processing, and oxidant processing after forming the composition in a separator shape.例文帳に追加

また樹脂はフェノール樹脂またはエポキシ樹脂であり，上記の導電性樹脂組成物をセパレータ形状に成形した後，隔壁の上面を，ブラスト処理機械的研磨処理，加熱処理，プラズマ処理及び酸化剤処理の少なくとも１つにより隔壁上面の全表面積に対して10〜90％の面積比になるように炭素材料を露出させる。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING IMAGE DATA, METHOD FOR CODING IMAGE DATA, GRAPHICS CONTROLLER FOR PROCESSING IMAGE DATA, COMPUTER PROGRAM EMBODIED ON COMPUTER READABLE MEDIUM FOR PROCESSING IMAGE DATA, METHOD FOR ENABLING ELECTRONIC APPARATUS TO MORE EFFICIENTLY PROCESS IMAGE DATA, METHOD FOR EFFICIENTLY PROCESSING CAPTURED IMAGE DATA VIA APPARATUS AND IMAGE CAPTURING APPARATUS例文帳に追加

画像データを処理する方法、画像データを符号化する方法、画像データを処理するためのグラフィックス・コントローラ、コンピュータ読み取り可能な媒体に具現化された、画像データを処理するためのコンピュータ・プログラム、電子装置がより効率的に画像データを処理するための方法、装置を通して効率的に取り込み画像データを処理する方法および画像取り込み装置 - 特許庁

In a first input processing step of input processing from the outside to the image processing apparatus 1, a signal input unit 21 inputs a first part of a first luminance signal input from the outside that a prefilter 22 should process in the first input processing step to the prefilter 22, and stores the remaining second part in a storage unit 24.例文帳に追加

外部から画像処理装置１への第１の入力処理ステップにおいて、信号入力部２１は、外部から入力された第１の輝度信号のうち、第１の入力処理ステップにおいてプレフィルタ２２によって処理すべき第１部分をプレフィルタ２２に入力するとともに、残りの第２部分を記憶部２４に記憶する。 - 特許庁

On a manufacturing line provided with plural buffers 1-6 for temporarily storing processing lots, each process forms a device group including plural processors of the same kind and the waiting time from the processing completion of a processing lot up to its carrying-out is defined for every device group to be a carrying-out source of the processing lot and to be a carrying-out destination.例文帳に追加

一時的に処理ロットを保管するための複数のバッファ１〜６を備えた製造ラインにおいて、各工程は複数の同種の処理装置が設置された装置群を形成し、処理ロットの搬出元となる装置と搬出先となる装置群ごとに処理ロットが処理完了してから搬出されるまでの待機時間を定義付ける。 - 特許庁

A plurality of arithmetic processing units 2_n each comprising a PE (Processing Element) and a memory are one-dimensionally connected with each other, and a plurality of the processing units 2_n transfer a process packet wherein an instruction and required data are arranged for performing processing to detect the motion vector, that is, write of image data to the memory and calculation of difference absolute values among pixels.例文帳に追加

ＰＥ（Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｅｌｅｍｅｎｔ）とメモリからなる複数の演算処理ユニット２_ｎを一次元的に接続し、その複数の演算処理ユニット２_ｎにおいて、命令と必要なデータが配置されたプロセスパケットを転送させることにより、動きベクトルを検出するための処理、即ち、メモリへの画像データの書き込みや、画素どうしの差分絶対値の計算が行われる。 - 特許庁

To obtain a film-like polymeric material flattened with high accuracy by certainly correcting stripe-like undulation or wrinkle-like unevenness generated in the film-like polymeric material, during a process performing heat treatment such as a calender processing process or a drying process for a paint applied to the film-like polymeric material.例文帳に追加

カレンダー処理工程、あるいはフィルム状高分子材料上に塗布された塗料の乾燥工程等の熱処理が行われる工程中にフィルム状高分子材料に発生するストライプ状のうねりやシワ状の凹凸を確実に修正し、高精度に平坦化したフィルム状高分子材料を得る。 - 特許庁

The image processor 1 is provided with an image processing section 111 for executing a distortion correction process for an original image; a difference detection section 112 for detecting a region with movement from the image to which a correction process is applied; and a correlation calculation section 113 for executing the correlation process, regarding the region in which the movement is detected.例文帳に追加

画像処理装置１は、原画像に対して歪み補正処理を実行する画像処理部１１１と、補正処理の施された画像から動きのある領域を検出する差分検出部１１２と、動きの検出された領域について相関処理を実行する相関演算部１１３と、を備える。 - 特許庁

The improving processing method of a wound state of a magnetic tape comprises: a winding process in which the magnetic tape is wound on a tape reel of which the hub peripheral plane is formed in taper shape; a heat treatment process by which the magnetic tape wound by the winding process is heat-treated under a previously set heat treatment condition.例文帳に追加

本発明に係る磁気テープの巻き姿改善処理方法は、ハブ周面がテーパ状に形成されたテープリールに、磁気テープを巻き取る巻き取り工程と、前記巻き取り工程により巻き取られた磁気テープを、予め設定された熱処理条件下で熱処理を行う熱処理工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In constructing a system by processing of input information sent from the client side on a server side, a process to read data from the input information, a process to check the read data, and a process to store the checked data in a prescribed area are performed based on data items necessary for system construction.例文帳に追加

クライアント側から送られてきた入力情報をサーバ側にて処理してシステムを構築する際に、システムの構築に必要なデータ項目に基づいて、前記入力情報からのデータ取出し処理と、取り出したデータをチェックする処理と、チェックしたデータを所定の領域に格納する処理とを行う。 - 特許庁

The communication board is equipped with a target setting area 4, a priority process area 5 and a proper work-in-process area 6 to display target data indicating a production goal, priority processing data indicating lots to be processed with priority and differential data indicating a difference from a proper work-in-process quantity in respective steps on the single screen.例文帳に追加

そして、このコミュニケーションボードに目標設定エリア４、優先処理エリア５および適正仕掛かりエリア６を設けて、生産目標を示す目標データ、優先して処理すべきロットを示す優先処理データおよび各工程における適正仕掛かり量からのずれを示す差分データを一画面上に表示する。 - 特許庁

The processing of the molding surface can be completed by a shape creating process for forming the shape of the molding surface of the optical element of the mold 1, a smoothing process for smoothing the molding surface and a mirror surface grinding process for grinding the molding surface using the grindstone particles with a mean particle size of 10-150 nm without applying plating treatment to the molding surface.例文帳に追加

金型１の光学素子の成形面の形状を形成する形状創成工程と、成形面を平滑化するスムージング工程と、成形面を平均粒径１０〜１５０ｎｍの砥粒を用いて研磨する鏡面研磨工程により成形面の加工においてメッキ処理を省略して完成させることができる。 - 特許庁

In the processing apparatus in which a lithographic printing plate coated with a photosensitive material subjected to image formation with an FM screen or a high-definition AM screen is processed through at least a developing process and a washing process in order, the lower roller 62B of a pair of inlet rollers 62 present at the inlet of the washing process 10 has projected and recessed parts and grooves.例文帳に追加

ＦＭスクリーンまたは高精細ＡＭスクリーンで画像形成する感光材料が塗設された平版印刷版を少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に処理する処理装置において、水洗プロセス１０の入口にある一対の入口ローラ６２の下ローラ６２Ｂに凹凸部または溝を設けた。 - 特許庁

A silicon substrate processing method, wherein hydrogen is introduced from the surface of a silicon substrate to inactivate the defect of the silicon substrate, comprises a process for heating the silicon substrate, a process for quickly cooling the silicon substrate, and a process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

本発明のシリコン基板の処理方法は、シリコン基板の表面から水素を導入し、シリコン基板の欠陥を不活性化する処理方法であって、シリコン基板を加熱する工程と、シリコン基板を急冷する工程と、シリコン基板の表面に水素を照射する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a calibration control apparatus and a calibration control method that can reduce processing time for applicability to practical use by carrying out a simple calibration using the result of a previous calibration process in response to a request for a re-calibration process after a calibration process.例文帳に追加

この発明は、キャリブレーション処理後の再キャリブレーション処理要求に対して、前の処理結果を利用した簡易キャリブレーション処理を行なって処理時間の短縮を図り、実用に適するようにしたキャリブレーション処理制御装置及びキャリブレーション処理制御方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

This resist pattern formation method includes a process for forming a lower-layer film (103) having polymer containing fluorine on a wafer substrate (101), a process for forming a resist film (104) on the lower-layer film, and a process for allowing the resist film to be subjected to pattern exposure and processing for obtaining the resist pattern (105).例文帳に追加

ウェハー基板（１０１）上に、フッ素含有ポリマーを含む下層膜（１０３）を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜（１０４）を形成する工程と、前記レジスト膜に対しパターン露光および現像処理を施して、レジストパターン（１０５）を得る工程とを具備するレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the epitaxial wafer at least comprises a heat treatment process conducting heat treatment for a silicon single crystal in ingot state, a wafer processing process wherein the heat-treated ingot is sliced into wafers with mirror surface, and an epitaxial growth process wherein an epitaxial layer is formed on the wafers.例文帳に追加

エピタキシャルウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行なう熱処理工程と、前記熱処理したインゴットを鏡面状のウエーハに加工するウエーハ加工工程と、前記ウエーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル成長工程を有するエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁

This method for processing a kale comprises an adding process where kojic acid (2-hydroxymethyl-5-hydroxy-γ-pyrrone) and a calcium compound are added to the kale, and a crushing process where the kale is ground either simultaneously with or after the adding process.例文帳に追加

本発明は、ケールの加工方法であって、ケールに、コウジ酸（Ｋｏｊｉｃ ａｃｉｄ；２−ヒドロキシメチル−５−ヒドロキシ−γ−ピロン）およびカルシウム化合物を添加する添加工程と、この添加工程と同時およびこの添加工程の後のうち少なくともいずれかの時期に、ケールを粉砕する粉砕工程と、を包含する。 - 特許庁

On the basis of previously given production information, passage process information and cost information (S1), a reduction amount (loss amount in each process) in the amount of material resources before and after processing is calculated as a yield drop (S3) and registered as a loss appeal amount in all upper processes including the process concerned (S4).例文帳に追加

事前に与えられた生産量情報、通過工程情報、コスト情報（Ｓ１）に基づいて、各製品の工程毎に、歩留り落ちとして加工前後の物量の減少量（工程別損失量）を算出し（Ｓ３）、当該工程を含む上工程の全てに対して上工程での損失訴求量として登録する（Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a film for a heat-resistant tape substrate suitable for high-precision processing, which has excellent dimensional stability in a roll-to-roll production process, and exhibits high dimensional stability even in the case of using the film obtained by the roll-to-roll process as a heat-resistant tape for mounting or masking e.g. in a capacitor production process.例文帳に追加

ロールツーロール製造工程で優れた寸法安定性を有するとともに、ロールツーロール法で得られたフィルムを例えばコンデンサ製造工程で実装やマスキングを行う際の耐熱テープとして使用する場合にも高い寸法安定性を有する、高精度加工に適した耐熱テープ基材フィルムを提供する。 - 特許庁

History data in each function used for a user are stored, and when succeeding starting processing, a decision process (S111, S112) for deciding the initialization order of functions and the existence of initialization and an initialization process (S112) for initializing the functions according to the decided results of the decision process are executed on the basis of the history data.例文帳に追加

ユーザが使用した機能毎の履歴データを記憶し、次回起動処理時に、前記履歴データに基づき、機能の初期化順序と初期化の有無を決定する決定工程（Ｓ１１１・Ｓ１１２）と、前記決定工程の結果に従って前記機能を初期化する初期化工程（Ｓ１１２）とを実施する。 - 特許庁

In the developing method having a developing process for processing a resist irradiated with energy beam with a developer, a rinse process for replacing the developer with a rinse liquid and a drying process for drying the rinse liquid, the surface tension of the rinse liquid is controlled to ≤45 dyne/cm.例文帳に追加

エネルギービームが照射されたレジストを現像液で処理する現像工程、前記現像液をリンス液に置換するリンス工程、および前記リンス液を乾燥する乾燥工程を有する現像方法において、前記リンス液の表面張力が４５ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする現像方法とした。 - 特許庁

A method for processing an optical member comprises a connecting process for joining contacting members 1, 3 having diameters larger than a finished outer diameter of the optical member 2 to the optical member, and a grinding process for simultaneously grinding joined parts of the optical member 2 and the contacting members 1, 3 connected in the connecting process with a grinding tool 4.例文帳に追加

光学部材の加工方法において、光学部材２の仕上がり外径より大きな外径を備えた当接部材１、３を光学部材２に接合する接合工程と、該接合工程で接合された光学部材２と当接部材１、３との接合部を研削工具４により同時に研削する研削工程とを具備した。 - 特許庁

A solid food organic waste treating method includes a cutting process S11 for cutting solid waste such as a stalk of broccoli produced in the food processing factory to obtain minute waste pieces of 3 to 5 mm size, a grinding process S12 for grinding the waste pieces to obtain paste of 150 μm size and a heating process S13 for heating the waste paste to a sol state.例文帳に追加

食品加工工場で発生するブロッコリーの茎などの固形廃棄物を裁断して３〜５mmの大きさの細かな廃棄物片にする裁断工程S11と、廃棄物片が１５０μmになるまで磨り潰してペースト状にする摩砕工程S12と、廃棄物ペーストを加熱してゾル状態にする加熱工程S13とを含む。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a process chamber having a substrate holder supporting a procesing substrate, a dielectric tube installed at the upper part of the process chamber so as to be communicated with the interior of the process chamber, a helical coil wound around the dielectric tube, and an RF power source for feeding RF power to the helical coil.例文帳に追加

処理基板を支持する基板ホルダーを有する工程チャンバーと、工程チャンバーの内部と連通されるように工程チャンバーの上部に設置される誘電体管と、誘電体管の周りに巻かれた螺旋コイルと、螺旋コイルにＲＦ電力を供給するためのＲＦ電源と、を備えるプラズマ処理装置である。 - 特許庁

A method for manufacturing a multi-layer circuit wiring board laminating the film having a conductor layer with an adhesive comprises a process for heat-processing the surface of the film in a non-oxidation gas phase atmosphere in preferably residual oxygen concentration of 0.5 % or less, a process for performing plasma treatment, and a process for laminating by the adhesive.例文帳に追加

導体層を有するフィルムを接着剤により積層する多層回路配線板の製造方法において、少なくとも、フィルム表面を好ましくは残留酸素濃度０．５％以下の非酸化性気相雰囲気中で熱処理する工程、プラズマ処理を行う工程、接着剤により積層する工程、を具備する。 - 特許庁

A server 101 receives warning information on an edit process generated when the edit process does not satisfy a preset condition is performed and edit data generated by the edit process at the time of edit processing, and associates with each other and registers the warning information and edit data.例文帳に追加

サーバ１０１は、データ編集処理時に所定の条件を満たしていない編集処理がなされた場合に生成される当該編集処理に係る警告情報とともに、前記データ編集処理により生成された編集データを受信し、前記警告情報と前記編集データとを対応付けて登録する。 - 特許庁

That is, when the ECU emulator or each physical device simulator is called as a logical process, any critical path is not created, and each logical process is executed in parallel as much as possible, and even when any input event is not delivered in each logical process, the input is predicted, and the processing is advanced.例文帳に追加

すなわち、ここで、ＥＣＵエミュレータや各物理装置シミュレータを論理プロセスと呼ぶことにすると、本発明によれば、クリティカル・パスを作らずに、各論理プロセスをできるだけ並列に実行させるために、各論理プロセスにおいて、入力イベントが届いていない場合でも、入力を予測して処理が進められる。 - 特許庁

They are (i) an ICA feature obtained by processing the observed audio data, (ii) a 1st MFCC feature obtained by removing a logarithm process from a conventional MFCC process, and (iii) a 2nd MFCC feature obtained by applying an ICA process to a result of a Mel-scale filter bank.例文帳に追加

（ｉ）観察されたオーディオデータを処理することによって得られたＩＣＡ特徴、（ｉｉ）従来のＭＦＣＣ処理から対数処理を除去することによって得られた第１のＭＦＣＣ特徴、又は（ｉｉｉ）メル尺フィルタバンクの結果にＩＣＡ処理を適用することによって得られた第２のＭＦＣＣ特徴。 - 特許庁

And a process where the metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where a wiring part 8 is formed by a semi-additive method on the insulation layer 5 and a process where a resist image for processing the insulation layer 5 is formed and the insulation layer 5 is processed by wet etching according to the resist image are included in the method.例文帳に追加

そして、金属層５をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層５上にセミアディティブ法により配線部８を形成する工程と、絶縁層５を加工するためのレジスト画像を形成し、当該レジスト画像に従ってウェットエッチングにより絶縁層５を加工する工程を含む。 - 特許庁

To provide a processor capable of carrying out a series of processes including a resist application and a development process after exposed for a processing substrate at a high throughput including the pre-process and the post-process, and to provide another processor capable of additionally reducing a foot-print as much as possible.例文帳に追加

被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像処理を含む一連の処理を、その前工程および後工程を含めて高スループットで行うことができる処理装置を提供すること、およびこれに加えて、フットプリントを極力小さくすることができる処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus in which at least one process of development, bleaching, fixing, cleaning or the like is carried out by introducing a photosensitive material such as photographic paper into tanks and immersing the material in a process liquid, and in particular, to reduce waiting time until outputting the first sheet and to prevent process irregularity.例文帳に追加

印画紙などの感光材料が槽内に取込まれ、処理液に浸漬されることで、現像・漂白・定着・洗浄などの内の少なくとも１つの処理を行うようにした写真処理装置において、１枚目を出力するまでの待ち時間を短縮するとともに、処理むらの発生を防止する。 - 特許庁

This freeform paste processing system includes: a process (S110) for selecting at least one display content by instructions of a user; a process (S170) for deciding a position specified by the user by use of the freeform; and a process (S190) for pasting the selected content to the position specified by the freeform.例文帳に追加

ユーザの指示により少なくとも１つの表示コンテンツを選択する工程（Ｓ１１０）と、フリーフォームを用いてユーザによって指定された位置を決定する工程（Ｓ１７０）と、選択されたコンテンツをフリーフォームによる指定位置にペーストする工程（Ｓ１９０）とを含む、フリーフォームを用いたペースト処理システム、方法及びプログラムである。 - 特許庁